【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体制造，特别涉及一种坩埚盖板总成及蒸镀设备。
技术介绍
1、蒸镀工艺是镀膜的常用的设备，特别是在半导体、光学等制造过程中，需要对工件进行物理气相沉积时，主要用蒸发原材料的方式来实现。
2、蒸镀设备通常包括电子枪和坩埚，其中电子枪是产生电子束的部件，由直线状螺旋钨阴极、栅极和阳极组成。其原理是：阴极和栅极处于相同的负电位，阳极接地电位。阴极由交流供电加热，使之发射电子，电子受栅极电位的影响，在阳极电压加速下形成会聚的电子束。在磁场的作用下，电子束得到进一步聚焦并偏转射入装有源锭的坩埚中，其动能变成热能使源锭材料蒸发沉积于工件上，达到所需膜层的要求。
3、现有的坩埚通常为多穴坩埚，即坩埚上设置有多个坩埚槽，各坩埚槽通过一坩埚盖板盖住，坩埚盖板上开设有通孔，通过转动坩埚切换相应的坩埚槽与坩埚盖板上的通孔正对，进而可切换坩埚槽。
4、蒸镀过程中，蒸发的金属会附着在坩埚盖板通孔的周围，伴随金属附着物的增加，会影响蒸镀工艺，此时需清洁金属附着物。
5、由于金属附着物的附着力较强，清洁难度较大，当前在清洁金属附着物过程中，需要反复的敲击坩埚盖板，清洁过程中，容易导致盖板变形，因此需要频繁的更换坩埚盖板，导致清洁工作量大，备件成本高。
6、因此需要一种坩埚盖板总成蒸镀设备，通过对坩埚盖板的改进，以改善在清洁过程中坩埚盖板容易形变的现象。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种坩埚盖板总成及蒸镀设备，该坩埚盖板总成中在坩埚
2、为了解决上述技术问题，本技术提供了一种坩埚盖板总成，包括：坩埚盖板和火山口；
3、所述坩埚盖板上设有第一通孔；
4、所述火山口可拆卸的设置于所述坩埚盖板上，所述火山口包括凸出部和第二通孔，所述第二通孔设置于所述凸出部，所述凸出部的外壁适形贴合于所述第一通孔的内壁，且所述第一通孔和第二通孔正对。
5、可选地，所述第一通孔为锥形孔。
6、可选地，所述第二通孔呈锥形孔，以使得所述凸出部呈锥形筒状薄壁结构。
7、可选地，所述凸出部的一端经过所述第一通孔后凸出于坩埚盖板的第一侧面，所述第一侧面为所述坩埚盖板盖于坩埚上时，靠近所述坩埚的一侧。
8、可选地，所述第一通孔的小径端贯通至所述坩埚盖板的第一侧面。
9、可选地，所述凸出部还包括外沿部，所述外沿部连接于所述凸出部的外壁，所述外沿部贴合于所述坩埚盖板的第二侧面，所述第二侧面为所述坩埚盖板盖于坩埚上时，远离所述坩埚的一侧，所述外沿部围绕所述凸出部设置。
10、可选地，所述火山口上设置有避让结构。
11、可选地，所述坩埚盖板上设置有定位结构，所述定位结构用于使所述火山口相对所述坩埚盖板定位。
12、可选地，所述定位结构包括设置于所述坩埚盖板的第二侧面的定位槽，所述火山口上具有定位凸起，所述定位凸起适形插入所述定位槽内。
13、本技术还提供了一种蒸镀设备，所述蒸镀设备安装有上述所述的坩埚盖板总成。
14、如此配置，上述的坩埚盖板总成，火山口贴合于第一通孔的内壁，引导金属蒸汽经过第二通孔经过火山口流动，则使得金属蒸汽不与第一通孔的内壁直接接触。因此，通过火山口的引导使得金属蒸汽经过坩埚盖板总成向外蒸发时，不与坩埚盖板上的第一通孔的内壁直接接触，进而减少附着在第一通孔内壁以及坩埚盖板上表面的金属附着物，通过火山口的设置，使得大部分的金属蒸汽附着在火山口上第二通孔的内壁上，清洁坩埚盖板总成时，火山口作为主要清洁对象，火山口可拆卸清洁，有利于降低清洁难度；而且在坩埚盖板总成清洁过程中，火山口的清洁频率较高，多数情况下只需要清洁火山口或者更换火山口即可，有助于降低备件成本；
15、另外，上述的坩埚盖板总成结构，在清洁坩埚盖板总成时，有利于降低坩埚盖板上的清洁频率，并有助于改善清洁过程中频繁对坩埚盖板上的敲击现象，进而改善坩埚盖板上在清洁过程中形变的现象，减少坩埚盖板上更换次数，有助于降低备件成本，并且也减少坩埚盖板上拆卸的次数，有助于提高清洁效率，提高蒸镀设备的利用率，并且提升蒸镀设备的稳定性，而且也利于降低由于频繁清洗拆卸坩埚盖板导致的设备故障，例如降低坩埚转动故障。
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1.一种坩埚盖板总成，其特征在于，包括：坩埚盖板和火山口；
2.如权利要求1所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述第一通孔为锥形孔。
3.如权利要求2所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述第二通孔呈锥形孔，以使得所述凸出部呈锥形筒状薄壁结构。
4.如权利要求1所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述凸出部的一端经过所述第一通孔后凸出于坩埚盖板的第一侧面，所述第一侧面为所述坩埚盖板盖于坩埚上时，靠近所述坩埚的一侧。
5.如权利要求4所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述第一通孔的小径端贯通至所述坩埚盖板的第一侧面。
6.如权利要求1所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述凸出部还包括外沿部，所述外沿部连接于所述凸出部的外壁，所述外沿部贴合于所述坩埚盖板的第二侧面，所述第二侧面为所述坩埚盖板盖于坩埚上时，远离所述坩埚的一侧，所述外沿部围绕所述凸出部设置。
7.如权利要求1所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述火山口上设置有避让结构。
8.如权利要求1所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述坩埚盖板上设置有定位结构，所述定
9.如权利要求8所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述定位结构包括设置于所述坩埚盖板的第二侧面的定位槽，所述火山口上具有定位凸起，所述定位凸起适形插入所述定位槽内。
10.一种蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备安装有如权利要求1-9任意一项所述的坩埚盖板总成。
...【技术特征摘要】
1.一种坩埚盖板总成，其特征在于，包括：坩埚盖板和火山口；
2.如权利要求1所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述第一通孔为锥形孔。
3.如权利要求2所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述第二通孔呈锥形孔，以使得所述凸出部呈锥形筒状薄壁结构。
4.如权利要求1所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述凸出部的一端经过所述第一通孔后凸出于坩埚盖板的第一侧面，所述第一侧面为所述坩埚盖板盖于坩埚上时，靠近所述坩埚的一侧。
5.如权利要求4所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述第一通孔的小径端贯通至所述坩埚盖板的第一侧面。
6.如权利要求1所述的坩埚盖板总成，其特征在于，所述凸出部还包括外沿部，所述外沿部连接于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱鹏，周立超，张建康，
申请(专利权)人：绍兴中芯集成电路制造股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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