【技术实现步骤摘要】
本技术涉及永磁铁氧体磁瓦制造领域，具体为一种高弓高的上模结构。
技术介绍
1、磁瓦主要用在永磁直流电机中，与电磁式电机通过励磁线圈产生磁势源不同，永磁电机是以永磁材料产生恒定磁势源。永磁磁瓦代替电励磁具有很多优点，可使电机结构简单、维修方便、重量轻、体积小、使用可靠、用铜量少、铜耗低、能耗小。现有的永磁铁氧体磁瓦模具一般由模架上的凹模、上模、下模等组成，其中模架、上模和下模为强导磁材料，凹模为弱导磁材料，模具成型时在外加磁场作用下，磁力线主要经过模架、下凸模、成型坯体、上模及液压机，最终形成了闭合磁力线。
2、目前，对于弓高较高的磁瓦产品，生坯经过烧结后，有时会在磁瓦两侧轴向开裂，有时会在磨加工后发现开裂，造成成品率低，生产效率低下，增加了生产成本。磁瓦开裂很大一部分是由于磁瓦压制成型时候，磁瓦由于充磁取向和压制方向的影响导致磁瓦毛坯各部位的密度不均匀，形成了密度差，至此在密度差最大的位置形成开裂。尤其在弓高比较大的磁瓦产品，密度差距更大，所以引起开裂的现象更多。
3、湿压成型是一种常用的磁瓦成型方法，相较于干压成型而言，湿压成型因成型料浆含有水分，在磁场中成型时颗粒容易转向，所以能获得更高的取向度，获得的磁瓦性能也更好。
4、公开号为cn115512953a的一种大圆心角永磁铁氧体磁瓦成型装置及方法中，该技术是通过模具模腔中料浆含水量形成“两侧部位含水量高，中心部位含水量低”的分布，即大压缩比例区域采用高含水量料浆、小压缩比例区域采用低含水量料浆，压制结束时各区域的生坯密度理论上可趋向一致，
技术实现思路
1、本技术提供了一种高弓高的磁瓦上模结构，解决了上述技术中，对于高弓高的磁瓦产品，磁瓦由于充磁取向和压制方向的影响导致磁瓦毛坯各部位的密度不均匀且差距较大，生坯经过烧结后，由于生坯密度分布的剧烈波动，导致出现磁瓦两侧轴向开裂，或在磨加工后出现开裂，造成成品率低、生产效率低下、增加了生产成本的问题。
2、为解决上述问题，本技术提供如下技术方案：
3、一种高弓高的磁瓦上模结构，特征在于包括上模，所述上模的底面设有向顶面凹陷的弧形槽，且所述弧形槽中部的槽顶还设有向顶面凹陷的凹槽，所述上模顶面的两端设有对称分布的吸水孔。
4、所述弧形槽及凹槽均为截面为圆弧形的长槽结构，且所述凹槽与弧形槽平行，所述弧形槽贯通整个上模。凹槽的两端倒角处理。
5、对于高弓高的磁瓦产品，密度不均匀且差距大，容易使磁瓦产品两侧产生轴向开裂。
6、本技术主体为上模，且所述上模所设的弧形槽用于与产品磁瓦毛坯的上弧面配合，在弧形槽的中部顶端还设有凹槽，所述凹槽于增加毛坯中间位置的厚度，使压制的毛坯的密度更加均衡，从而减少密度差距，进而减少开裂导致的成品率低、生产效率低下、增加了生产成本的问题出现。
7、作为优选，所述上模顶面所设的吸水孔为若干对，且所述吸水孔以凹槽为中线对称分布设在上模顶面两端的中部，且同侧吸水孔间等距排列。所述吸水孔竖直贯通上模，且所述吸水孔包括相互贯通的出水段和吸水段，所述出水段靠近于上模顶面，吸水段靠近于弧形槽。由
技术介绍
得知，高弓高的磁瓦产品在成型时存在两侧密度低中间密度高导致密度差过大的问题，而吸水孔能使料浆能在压制时候流动起来，在挖入得凹槽内不排上吸水孔，吸水孔只分布在毛坯产品的两侧，密度最小的区间，使料浆多向毛坯的两侧流动，使两侧的密度增加，从而均匀密度，减少密度差距，进而减少磁瓦产品两侧轴向开裂的出现。
8、 作为优选，所述磁瓦毛坯的弦长为l，厚度为a，在上模所设凹槽的位置范围为 1/3 l至 2/5 l，凹槽的高度范围为 1/10 a至 1/12 a。可以根据产品的大小厚度适当的增减。
9、 作为优选，所述弧形槽的纵向尺寸为b，凹槽的纵向尺寸为b，且所述凹槽的纵向尺寸b小于弧形槽的纵向尺寸b，并且根据产品大小，凹槽的纵向尺寸b应小于弧形槽纵向尺寸b 0.8mm至1mm，即b﹤b。并且凹槽的两端倒角处理。因为当b＞b，凹槽在型腔外，会形成毛刺。
10、作为优选，所述吸水孔所设的出水段内径为吸水段的2-3倍，且孔深为吸水段的3-4倍。将吸水孔设计成内径较小的进水段和内径较大的出水段，能在保证吸水孔内水快速流动的前提下，使生坯脱模时吸水孔痕迹不明显。
11、与现有技术相比，本技术有益的效果是：
12、本技术通过模具上模重新设计，在弧形槽的槽顶中部增设凹槽，以增加毛坯中间位置的厚度，使压制的毛坯的密度更加均衡，从而减少密度差距，进而减少开裂导致的成品率低、生产效率低下、增加了生产成本的问题出现。
13、吸水孔只分布在毛坯产品的两侧，密度最小的区间，使料浆多向毛坯的两侧流动，使两侧的密度增加，从而均匀密度，减少密度差距，进而减少磁瓦产品两侧轴向开裂的出现。
14、通过凹槽和吸水孔的设计解决了高弓高磁瓦开裂的问题，较现有技术，适用于大规模生产，生产效率高且生产成本较低。
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1.一种高弓高的磁瓦上模结构，包括上模（1），其特征在于，所述上模的底面设有向顶面凹陷的弧形槽（1.3），且所述弧形槽中部的槽顶还设有向顶面凹陷的凹槽（1.2），所述上模顶面的两端设有对称分布的吸水孔（1.1）。
2.根据权利要求1所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，所述弧形槽（1.3）及凹槽（1.2）均为截面为圆弧形的长槽结构，且所述凹槽与弧形槽平行，所述弧形槽贯通整个上模（1）。
3.根据权利要求1所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，所述上模顶面所设的吸水孔（1.1）为若干对，且所述吸水孔以凹槽为中线对称分布设在上模顶面两端的中部，且同侧吸水孔间等距排列。
4.根据权利要求1所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，还包括磁瓦毛坯（4），所述磁瓦毛坯为截面为弧形的长条结构，且所述磁瓦毛坯的上弧面与上模所设弧形槽（1.3）匹配。
5. 根据权利要求4所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，所述磁瓦毛坯（4）的弦长为L，厚度为A，在上模所设凹槽（1.2）的位置范围为 1/3 L至 2/5 L，凹槽的高度范围为1/10 A至 1
6.根据权利要求1所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，所述弧形槽（1.3）的纵向尺寸为B，凹槽的纵向尺寸为b，且所述凹槽的纵向尺寸b小于弧形槽的纵向尺寸B。
7.根据权利要求1所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，所述吸水孔（1.1）竖直贯通上模（1），且所述吸水孔包括相互贯通的出水段（1.1.1）和吸水段（1.1.2），所述出水段靠近于上模顶面，吸水段靠近于弧形槽（1.3）。
8.根据权利要求3或7所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，所述吸水孔所设的出水段（1.1.1）内径为吸水段（1.1.2）的2-3倍，且孔深为吸水段的3-4倍。
9.根据权利要求1或2或3或5或6所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，凹槽（1.2）的两端倒角处理。
...【技术特征摘要】
1.一种高弓高的磁瓦上模结构，包括上模（1），其特征在于，所述上模的底面设有向顶面凹陷的弧形槽（1.3），且所述弧形槽中部的槽顶还设有向顶面凹陷的凹槽（1.2），所述上模顶面的两端设有对称分布的吸水孔（1.1）。
2.根据权利要求1所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，所述弧形槽（1.3）及凹槽（1.2）均为截面为圆弧形的长槽结构，且所述凹槽与弧形槽平行，所述弧形槽贯通整个上模（1）。
3.根据权利要求1所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，所述上模顶面所设的吸水孔（1.1）为若干对，且所述吸水孔以凹槽为中线对称分布设在上模顶面两端的中部，且同侧吸水孔间等距排列。
4.根据权利要求1所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，还包括磁瓦毛坯（4），所述磁瓦毛坯为截面为弧形的长条结构，且所述磁瓦毛坯的上弧面与上模所设弧形槽（1.3）匹配。
5. 根据权利要求4所述的高弓高的磁瓦上模结构，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：张筝，黄华为，卢晓强，邵杰栋，陈辉明，
申请(专利权)人：横店集团东磁股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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