一种真空膜片结构制造技术

本技术公开了一种真空膜片结构，包括释放管，所述释放管包括管体，所述管体内部活动连接有能够对抽取流量进行改变的密封膜片，还包括第一喷嘴，所述第一喷嘴包括第一嘴体，所述第一嘴体的表面设置有一体成型的第一卡块，所述管体内壁的左侧开设有内部卡槽，所述第一卡块活动连接于内部卡槽的内壁。本实用具备自动调节吸附量的优点，解决了现有的真空膜片结构在使用的过程中，不便于根据吸入口的整体吸附压力，来自动对真空流量进行调节，容易导致真空流量过大，产生过高的噪音影响环境的问题。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空设备，具体为一种真空膜片结构。

技术介绍

1、真空膜片结构属于真空设备零件的一种，具体的是和真空设备进行配合使用对气体进行抽取的结构，也叫真空发生器拉法尔管，真空膜片结构内部设置了具有文丘里腔的喷嘴，可以对气流进行加速，文丘里腔可以通过改变喷嘴的横截面积，从而影响气体流动速度。当气体通过文丘里腔的收缩段时，流速增加，从而控制气体的流速。

2、现有的真空膜片结构在使用的过程中，不便于根据吸入口的整体吸附压力，来自动对真空流量进行调节，容易导致真空流量过大，产生过高的噪音影响环境。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种真空膜片结构，具备自动调节吸附量的优点，解决了现有的真空膜片结构在使用的过程中，不便于根据吸入口的整体吸附压力，来自动对真空流量进行调节，容易导致真空流量过大，产生过高的噪音影响环境的问题。

2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空膜片结构，包括释放管，所述释放管包括管体，

3、所述管体内部活动连接有能够对抽取流量进行改变的密封膜片；

4、所述密封膜片包括弹性件，所述弹性件的内壁开设有配合凹槽；

5、还包括第二嘴体，所述第二嘴体内部开设有第二文丘里腔，所述第二嘴体的表面与弹性件内壁活动连接，所述第二嘴体的左端设置有扣环，所述扣环的前后两侧均设置有安装销，所述管体的前后两侧均开设有安装孔，且安装销延伸至安装孔内；

6、所述第二嘴体表面的后侧设置有配合凸起，所述配合凸起活动连接于配合凹槽的内壁对弹性件进行限位。

7、作为本技术的一种真空膜片结构优选的，还包括第一喷嘴，所述第一喷嘴包括第一嘴体，所述第一嘴体的表面设置有一体成型的第一卡块，所述管体内壁的左侧开设有内部卡槽，所述第一卡块活动连接于内部卡槽的内壁。

8、作为本技术的一种真空膜片结构优选的，所述第一嘴体内部开设有对气流加速的第一文丘里腔。

9、作为本技术的一种真空膜片结构优选的，所述第一嘴体的表面开设有能够安装密封圈的第一密封槽。

10、作为本技术的一种真空膜片结构优选的，所述管体的表面分别开设有第一开口和第二开口，所述密封膜片位于第二开口的内部。

11、作为本技术的一种真空膜片结构优选的，所述第二嘴体的表面开设有能够安装密封圈的第二密封槽。

12、作为本技术的一种真空膜片结构优选的，所述管体表面设置有一体成型的卡环。

13、与现有技术相比，本技术的有益效果如下：

14、1、本技术通过设置释放管，能够对第一喷嘴、第二喷嘴和密封膜片进行安装，真空设备通过释放管对气体进行抽取，气体分别通过第一喷嘴的进口、第二喷嘴的进口、第一开口和第二开口进入到管体的内腔，来实现对气体的抽取，第一嘴体内部设置了第一文丘里腔，第二嘴体内部设置了第二文丘里腔，气体在经过第一文丘里腔和第二文丘里腔时产生负压，但是第一喷嘴吸入口的负压高于第二喷嘴吸入口的负压。

15、2、本技术通过设置密封膜片，能够对第二开口的通断进行控制，当整体的吸附压力低于第二开口的吸入口负压，就会保证弹性件处于内收状态，第一开口和第一开口都有流量，当整体的吸附压力高于第二开口的吸入口负压，弹性件就会与管体的内壁牢牢的贴合在一起，形成密封状态，此时真空发生器的真空压力就会达到最大值，进入的真空流量很小，从而实现噪音的降低。

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【技术保护点】

1.一种真空膜片结构，包括释放管(1)，所述释放管(1)包括管体(101)，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的一种真空膜片结构，其特征在于：还包括第一喷嘴(2)，所述第一喷嘴(2)包括第一嘴体(201)，所述第一嘴体(201)的表面设置有一体成型的第一卡块(202)，所述管体(101)内壁的左侧开设有内部卡槽(105)，所述第一卡块(202)活动连接于内部卡槽(105)的内壁。

3.根据权利要求2所述的一种真空膜片结构，其特征在于：所述第一嘴体(201)内部开设有对气流加速的第一文丘里腔(204)。

4.根据权利要求2所述的一种真空膜片结构，其特征在于：所述第一嘴体(201)的表面开设有能够安装密封圈的第一密封槽(203)。

5.根据权利要求1所述的一种真空膜片结构，其特征在于：所述管体(101)的表面分别开设有第一开口(104)和第二开口(103)，所述密封膜片(4)位于第二开口(103)的内部。

6.根据权利要求1所述的一种真空膜片结构，其特征在于：所述第二嘴体(301)的表面开设有能够安装密封圈的第二密封槽(302)。

7.根据权利要求1所述的一种真空膜片结构，其特征在于：所述管体(101)表面设置有一体成型的卡环(102)。

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【技术特征摘要】

1.一种真空膜片结构，包括释放管(1)，所述释放管(1)包括管体(101)，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的一种真空膜片结构，其特征在于：还包括第一喷嘴(2)，所述第一喷嘴(2)包括第一嘴体(201)，所述第一嘴体(201)的表面设置有一体成型的第一卡块(202)，所述管体(101)内壁的左侧开设有内部卡槽(105)，所述第一卡块(202)活动连接于内部卡槽(105)的内壁。

3.根据权利要求2所述的一种真空膜片结构，其特征在于：所述第一嘴体(201)内部开设有对气流加速的第一文丘里腔(204)。

4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：汉瓦真空技术无锡有限公司，
类型：新型
国别省市：