助熔剂用钨粒及其制备方法技术

技术编号:4098503 阅读:268 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种具有更好助熔效果的、显微形貌为表面粗糙的片状或块状的助熔剂钨粒,表面存在有若干沟槽、断层或裂纹,粒度为20~40目;不仅用量少,而且释放曲线峰形、强度高,对样品碳、硫元素含量的测试结果准确性好、精度高;同时制备方法简单,采用纯度满足要求的钨产品的切屑,进行破碎过筛,即获得一定粒度所述钨粒,成本低廉。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种助熔剂,适用于有色金属、各种合金,以及矿石、陶瓷、玻璃、耐火 材料等的碳、硫元素含量的分析检测,同时涉及该助熔剂的制备方法。
技术介绍
有色金属、各种合金,以及矿石、陶瓷、玻璃、耐火材料等的碳、硫元素含量,主要采 用冶金分析燃烧法、以高频红外仪等仪器分析检测。为降低前述材料样品的软化、熔化或液 化温度,以便有效地释放待测样品中的碳、硫元素,通常采用纯钨粒、纯铁屑、纯铜屑,大量 使用的是纯钨粒。中国专利“钨锡助熔剂及其制造方法”(ZL92103294. 4)和“钨铁助熔剂及 其制造方法”还分别提供了钨锡助熔剂、钨铁助熔剂及其制造方法,虽然能满足某些高熔点 或难熔样品的分析检测要求,但需要经过钨粉冷等静压成型、破碎过筛、与锡或铁粒配料混 合、高温烧结等复杂的工艺过程,需要严格控制成型压力、破碎粒度、和烧结温度等,制造成 本较高,因此目前大量使用的还是颗粒状的纯钨粒。钨粒在通有氧气的环境下,约650° C 开始氧化,同时释放190千卡/摩尔的热量,在待测样品的周围形成一个高温环境,使样品 中的碳、硫充分与氧结合以及释放出来。但纯钨粒助溶时释放曲线存在明显的拖尾峰形,且 要求用量较大,一般用量在1. 5g左右,低于0. 5g样品中碳、硫元素含量测试结果波动较大, 低于0. 3g的用量时测试结果明显偏低。
技术实现思路
本专利技术针对上述不足,提供一种具有更好助熔效果的新型结构的助熔剂钨粒及其 制备方法,不仅用量少,而且释放曲线峰形、强度高,对样品碳、硫元素含量的测试结果准确 性好、精度高;同时制备方法简单、成本低廉。为实现上述目的,本专利技术的助熔剂钨粒,其显微形貌为表面粗糙的片状或块状。作为改进,片状或块状钨粒的粗糙表面存在有若干沟槽、断层或裂纹。钨粒粒度最 好为20 40目。所述的助熔剂用钨粒的制备方法,是采用纯度满足要求的钨产品的切屑,进行破 碎过筛,即获得一定粒度所述钨粒。纯度满足要求是指钨产品中钨彡99. 9%,碳< 0. 0010%,硫< 0. 0005%,一定粒度为20目 40目。因为采用显微形貌为表面粗糙的片状或块状的钨粒,钨粒间透气性好,特别是当 片状或块状钨粒的粗糙表面呈现出若干沟槽、断层或裂纹时,实际在钨粒表面、钨粒之间 形成了导流槽的效果,更便于样品中的碳、硫充分与氧结合以及释放出来,因此助熔效果更 好,并且用量少,释放曲线峰形、强度高,对样品碳、硫元素含量的测试结果准确性好、精度 高。同时制备方法简单,只需要采用纯度满足要求的钨产品的切屑,进行破碎过筛,即可获 得,成本低廉。附图说明图1是本专利技术的助熔剂钨粒显微结构图(X35)。图2是图1中单个钨粒的结构示意图,其表面呈现出若干沟槽11 (XlOO)0图3是图1中又一单个钨粒的结构示意图,其表面呈现出若干断层12 (XlOO)0图4是图1中另一单个钨粒的结构示意图,其表面呈现出若干裂纹13 (XlOO)0图5是现有技术中助熔剂钨粒的显微结构图(X25)。图6是本专利技术的助熔剂钨粒的释放曲线。图7是现有技术中助熔剂钨粒的释放曲线。具体实施例方式下面结合附图,对本专利技术的助熔剂钨粒作进一步说明。如图1所示,本专利技术的助熔 剂钨粒在显微镜下放大35倍,呈现为表面粗糙的片状或块状,粒度最好为20目 40目;有 的单个颗粒的粗糙表面呈现若干沟槽11,图2是单个钨粒的结构放大100倍时的示意图,图 中更清楚地显示出沟槽11 ;有的存在若干断层12,图3是又一单个钨粒的结构放大100倍 时的示意图,图中更清楚地显示出断层12 ;有的则存在若干裂纹13,图4是另一单个钨粒结 构放大100倍时的示意图,图中更清楚地显示出裂纹13。相比图5所示的现有技术中的颗粒状助熔剂钨粒,表面粗糙的片状或块状的钨 粒,其钨粒间透气性好,特别是当片状或块状钨粒的粗糙表面呈现出若干沟槽、断层或裂纹 时,实际在钨粒表面、钨粒之间形成了导流槽的效果,更便于样品中的碳、硫充分与氧结合 以及释放出来,因此助熔效果更好,并且用量少,释放曲线峰形、强度高,对样品碳、硫元素 含量的测试结果准确性好、精度高。表1清楚地表明了在测定铌样品中碳含量时,本专利技术的助熔剂不仅用量少,并且 用量只有0. 15g时的测试结果依然与用量0. Sg时的测试结果保持一致,也与现有技术的助 熔剂用量0. 8时测试结果基本一致,测试结果准确性好、精度高;而现有技术的助熔剂用量 低于0. 5g测试结果波动较大,低于0. 3g的用量时测试结果明显偏低。相比图7的现有技术中助熔剂钨粒的释放曲线明显拖尾,图6是本专利技术的助熔剂 钨粒的释放曲线,其峰型完好且强度高,表明其具有很好的透气性和反应速度。表1 测定铌样品中碳含量时的助熔剂钨粒用量及精度比较\\用量( 精 、-、·■ 8 ) S \0. 80. 50. 30. 15现有技术助熔剂钨粒0. 311%0. 303%0. 312%0. 249%本专利技术助熔剂钨粒0. 310%0. 316%0. 308%0.305%本专利技术的助熔剂钨粒的制备,采用纯度满足要求的钨产品的切屑,即产品中钨 ^ 99. 9%,碳< 0. 0010%,硫< 0. 0005%,如钨坩埚、钨棒、钨板等产品,对其进行车、铣、刨、磨 或其他加工所得到的切屑,破碎过筛,即可获得,方法简单,成本低廉。破碎过筛粒度在20 目 40目时效果更佳。 如图1所示,上述方法获得的助熔剂钨粒是表面粗糙的、不规则的片状或块状, 当然也可以是规则的表面粗糙的、规则的片状或块状,或规则的沟槽、断层、或裂纹,只是这样的制备成本较高。但只要是表面粗糙的片状或块状助熔剂钨粒,就属于本专利技术保护的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种助熔剂用钨粒,其特征在于:所述钨粒显微形貌为表面粗糙的片状或块状。

【技术特征摘要】
一种助熔剂用钨粒,其特征在于所述钨粒显微形貌为表面粗糙的片状或块状。2.如权利要求1所述的助熔剂用钨粒,其特征在于所述片状或块状钨粒的粗糙表面 呈现有若干沟槽、断层或裂纹。3.如权利要求1或2所述的助熔剂用钨粒,其特征在于所述钨粒粒度为20目 40目。4.一种制备如权利1或2所述的助熔剂用钨...

【专利技术属性】
技术研发人员:傅崇伟彭宇张外平赵晓进包翠娥肖慧明
申请(专利权)人:株洲硬质合金集团有限公司
类型:发明
国别省市:43[中国|湖南]

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