【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及金属有机配合物，具体为一种混配型酰胺基钆配合物及其制备方法和应用。
技术介绍
1、随着集成电路的飞速发展，sio2作为传统的栅介质将不能满足金属-氧化物-半导体场效应管（mosfet）器件高集成度的要求，需要一种新型高k材料来代替传统的sio2，这就要综合考虑以下几个方面的问题：①具有高介电常数、高的势垒和能隙；②在si上有良好的热稳定性；③非晶态栅介质更理想；④具有良好的界面质量；⑤与si基栅兼容；⑥处理工艺的兼容性；⑦具有良好的可靠性和稳定性。
2、目前被广泛研究用来替代传统sio2栅极氧化物的高k材料主要有以下几种：al2o3、zro2、hfo2、 (hfo2)x(al2o3)1-x、gd2o3、pr2o3、y2o3、gd2o3和nd2o3等等。其中研究最多是zro2、hfo2和它们相关的硅化物。稀土氧化物由于具有高势垒和能隙(pr2o3~3.9, gd2o3~5.6ev)、高介电常数(gd2o3k=16, gd2o3k=30, pr2o3k=26–30)，以及在硅底物上优良的热力学稳定三大优点，最近也引起了人们极大的兴趣。
3、目前科学工作者研究用于ald技术的前驱体主要有以下几类：(a) 烷氧基配合物如：配体为1-甲氧基-2-甲基-2-丙醇；(b) β–二酮配合物如：配体为2,2,6,6-四甲基-庚二酮；(c) 有机胺配合物如：配体为六甲基二硅氮烷；(d) 脒基配合物如：配体为苯甲脒型化合物；(e)环戊二烯型配合物，如：配体为环戊二烯。
4、
5、 虽然众多
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种混配型酰胺基钆配合物及其制备方法和应用，目的是提供一系列对衬底的污染小、合成方法简便，工艺操作简单，产率高，成本低的混配型酰胺基钆配合物的合成方法。此系列制备方法，易于合成，毒性低，简单易操作等特点。
2、为了达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案是：
3、首先，本专利技术提供一种混配型酰胺基钆配合物，其结构通式为：
4、
5、其中：
6、m =gd；n= 1或2；
7、 r1=ch3，ch2ch3，异丙基，叔丁基，环己基，苯基，环戊基或环戊二烯基；
8、 r2= h，ch3，ch2ch3，异丙基，叔丁基，环己基，苯基，环戊基或环戊二烯基；
9、r3= -n(ch2ch3)2，-n(ch2ch3)ch3，-n(ch3)2或-n(sime3)2。
10、其次，本专利技术提供一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其技术路径为，
11、
12、其中：
13、m =gd；m1= k，na或li； m2= k，na或li；n= 1或2；
14、r1=ch3，ch2ch3，异丙基，叔丁基，环己基，苯基，环戊基或环戊二烯基；
15、r2=h，ch3，ch2ch3，异丙基，叔丁基，环己基，苯基，环戊基或环戊二烯基；
16、r3= -n(ch2ch3)2，-n(ch2ch3)ch3，-n(ch3)2或-n(sime3)2。
17、前述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，所述金属m为钆，无水金属盐为无水氯化钆。
18、前述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，所述技术路径（2）中，金属m为钆：二胺盐与酰胺基盐的投料比为1:2或2:1；二胺盐与酰胺基盐与无水氯化钆的投料比为3:1。
19、前述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，所述无水有机溶剂为：甲苯、乙醚、乙二醇二甲醚、四氢呋喃、正己烷或者其中任意两种上述溶剂按照9:1-1:9体积比例混合的混合溶剂。
20、前述的混配型酰胺基钆配合物的制备方法，包括以下步骤，
21、（1）在惰性气体的保护下，将定量的二胺盐和无水氯化钆加入无水溶剂中进行反应；
22、（2）反应一段时间后，过滤，将定量的酰胺盐加入滤液中继续进行反应；
23、（3）在步骤（2）反应一段时间后，过滤，将滤液用减压蒸馏除去溶剂，得固体经过重结晶升华，即得到目标金属配合物。
24、前述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，步骤（1）中，二胺盐和无水金属氯化物反应时间：4-9小时，反应温度：25-45℃。
25、前述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，所述步骤（2）中，定量的酰胺盐加入滤液反应时间：7-12小时，反应温度：35-70℃。
26、另外，本专利技术还提供一种前述的系列混配型酰胺基钆配合物的应用，包括在制备高k材料gd2o3上的应用，和用于催化内酯或交酯开环聚合反应。
27、本专利技术的有益效果为：本专利技术合成简便，工艺稳定，原料简单，价格便宜。混配型酰胺基钆配合物的合成过程不带入其他杂质，制备工艺质量可靠稳定，符合ald工艺的要求。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种混配型酰胺基钆配合物，其特征在于：其结构通式为：
2.一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：其技术路径为：
3.根据权利要求2所述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：所述金属M为钆，无水金属盐为无水氯化钆。
4.根据权利要求2所述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：所述技术路径中，金属M为钆：二胺盐与酰胺基盐的投料比为1:2或2:1；二胺盐与酰胺基盐与无水氯化钆的投料比为3:1。
5.根据权利要求2所述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：所述无水有机溶剂为：甲苯、乙醚、乙二醇二甲醚、四氢呋喃、正己烷或者其中任意两种上述溶剂按照9:1-1:9的体积比例混合的混合溶剂。
6.根据权利要求2所述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：包括以下步骤，
7.根据权利要求6所述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中，二胺盐和无水金属氯化物反应时间：4-9小时，反应温度：25-45℃。
8.根据权利要求6所述的一种
9.根据权利要求1所述的一种混配型酰胺基钆配合物或权利要求2-8任一项所制备的混配型酰胺基钆配合物的应用，其特征在于：在制备高k材料Gd2O3上的应用，或用于催化内酯或交酯开环聚合反应。
...【技术特征摘要】
1.一种混配型酰胺基钆配合物，其特征在于：其结构通式为：
2.一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：其技术路径为：
3.根据权利要求2所述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：所述金属m为钆，无水金属盐为无水氯化钆。
4.根据权利要求2所述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：所述技术路径中，金属m为钆：二胺盐与酰胺基盐的投料比为1:2或2:1；二胺盐与酰胺基盐与无水氯化钆的投料比为3:1。
5.根据权利要求2所述的一种混配型酰胺基钆配合物的制备方法，其特征在于：所述无水有机溶剂为：甲苯、乙醚、乙二醇二甲醚、四氢呋喃、正己烷或者其中任意两种上述溶剂按照9:1-1:9的体积比例...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈克成，陶弦，沈应中，
申请(专利权)人：江苏爱姆欧光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。