System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind()
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及层叠体的制造方法。本申请基于2021年12月24日在日本申请的特愿2021-211072号主张优先权,并将其内容援用于本申请。
技术介绍
1、移动电话等电子产品使用柔性电路板。随着电子产品的小型化、高性能化、高速通信化,需要降低该柔性电路板在高频区域的传输损耗,导体损耗是传输损耗的主要原因之一,为了降低导体损耗,正在推进对平滑面的配线及高精细电路化。
2、作为柔性电路板,大多使用弯曲性、耐热性优异的聚酰亚胺树脂与传导率高的铜箔、镀铜的层叠体。作为聚酰亚胺树脂与铜箔的层叠体,有铜箔和聚酰亚胺树脂经由热塑性聚酰亚胺树脂热压接成的层压材料、在铜箔上涂布聚酰亚胺树脂前体的清漆并热固化成的铸造材料。对于通过镀铜制成的层叠体,在聚酰亚胺树脂表面进行无电解镀,然后进行电镀。
3、然而,层压材料和铸造材料虽然成本低,但为了确保铜和树脂基板的密合性,对铜箔进行了粗糙化。因此,难以将层压材料和铸造材料用于高频电路。另外,在进行镀铜的情况下,通过蚀刻等对聚酰亚胺树脂的镀铜侧的表面进行粗糙化。在这种情况下,也难以将其用于高频电路。
4、作为未对铜箔表面进行粗糙化的柔性电路板,专利文献1中公开了如下制造的柔性电路板,使催化剂担载于位于树脂基板表面上的分子接合剂后,进行无电解镀铜及电镀铜。
5、在专利文献2中,作为未对铜箔的表面进行粗糙化的柔性电路板,公开了在含有聚酰亚胺树脂的树脂膜的单面或两面的表面上,形成有含铬的密合力增强层、含镍或钼的铜扩散阻挡层及由铜或铜合金构成的导电层的柔性电路板。
...【技术保护点】
1.一种层叠体的制造方法,该层叠体具备树脂基材和设置于所述树脂基材上的金属层,所述制造方法具备:
2.如权利要求1所述的层叠体的制造方法,还具备:表面处理工序,向所述树脂基材的所述面导入含氧官能团或含氮官能团。
3.如权利要求2所述的层叠体的制造方法,其中,所述表面处理工序具备羟基修饰工序,向所述树脂基材的所述面导入作为含氧官能团的羟基。
4.如权利要求3所述的层叠体的制造方法,其中,所述羟基修饰工序为电晕处理或氧气导入等离子体。
5.如权利要求2所述的层叠体的制造方法,其中,所述表面处理工序具备氨基修饰工序,向所述树脂基材的所述面导入作为含氮官能团的氨基。
6.如权利要求5所述的层叠体的制造方法,其中,所述氨基修饰工序为等离子体处理。
7.如权利要求1所述的层叠体的制造方法,其中,构成所述树脂基材的树脂为选自由环氧树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯硫醚、聚四氟乙烯、硅橡胶、环烯烃聚合物、聚苯乙烯及液晶聚合物所组成的组中的一种。
8.如权利要求1~7中任一项所述的层叠体的制造方法,还具备:催化剂担载工序,在
9.如权利要求8所述的层叠体的制造方法,还具备:无电解镀工序,在担载有所述催化剂的所述分子接合层的表面,通过无电解镀形成金属层。
10.如权利要求9所述的层叠体的制造方法,还具备:电镀工序,通过对在所述无电解镀工序中形成的所述金属层进行电镀,从而增厚所述金属层。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种层叠体的制造方法,该层叠体具备树脂基材和设置于所述树脂基材上的金属层,所述制造方法具备:
2.如权利要求1所述的层叠体的制造方法,还具备:表面处理工序,向所述树脂基材的所述面导入含氧官能团或含氮官能团。
3.如权利要求2所述的层叠体的制造方法,其中,所述表面处理工序具备羟基修饰工序,向所述树脂基材的所述面导入作为含氧官能团的羟基。
4.如权利要求3所述的层叠体的制造方法,其中,所述羟基修饰工序为电晕处理或氧气导入等离子体。
5.如权利要求2所述的层叠体的制造方法,其中,所述表面处理工序具备氨基修饰工序,向所述树脂基材的所述面导入作为含氮官能团的氨基。
6.如权利要求5所述的层叠体的制...
【专利技术属性】
技术研发人员:平原英俊,桑静,会泽纯雄,
申请(专利权)人:国立大学法人岩手大学,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。