System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种保持硅晶片干燥的光刻机制造技术_技高网

一种保持硅晶片干燥的光刻机制造技术

技术编号:41127764 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-30 17:56
本发明专利技术公开了一种保持硅晶片干燥的光刻机,包括机体、安装支架、激光光路设备、掩模台、掩模板、透镜、集流板、旋转干燥组件、物料吸附机构、伺服电机、转盘和硅晶片本体,所述机体的上端边缘焊接有安装支架,所述安装支架的顶部设置有激光光路设备,所述安装支架上固定连接有掩模台,所述掩模台内放置有掩模板,所述掩模台的底部设置有透镜,所述安装支架上设置有集流板,所述集流板通过导线与透镜电性连接,所述透镜的外部设置有旋转干燥组件,本发明专利技术涉及一种保持硅晶片干燥的光刻机,具有效率高以及干燥效果好的特点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于小型光刻机,具体为一种保持硅晶片干燥的光刻机


技术介绍

1、光刻机,是生产大规模集成电路的核心设备,一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序,通过光刻工艺可以实现将电路刻于硅晶片上,实现半导体电路的集成制作。比如公告号为cn208224716u的技术专利公开了一种自动光刻机,包括台架,台架上设有步进转动的转盘,转盘四周均布有若干工装台,工装台上固定有若干工装;台架后方设有曝光机,曝光机设置在转盘旋转停止的工装上方;台架一侧设有支架,支架末端伸入到台架前方,支架上设有显微放大镜和显示屏。

2、但是硅晶片本体在清洗后,仍然存在一定的水汽,会影响其光刻的效果,而且硅晶片本体实际生产过程中,等待光刻后才能进行重新上下料,其过程是比较浪费时间,效率较低。因此,需要设计一种保持硅晶片干燥的光刻机。


技术实现思路

1、本专利技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种保持硅晶片干燥的光刻机,解决了上述
技术介绍
中提到的问题。

2、为了解决上述问题,本专利技术提供了一种技术方案:

3、一种保持硅晶片干燥的光刻机,包括机体、安装支架、激光光路设备、掩模台、掩模板、透镜、集流板、旋转干燥组件、物料吸附机构、伺服电机、转盘和硅晶片本体,所述机体的上端边缘焊接有安装支架,所述安装支架的顶部设置有激光光路设备,所述安装支架上固定连接有掩模台,所述掩模台内放置有掩模板,所述掩模台的底部设置有透镜,所述安装支架上设置有集流板,所述集流板通过导线与透镜电性连接,所述透镜的外部设置有旋转干燥组件;

4、所述机体的内侧底部设置有伺服电机,所述伺服电机的输出轴上通过螺栓安装有连接轴,所述连接轴与机体转动连接,所述连接轴的顶部固定连接有转盘,所述转盘与机体转动连接,所述转盘内设置有物料吸附机构,所述机体的底部焊接有支脚。

5、作为优选,所述转盘上安装有滚珠,所述滚珠与机体的内表面接触。通过滚珠的设置,可以减少转盘在机体内转动。

6、作为优选,所述旋转干燥组件包括罩壳、扰流罩、包套、固定杆、输气管、环槽、通孔、齿轮环、固定板、电动机、驱动齿轮、限位销、环形凹槽、弹簧、拨杆,所述透镜的外部转动连接有罩壳,所述罩壳的内侧固定连接有扰流罩,所述罩壳的外部转动连接有包套,所述包套上固定连接有固定杆,所述固定杆远离包套的一端与安装支架固定连接,所述安装支架内固定连接有输气管,所述输气管贯穿包套且接入罩壳内,所述罩壳的外部固定连接有齿轮环,所述安装支架上固定连接有固定板,所述固定板的底部设置有电动机,所述电动机的输出轴上固定连接有驱动齿轮,所述驱动齿轮与齿轮环啮合。经过加压、加热后的惰性气体通过输气管输送到罩壳的环槽内,然后通过各个通孔排出,然后经过扰流罩的导向后吹淋在当前位于透镜下方的硅晶片本体上,对其进行干燥,而且电动机会通过驱动齿轮和齿轮环的传导后,带动罩壳在透镜的外部转动,从而可以对硅晶片本体进行旋转干燥,干燥效果较好。

7、作为优选,所述罩壳上开设有环槽和通孔,所述环槽和通孔相通通。通过环槽和通孔的设置,便于输气管将罩壳的内侧均匀送气。

8、作为优选,所述罩壳内滑动连接有限位销,所述限位销与透镜滑动连接,所述罩壳内设置有弹簧,所述弹簧的一端与限位销固定连接,所述弹簧的另一端固定连接于罩壳的内表面,所述限位销上固定连接有拨杆,所述拨杆与罩壳滑动连接。通过拨杆拉动限位销,使得限位销从透镜内离开,即可将罩壳从透镜上拆卸下来。

9、作为优选,所述透镜的表面开设有有环形凹槽,所述环形凹槽与限位销滑动连接。通过环形凹槽的设置,与限位销配合,不仅不影响罩壳在透镜外部的转动,而且对罩壳在透镜上具有垂直方向的位移。

10、作为优选,所述物料吸附机构包括电动推杆、活塞、密封圈、胶圈、限位套,所述转盘内设置有电动推杆,所述电动推杆的伸缩杆上固定连接有活塞,所述活塞与转盘滑动连接,所述转盘的上端固定连接有胶圈,所述胶圈上放置有硅晶片本体,所述转盘的上端固定连接有限位套,所述限位套与硅晶片本体滑动连接。电动推杆带动活塞在转盘内向下滑动,从而使得活塞和硅晶片本体间的空气变成负压,从而将硅晶片本体吸附在胶圈上,使其在加工过程中保持稳定,不易加工错位,提高产品的合格率。

11、作为优选,所述活塞的外部嵌入有密封圈,所述密封圈与转盘的内表面接触。通过密封圈的设置,可以增加活塞与转盘间密封性。

12、本专利技术的有益效果是:本专利技术涉及一种保持硅晶片干燥的光刻机,具有效率高以及干燥效果好的特点,在具体的使用中,与现有技术相比较而言,本小型光刻机具有以下两个有益效果:

13、首先,通过设置一个由伺服电机驱动的转盘,转盘上设置物料吸附机构,利用电动推杆控制活塞的升降,可以对放置在胶圈上的硅晶片本体进行吸附,使其在加工过程中保持稳定,不易加工错位,提高产品的合格率,而且物料吸附机构设置有四组,这样可以同时容纳多个硅晶片本体的工装,这样,使得后续的硅晶片本体在加工和上下料间互不影响,提高生产效率;

14、其次,通过在光刻机的透镜外部设置旋转干燥组件,其中透镜的外部设置可拆装的罩壳,而且罩壳的外部设置齿轮环,这样,通过电动机和齿轮间的传动,可以使得罩壳在透镜的外部旋转,然后设置一个输气管,输气管的一端接入到经过加热后的惰性气体,而另一端则接入到罩壳内,并且通过罩壳上的环槽和通孔后排出,这样,可以位于透镜底部的硅晶片本体进行旋转干燥,干燥效果较好。

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【技术保护点】

1.一种保持硅晶片干燥的光刻机,包括机体(1)、安装支架(2)、激光光路设备(3)、掩模台(4)、掩模板(5)、透镜(6)、集流板(7)、旋转干燥组件(8)、物料吸附机构(9)、伺服电机(10)、转盘(12)和硅晶片本体(14),其特征在于:所述机体(1)的上端边缘焊接有安装支架(2),所述安装支架(2)的顶部设置有激光光路设备(3),所述安装支架(2)上固定连接有掩模台(4),所述掩模台(4)内放置有掩模板(5),所述掩模台(4)的底部设置有透镜(6),所述安装支架(2)上设置有集流板(7),所述集流板(7)通过导线与透镜(6)电性连接,所述透镜(6)的外部设置有旋转干燥组件(8);

2.根据权利要求1所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述转盘(12)上安装有滚珠(13),所述滚珠(13)与机体(1)的内表面接触。

3.根据权利要求1所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述旋转干燥组件(8)包括罩壳(81)、扰流罩(82)、包套(83)、固定杆(84)、输气管(85)、环槽(86)、通孔(87)、齿轮环(88)、固定板(89)、电动机(810)、驱动齿轮(811)、限位销(812)、环形凹槽(813)、弹簧(814)、拨杆(815),所述透镜(6)的外部转动连接有罩壳(81),所述罩壳(81)的内侧固定连接有扰流罩(82),所述罩壳(81)的外部转动连接有包套(83),所述包套(83)上固定连接有固定杆(84),所述固定杆(84)远离包套(83)的一端与安装支架(2)固定连接,所述安装支架(2)内固定连接有输气管(85),所述输气管(85)贯穿包套(83)且接入罩壳(81)内,所述罩壳(81)的外部固定连接有齿轮环(88),所述安装支架(2)上固定连接有固定板(89),所述固定板(89)的底部设置有电动机(810),所述电动机(810)的输出轴上固定连接有驱动齿轮(811),所述驱动齿轮(811)与齿轮环(88)啮合。

4.根据权利要求3所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述罩壳(81)上开设有环槽(86)和通孔(87),所述环槽(86)和通孔(87)相通。

5.根据权利要求3所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述罩壳(81)内滑动连接有限位销(812),所述限位销(812)与透镜(6)滑动连接,所述罩壳(81)内设置有弹簧(814),所述弹簧(814)的一端与限位销(812)固定连接,所述弹簧(814)的另一端固定连接于罩壳(81)的内表面,所述限位销(812)上固定连接有拨杆(815),所述拨杆(815)与罩壳(81)滑动连接。

6.根据权利要求3所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述透镜(6)的表面开设有有环形凹槽(813),所述环形凹槽(813)与限位销(812)滑动连接。

7.根据权利要求1所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述物料吸附机构(9)包括电动推杆(91)、活塞(92)、密封圈(93)、胶圈(94)、限位套(95),所述转盘(12)内设置有电动推杆(91),所述电动推杆(91)的伸缩杆上固定连接有活塞(92),所述活塞(92)与转盘(12)滑动连接,所述转盘(12)的上端固定连接有胶圈(94),所述胶圈(94)上放置有硅晶片本体(14),所述转盘(12)的上端固定连接有限位套(95),所述限位套(95)与硅晶片本体(14)滑动连接。

8.根据权利要求7所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述活塞(92)的外部嵌入有密封圈(93),所述密封圈(93)与转盘(12)的内表面接触。

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【技术特征摘要】

1.一种保持硅晶片干燥的光刻机,包括机体(1)、安装支架(2)、激光光路设备(3)、掩模台(4)、掩模板(5)、透镜(6)、集流板(7)、旋转干燥组件(8)、物料吸附机构(9)、伺服电机(10)、转盘(12)和硅晶片本体(14),其特征在于:所述机体(1)的上端边缘焊接有安装支架(2),所述安装支架(2)的顶部设置有激光光路设备(3),所述安装支架(2)上固定连接有掩模台(4),所述掩模台(4)内放置有掩模板(5),所述掩模台(4)的底部设置有透镜(6),所述安装支架(2)上设置有集流板(7),所述集流板(7)通过导线与透镜(6)电性连接,所述透镜(6)的外部设置有旋转干燥组件(8);

2.根据权利要求1所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述转盘(12)上安装有滚珠(13),所述滚珠(13)与机体(1)的内表面接触。

3.根据权利要求1所述的一种保持硅晶片干燥的光刻机,其特征在于:所述旋转干燥组件(8)包括罩壳(81)、扰流罩(82)、包套(83)、固定杆(84)、输气管(85)、环槽(86)、通孔(87)、齿轮环(88)、固定板(89)、电动机(810)、驱动齿轮(811)、限位销(812)、环形凹槽(813)、弹簧(814)、拨杆(815),所述透镜(6)的外部转动连接有罩壳(81),所述罩壳(81)的内侧固定连接有扰流罩(82),所述罩壳(81)的外部转动连接有包套(83),所述包套(83)上固定连接有固定杆(84),所述固定杆(84)远离包套(83)的一端与安装支架(2)固定连接,所述安装支架(2)内固定连接有输气管(85),所述输气管(85)贯穿包套(83)且接入罩壳(81)内,所述罩壳(81)的外部固定连接有齿轮环(88),所述安装支架(2)上固定连接有固定板(89),所述固定板(89...

【专利技术属性】
技术研发人员:张立周建红
申请(专利权)人:深圳市圭华智能科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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