【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体,具体的,涉及一种半导体晶圆涂胶用匀胶机。
技术介绍
1、半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,在半导体的制造过程中需使用匀胶及机对自身进行滴胶隔绝,有效阻隔空气、湿气、尘埃等对晶圆的侵蚀和污染,提高半导体器件的可靠性和稳定性。现有技术中,匀胶机在对晶圆滴胶时,是通过人工使用针管将胶水滴入滴胶盖中央的孔洞中,胶水从孔洞滴入内部的晶圆表面,这种方式较为繁琐,胶水若没有对准孔洞进行注射,胶水会流至箱盖表面,这样较为浪费胶水,且需多次对内部进行注射胶水;同时内部吸附盘在转动匀胶时,胶水容易甩至内部的侧面,影响箱内整洁。
技术实现思路
1、本技术提出一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,解决了现有技术中,匀胶机在对晶圆滴胶时,是通过人工使用针管将胶水滴入滴胶盖中央的孔洞中,胶水从孔洞滴入内部的晶圆表面,这种方式较为繁琐,胶水若没有对准孔洞进行注射,胶水会流至箱盖表面,这样较为浪费胶水,且需多次对内部进行注射胶水;同时内部吸附盘在转动匀胶时,胶水容易甩至内部的侧面,影响箱内整洁的问题。
2、本技术为一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,包括:
3、主体组件;
4、伸缩件,所述伸缩件贯穿于所述主体组件顶端;
5、滴胶件,所述滴胶件连接于所述主体组件顶端;
6、存放件,所述存放件设置于所述主体组件右侧;
7、连接件,所述连接件两端连接于一组伸缩件内侧之间;
8、防护件,所述防护件设置于所述主体组件内部。<
...【技术保护点】
1.一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述伸缩件(2)包括贯穿于主体组件(1)顶端的一组固定杆(21)、设置于固定杆(21)顶端的连接杆(22)、套接于固定杆(21)底部的伸缩杆(23);
3.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述主体组件(1)包括箱盖(11)、套接于箱盖(11)中央的滴胶盖(12)、连接于箱盖(11)下方的放置箱(13)、设置于放置箱(13)下方的箱体(14)、连接于箱体(14)正面的操作屏(15)、设置于放置箱(13)内部中央的吸附盘(16);
4.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述滴胶件(3)包括贯穿于滴胶盖(12)中央的滴管(31)、连接于滴管(31)顶端的软管(32);
5.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述存放件(4)包括连接于放置箱(13)右侧的存放箱(41)、设置于存放箱(41)正面的箱门(42)、连接于与存放箱(41)顶端的连接环(43
6.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述连接件(5)包括连接于伸缩杆(23)底端内侧的一组连接管(51)、设置于连接管(51)之间的固定环(52);
7.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述防护件(6)包括套接于放置箱(13)内部中央的防护环(61)、贯穿于防护环(61)四端边缘处的两组安装杆(62)、设置于防护环(61)与安装杆(62)下方贯穿处底部的安装环(63)、连接于安装杆(62)顶端中央的限位杆(64)、套接于限位杆(64)外围的活动环(65);
8.根据权利要求5所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述存放盒(44)前后端为斜坡状,软管(32)延伸至盒内底面。
...【技术特征摘要】
1.一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述伸缩件(2)包括贯穿于主体组件(1)顶端的一组固定杆(21)、设置于固定杆(21)顶端的连接杆(22)、套接于固定杆(21)底部的伸缩杆(23);
3.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述主体组件(1)包括箱盖(11)、套接于箱盖(11)中央的滴胶盖(12)、连接于箱盖(11)下方的放置箱(13)、设置于放置箱(13)下方的箱体(14)、连接于箱体(14)正面的操作屏(15)、设置于放置箱(13)内部中央的吸附盘(16);
4.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述滴胶件(3)包括贯穿于滴胶盖(12)中央的滴管(31)、连接于滴管(31)顶端的软管(32);
5.根据权利要求1所述的一种半导体晶圆涂胶用匀胶机,其特征在于,所述存放件...
【专利技术属性】
技术研发人员:王茂荣,
申请(专利权)人:江苏钰晶半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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