【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃蚀刻，尤其是涉及一种可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液及其制备方法和应用。
技术介绍
1、随着社会的进步发展，消费者的消费观念和审美水平也在不断提高，因此对智能手机多元化的需求也日益凸显。目前市面上的中高端手机普遍采用玻璃后盖，而消费者尤其看重个性化的后盖定制，因而手机玻璃后盖的蚀刻蒙砂装饰越来越受到人们的青睐。然而，现有传统玻璃蚀刻液还存在以下几点不足：(1)尽管可蚀刻出闪光砂效果以提高防眩光、防指纹、防划伤，但手感方面表现略差；(2)蚀刻效果比较单一，难以加工出特殊的图案只能调整颗粒点的大小程度，而不能对及形状及分布规律进行控制，缺乏新颖性，难以满足现代消费者日益提高的要求；(3)蚀刻液使用一段时间后容易出现漏砂和蚀刻效率降低的问题。
2、如cn104761150a公开了一种玻璃蚀刻液，所述玻璃蚀刻液包括：氟化铵、表面活性剂、碱金属的盐酸盐、酸，以及水；其中，所述氟化铵中可电离产生的氟离子的摩尔数a和所述酸可电离产生的氢离子的摩尔数b满足下式：a:b＝(0.2～3):1。该蚀刻液能够有效地对玻璃进行蚀刻，利用该玻璃蚀刻液可以根据实际需要有效地对各种玻璃制品进行蚀刻，使得盖板玻璃形成凹凸不平的粗糙表面，从而使其具有防眩光的功能，但蚀刻效果比较单一，手感方面表现略差。
3、如cn116217085a公开了一种玻璃刻蚀液及锂铝硅玻璃表面星光璀璨效果的制作方法，该玻璃刻蚀液包括以下质量百分比wt％百分数的各原料，硫酸12～20％、硝酸15～25％、氟化铵20～30％、氟硼酸铵5～15％、硫酸
4、有鉴于此，特提出本专利技术。
技术实现思路
1、本专利技术的目的之一在于提供一种可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液。所述玻璃蚀刻液克服了现有蚀刻液不能有效针对玻璃手感调整、蚀刻效果单一以及使用一段时间后稳定性下降的弊端，通过调节氟化盐、晶粒调控剂、双子表面活性剂、强酸、弱酸、硅氧烷化合物等组分的比例和用量，来调控蚀刻液体系对铝硅玻璃的蚀刻速率、晶体生长速率、长晶形貌，最终获得表面粗糙度较小、雾度较高的鱼鳞状宏观立体纹理效果的ag玻璃，丰富了手机后盖玻璃蚀刻效果。
2、本专利技术的目的之二在于提供一种所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液的制备方法。所述制备方法包括以下步骤：将氟化盐、晶粒调控剂、双子表面活性剂、强酸、弱酸、硅氧烷化合物、含氟类杂链酸、β型环糊精按配比进行混合后，静置熟化，得到所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液。
3、本专利技术的目的之三在于提供一种所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液在蚀刻铝硅玻璃中的应用。
4、本专利技术的目的之四在于提供一种电子玻璃基板的蚀刻方法，所述蚀刻方法包括以下步骤：将电子玻璃基板需要蚀刻的一面置于上述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液中浸泡摆动，使得电子玻璃基板蚀刻的一面呈现鱼鳞状立体纹理。
5、为了实现本专利技术的上述目的，特采用以下技术方案：
6、第一方面，本专利技术提供一种可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，所述玻璃蚀刻液按质量百分含量计包括以下组分：
7、氟化盐17～35％、晶粒调控剂3～10％、双子表面活性剂0.5～5％、强酸10～25％、弱酸3～10％、硅氧烷化合物1～2％、含氟类杂链酸0.2～3％、β型环糊精0.1～2％，余量为水。
8、以所述玻璃蚀刻液的总质量为100％计，所述氟化盐的添加量为17～35％，例如可以是17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％、31％、32％、33％、34％、35％等。
9、在本专利技术中，氟化盐作为蚀刻主原料，为蚀刻液组合物提供足够的氟离子来蚀刻玻璃骨架，在酸性条件下可对玻璃表面进行侵蚀，软化玻璃表面，并且其反应产物氟硅酸盐会形成沉淀并沉积在玻璃表面，起到在玻璃表面形成纳米和微米级结晶颗粒的作用。
10、以所述玻璃蚀刻液的总质量为100％计，所述晶粒调控剂的添加量为3～10％，例如可以是3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、10％等。
11、在本专利技术中，晶粒调控剂可以控制形成微晶颗粒的结构与形状，从而实现成分决定结构、结构决定性能的目的。对于晶粒调控剂中原料用量之间的配比也直接影响着蚀刻液的效果，故对于原料配比也有一定的限定。
12、以所述玻璃蚀刻液的总质量为100％计，所述双子表面活性剂(gemini表面活性剂)的添加量为0.5～5％，例如可以是0.5％、0.6％、0.8％、1％、1.2％、1.5％、2％、2.5％、3％、3.5％、4％、4.5％、5％等。
13、在本专利技术中，gemini表面活性剂起到降低蚀刻液对玻璃的蚀刻表面张力作用，增加蚀刻液组合物对玻璃基材的润湿性，协同β型环糊精抑制漏砂，同时也起到抑制酸气逸出的作用。
14、以所述玻璃蚀刻液的总质量为100％计，所述强酸的添加量为10～25％，例如可以是10％、11％、12％、13％、14％、15％、16％、18％、20％、22％、24％、25％等。
15、在本专利技术中，强酸为蚀刻液提供酸性环境和足够的氢离子，使蚀刻药液的蚀刻性能持久,促使氟化盐蚀刻剂短时间破坏玻璃表层结构，将蚀刻液组合物中的组合强酸含量控制在合适的范围有利于平衡蚀刻与蒙砂。
16、以所述玻璃蚀刻液的总质量为100％计，所述弱酸的添加量为3～10％，例如可以是3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％、10％等。
17、在本专利技术中，弱酸主要作为缓冲剂，及时电离补给蚀刻液体系中消耗的氢离子，起到维持蚀刻稳定和保持蚀刻寿命的作用。
18、以所述玻璃蚀刻液的总质量为100％计，所述硅氧烷化合物的添加量为1～2％，例如可以是1％、1.2％、1.4％、1.6％、1.8％、2％等。
19、在本专利技术中，硅氧烷化合物起到促使蚀刻初始阶段产生的氟硅酸盐快速析晶沉淀的作用。
20、以所述玻璃蚀刻液的总质量为100％计，所述含氟类杂链酸的添加量为0.2～3％，例如可以是0.2％、0.4％、0.6％、0.8％、1％、1.2％、1.4％、1.5％、1.8％、2％、2.2％、2.5％、3％等。
21、在本专利技术中，含氟类杂链酸充当蚀刻液稳定剂的作用，并协同gemini表面活性剂提高蚀刻液对蚀刻玻璃基板的润湿性，从而改善纵向和横向方向蚀刻的均匀性，对有玻璃表面有序微晶体的形成起到积极的调节作用。
22、以所述玻璃蚀刻液的总质量为100％计，所述β型环糊精的添加量为0.1～2％，例如可以是0.1％、0.2％、0.4％、0.6％、0.8％、1％、1.2％、1.4％、1.本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述玻璃蚀刻液按质量百分含量计包括以下组分：
2.根据权利要求1所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述氟化盐包括氟化物和氟化氢类化合物；
3.根据权利要求1所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述晶粒调控剂包括氯盐和硫酸盐；其中，所述氯盐和硫酸盐的质量比需满足下述公式Ι:
4.根据权利要求1或3所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述晶粒调控剂包括氯盐、硫酸盐和乙酸盐，其中，所述氯盐、硫酸盐和乙酸盐的质量比需满足下述公式Ⅱ:
5.根据权利要求1所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述双子表面活性剂选自十四烷基二苯醚二磺酸钠、十二烷基二苯醚磺酸钠二酰胺或十二烷氧基二磷酸钠中任意一种或至少两种的组合；
6.一种根据权利要求1～5中任一项所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述熟化的时间为36～7
8.一种根据权利要求1～5中任一项所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液在蚀刻铝硅玻璃中的应用。
9.一种电子玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述蚀刻方法包括以下步骤：
10.根据权利要求9所述的电子玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述浸泡的温度为16～23℃；
...【技术特征摘要】
1.一种可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述玻璃蚀刻液按质量百分含量计包括以下组分：
2.根据权利要求1所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述氟化盐包括氟化物和氟化氢类化合物；
3.根据权利要求1所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述晶粒调控剂包括氯盐和硫酸盐；其中，所述氯盐和硫酸盐的质量比需满足下述公式ι:
4.根据权利要求1或3所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在于，所述晶粒调控剂包括氯盐、硫酸盐和乙酸盐，其中，所述氯盐、硫酸盐和乙酸盐的质量比需满足下述公式ⅱ:
5.根据权利要求1所述可蚀刻出鱼鳞状立体纹理的玻璃蚀刻液，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：张念椿，何培浩，伍红星，林瑞祥，阳后桂，
申请(专利权)人：达高工业技术研究院广州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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