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【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于电镀金,具体涉及一种多配位剂无氰电镀金镀液及其电镀金方法。
技术介绍
1、无氰电镀是指用非氰化物电解液代替剧毒的氰化物电解液的电镀新工艺。生产上已广泛应用的有焦磷酸盐电镀铜,铵盐电镀锌,锌酸盐电镀锌,焦磷酸盐电镀锌镍铁三元合金等。此外,还应用疏代硫酸盐电镀银,氨羧络合剂-铵盐电镀镉,焦磷酸盐电镀铜锡合金等以及其他一些无氰电镀工艺。无氰电镀可避免工人受氰化物毒害和污染环境。
2、在公开号为cn116555849a的中国专利中,提到了一种半导体无氰电镀金镀液制备方法,涉及半导体电镀的
,包括以下步骤:步骤一、原料选择:首先准备金的无机盐、主络合剂、辅络合剂、开缸剂、调和剂、加强剂和氨水;步骤二、原料混合:取开缸剂,将开缸剂进行加热,加热至一定温度后,然后一边加入金的无机盐一边搅拌,随后加入主络合剂、辅络合剂和加强剂混合,再次持续进行加热。本专利技术通过设置的主络合剂、辅络合剂和加强剂,主络合剂和辅络合剂的混合配合能够初步增强电镀液的络合效果,然后再次添加加强剂进行混合,使其络合效果更强,避免在电镀液使用的过程中因为络合性不佳的问题而影响到电镀质量和速度,降低了次品产生概率,提高了电镀液的稳定性。
3、本申请人在申请过程中发现,上述申请存在缺陷,该申请公开的镀液中存在无机盐、主辅络合剂、调和剂、加强剂及氨水,该申请虽然使用多种络合剂和加强剂混合在一起加强了电镀液的质量和稳定性,但是该电镀液镀金工件表面镀金层在后续热处理过程中容易发生重结晶导致晶粒变大,进而导致镀金层的硬度明显降低。
< ...【技术保护点】
1.一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于,包括以下重量份原料:
2.根据权利要求1所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述含金盐选用氯化金盐或者亚硫酸金盐。
3.根据权利要求2所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述主配位剂包括5,5-二甲基乙内酰脲、焦亚玲酸钠、乙内酰脲、柠檬酸铵、硫代硫酸盐、乙二胺、巯基苯磺酸、硫脲中的一种或者多种。
4.根据权利要求3所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述辅配位剂包括柠檬酸盐、酒石酸盐、磷酸盐、EDTA中的一种或者多种。
5.根据权利要求4所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述PH调节剂包括磷酸二氢钠、磷酸氢二钠、碳酸钠、氢氧化钠中的一种或者多种。
6.根据权利要求5所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述添加剂包括表面活性剂、光亮剂、稳定剂、抗氧化剂中的一种或者多种。
7.根据权利要求6所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述镀液中还包括乙二胺四乙酸、丁炔二醇和氨基酸。
8.一种使用权利要求1
...【技术特征摘要】
1.一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于,包括以下重量份原料:
2.根据权利要求1所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述含金盐选用氯化金盐或者亚硫酸金盐。
3.根据权利要求2所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述主配位剂包括5,5-二甲基乙内酰脲、焦亚玲酸钠、乙内酰脲、柠檬酸铵、硫代硫酸盐、乙二胺、巯基苯磺酸、硫脲中的一种或者多种。
4.根据权利要求3所述的一种多配位剂无氰电镀金镀液,其特征在于:所述辅配位剂包括柠檬酸盐、酒石酸盐、磷酸盐、edta中的一种或者多种。
【专利技术属性】
技术研发人员:李京波,张梦龙,王彤,任长友,邓川,
申请(专利权)人:深圳市联合蓝海应用材料科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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