System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 反射阵列及系统、通信系统、反射阵列内置型壁面材料及移动体通信系统技术方案_技高网

反射阵列及系统、通信系统、反射阵列内置型壁面材料及移动体通信系统技术方案

技术编号:40916172 阅读:15 留言:0更新日期:2024-04-18 14:42
本发明专利技术提供反射阵列、反射阵列系统、通信系统、反射阵列内置型壁面材料以及移动体通信系统,在反射阵列中,能够在保持高增益的状态下不引起反射板的电场强度的降低地进行多个入射角度的反射,能够实现反射阵列的设置的简单化。在反射阵列中,在XY平面上分别配置多个第一元件和第二元件。第一元件沿Y方向排列而形成第一元件列,第二元件沿Y方向排列而形成第二元件列。第一元件列和第二元件列在X方向上交替地排列。产生最大的入反射的2个角度位于X轴的正或负的同一侧。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及反射阵列(reflect array)以及使用了反射阵列的反射阵列系统、通信系统、反射阵列内置型壁面材料以及移动体通信系统。


技术介绍

1、在移动通信系统中,在基站与通信终端之间通过电波进行信号的收发。由于基站的数量有限,因此产生电波难以从基站直接到达的区域。为了解决该问题,有时使用反射阵列。

2、现有的反射阵列反射板能够任意地设计入射角和反射角。

3、在专利文献1中,记载了超构表面(meta surface)反射板以及具备该超构表面的信号机。

4、专利文献1:日本特开2021-48465号公报


技术实现思路

1、专利技术要解决的课题

2、在将反射阵列反射板的入射角和反射角分别确定为1个方向来进行设计的情况下,对于图1所示的设计角度的正向的入射和图2所示的反向的双方的入射表示良好的反射,反射波的电场强度变强。

3、但是,反射板的设置位置、角度取决于基站装置的位置,被唯一地确定,如图3的情况那样,对于设计角度以外的入射波,大多不正常地动作。

4、反射板需要朝向基站方向设置,因此在设置时成为较大的制约。

5、如图4、图5以及图6所示,在将入射波或者反射波设计为多个角度方向的情况下,虽然设置位置、角度等的制约被缓和,但所希望的方向的电场强度会减少。

6、例如,对于图4所示的正向的入射和图5、6所示的反向的入射这两者,也向作为目标的通信终端、基站以外的方向反射,因此与向单一的方向反射的情况相比,增益降低。

7、这样,在需要较高的反射波的电场强度时,在对于1个入射方向使反射波集中于1个方向的结构中,需要使反射板的设置位置、方向与基站的方向准确地匹配,若基站装置的位置未被预先决定,则反射板设置变得困难。

8、另外,在预先将入射波或反射波设计为多个角度方向的结构中,反射波的电场强度降低。

9、因此,本专利技术的目的在于提供一种反射阵列,在反射阵列(反射板)中,能够在保持高增益的状态下不引起反射板的电场强度的降低地进行多个入射角度或反射角度下的反射,能够实现反射阵列的设置的简化。

10、此外,本专利技术的目的在于提供在不降低指向性增益的情况下实现多个入反射角的反射阵列。

11、并且,本专利技术的目的在于提供一种简化反射阵列(超材料(meta-material)反射板)的设置的反射阵列。

12、本专利技术的方案1的反射阵列的特征在于,将相互正交的3个方向设为x方向、y方向和z方向,在xy平面上分别配置多个第一元件和第二元件,第一元件在y方向上排列而形成第一元件列,第二元件在y方向上排列而形成第二元件列,第一元件列和第二元件列交替地排列,产生最大的入反射的2个角度位于x轴的正或负的相同侧。

13、本专利技术的方案2的反射阵列的特征在于,在方案1所述的反射阵列中,相对于z轴,产生最大的入反射的2个角度的一方为1度至30度,另一方为60度至89度。

14、本专利技术的方案3的反射阵列的特征在于,在方案1或2所述的反射阵列中,反射阵列为能够变形的片状。

15、本专利技术的方案4的反射阵列的特征在于,在方案1至3中的任一项所述的反射阵列中,具有将反射阵列与外部固定的固定部。

16、本专利技术的方案5的反射阵列系统的特征在于,具有方案1至4中的任一项所述的反射阵列,将包含产生最大的入反射的2个方向的平面与xy平面相交的线设为入反射方向,交替地配置入反射方向相互不同的反射阵列。

17、本专利技术的方案6的反射阵列系统的特征在于,具有方案1至4中的任一项所述的反射阵列,将包含产生最大的入反射的2个方向的平面与xy平面相交的线设为入反射方向,交替地配置入反射方向彼此相差90度的反射阵列。

18、本专利技术的方案7的反射阵列系统的特征在于,具有方案1至4中的任一项所述的反射阵列,将包含产生最大的入反射的2个方向的平面与xy平面相交的线设为入反射方向,配置多个入反射方向彼此相差大致预定角度的反射阵列,构成为入反射方向呈大致曲线状地变化。

19、本专利技术的方案8的通信系统的特征在于,具有多个基站和方案1至4中的任一项所述的反射阵列,在多个基站中的2个基站之间设置有反射阵列。

20、本专利技术的方案9的通信系统的特征在于,在壁面配置有基站,将方案1至4中的任一项所述的反射阵列或方案5至7中的任一项所述的反射阵列系统设置在天花板上。

21、本专利技术的方案10的通信系统的特征在于,具有基站,将方案1至4中的任一项所述的反射阵列或方案5至7中的任一项所述的反射阵列系统设置在壁面上。

22、本专利技术的方案11的通信系统的特征在于,具有基站,将方案1至4中的任一项所述的反射阵列或方案5至7中的任一项所述的反射阵列系统设置在地面上。

23、本专利技术的方案12的反射阵列内置型壁面材料的特征在于,具有基底材料、以及方案1至4中的任一项所述的反射阵列或方案5至7中的任一项所述的反射阵列系统。

24、本专利技术的方案13的移动体通信系统的特征在于,具有移动体接收部,在移动体的内部具有方案1至4中的任一项所述的反射阵列或方案5至7中的任一项所述的反射阵列系统。

25、根据本结构,反射阵列的周期结构变为大致左右对称,能够实现独立的2种入反射角。

26、通常为了实现2种入反射角而需要2光束化,但若进行2光束化,则会引起增益的降低。但是,根据本结构,2种入反射角度独立地进行动作,因此能够保持较高的增益。

27、此外,反射阵列大多设置在外部,但以往由于设计性低,因此大多以隐藏在不显眼的场所的方式设置,设置场所的制约较大。

28、在本结构中,由于是周期性的列的重复,因此设计性高,即使是天花板、壁面、地板等引人注目的场所,也能够直接设置。

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【技术保护点】

1.一种反射阵列,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的反射阵列,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的反射阵列,其特征在于,

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的反射阵列,其特征在于,

5.一种反射阵列系统,其特征在于,

6.一种反射阵列系统,其特征在于,

7.一种反射阵列系统,其特征在于,

8.一种通信系统,其特征在于,

9.一种通信系统,其特征在于,

10.一种通信系统,其特征在于,

11.一种通信系统,其特征在于,

12.一种反射阵列内置型壁面材料,其特征在于,

13.一种移动体通信系统,其特征在于,

【技术特征摘要】

1.一种反射阵列,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的反射阵列,其特征在于,

3.根据权利要求1或2所述的反射阵列,其特征在于,

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的反射阵列,其特征在于,

5.一种反射阵列系统,其特征在于,

6.一种反射阵列系统,其特征在于,

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【专利技术属性】
技术研发人员:洪娜拉·塔南佐佐木隆吉白泽嘉树小野田仁佐佐木克守佐藤启介大岛一郎
申请(专利权)人:电气兴业株式会社
类型:发明
国别省市:

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