【技术实现步骤摘要】
本申请涉及电子设备透明盖板制备工艺的，具体是涉及一种电子设备、显示屏组件、透明盖板及其制备方法。
技术介绍
1、ar(anti-reflection，减反膜，也叫增透膜)膜是光学镜片中常用的一种镀膜膜层结构，光学镜片ar膜常用的镀膜工艺为：依次沉积形成高、低折射率交替的多层膜(一般4～9层)，常用的方法是在镜片基板表面镀膜上多层高、低折射率的光学膜层，通过光学干涉相消，膜层厚度适当时，在薄膜的两个面上反射的光，光程差刚好等于半个波长，因而互相抵消。减少了光的反射损失，增强了透光度。通过多层叠加干涉达到减反效果；叠层结构示意图如图1，图1是一种常规技术方案的减反膜层叠结构。图中h表示高折射率的膜层，l表示低折射率的膜层，b表示基板层。
2、上述方案的实现，需要如下参数。(1)在光学基板b上镀膜多层结构高(h)低(l)折射率干涉膜，一般膜层厚度控制在200nm～500nm。(2)在光学基板b上蒸发、溅射等工艺沉积光学镀膜涂层，实现干涉相消的减反射效果。其中光学镀膜层中通常包含低折射率材料层(l)和高折射率材料层(h)，高低折射率材料交替叠加。光学镀膜层的总厚度一般大于200nm，小于500nm；形成完整产品。
3、然而上述方案的缺点也非常明显。首先是，其光学镀膜层中高折射率材料和低折射率材料交替，镀膜厚度相对较高，镀膜时间长，生产效率和良率综合成本较高；另外，像蓝宝石这种超硬基材表面采用上述方案镀ar膜，由于其膜厚(大于200nm，小于500nm)较大，因此表面硬度下降明显，膜层抗划伤能力显具下降，很难做到表
技术实现思路
1、本申请实施例第一方面提供了一种具有无界面连续变化折射率透明盖板的制备方法，所述制备方法包括：
2、提供一基板；
3、利用磁控溅射在所述基板表面形成具有无界面连续变化折射率的减反膜层；
4、其中，所述利用磁控溅射在所述基板表面形成具有无界面连续变化折射率的减反膜层的步骤包括：同时采用第一靶材和第二靶材在所述基板的同一表面进行溅射；在溅射过程中，所述第一靶材的溅射功率逐渐递减，所述第二靶材的溅射功率逐渐递增。
5、第二方面，本申请实施例提供一种透明盖板，所述膜片包括基板以及设于所述基板表面的具有无界面连续变化折射率的减反膜层。
6、第三方面，本申请实施例提供一种显示屏组件，所述显示屏组件包括显示屏模组以及上述实施例中所述的透明盖板，所述透明盖板盖设于所述显示屏模组的出光面一侧。
7、另外，本申请实施例又提供一种电子设备，所述电子设备包括壳体、控制电路板以及上述实施例中所述的显示屏组件；其中，所述显示屏组件的透明盖板与所述壳体配合形成容纳空间，所述控制电路板以及所述显示屏组件的显示屏模组设于所述容纳空间内，所述控制电路板与所述显示屏模组耦合连接，并用于控制所述显示屏模组的工作状态。
8、本申请实施例提供的具有无界面连续变化折射率透明盖板的制备方法，通过同时采用第一靶材和第二靶材在所述基板表面进行溅射；在溅射过程中，第一靶材的溅射功率逐渐递减，而第二靶材的溅射功率逐渐递增的方式可以在基板上形成无界面连续变化折射率的减反膜层，该减反膜层具有厚度小，硬度高的特点；且该制备方法的工艺简单，可以提高透明盖板的良率以及生产效率且降低生产成本。
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1.一种具有无界面连续变化折射率透明盖板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一靶材为高折射率材料靶材，所述第二靶材为低折射率材料靶材。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一靶材的材料选自铝、铌、锆中的任意一种；所述第二靶材的材料为硅。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一靶材的溅射初始功率大于所述第二靶材的溅射初始功率；所述第一靶材的溅射功率线性递减，所述第二靶材的溅射功率线性递增。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：在所述减反膜层上镀设形成防指纹层。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述基板的材质为蓝宝石玻璃。
7.一种透明盖板，其特征在于，所述膜片包括基板以及设于所述基板表面的具有无界面连续变化折射率的减反膜层。
8.根据权利要求7所述的透明盖板，其特征在于，所述透明盖板还包括设于所述减反膜层表面的防指纹层。
9.一种显示屏组件，其特征在于，
10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括壳体、控制电路板以及权利要求9所述的显示屏组件；其中，所述显示屏组件的透明盖板与所述壳体配合形成容纳空间，所述控制电路板以及所述显示屏组件的显示屏模组设于所述容纳空间内，所述控制电路板与所述显示屏模组耦合连接，并用于控制所述显示屏模组的工作状态。
...【技术特征摘要】
1.一种具有无界面连续变化折射率透明盖板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一靶材为高折射率材料靶材，所述第二靶材为低折射率材料靶材。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一靶材的材料选自铝、铌、锆中的任意一种；所述第二靶材的材料为硅。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一靶材的溅射初始功率大于所述第二靶材的溅射初始功率；所述第一靶材的溅射功率线性递减，所述第二靶材的溅射功率线性递增。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：在所述减反膜层上镀设形成防指纹层。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述基板的材质...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢湘武，陈智顺，李晓波，
申请(专利权)人：深圳市锐尔觅移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：
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