【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及x射线成像领域，具体地，涉及一种安检图像处理方法、一种电子设备和一种计算机可读介质。
技术介绍
1、x射线安检设备，是借助传输带将被检查物体送入x射线检查通道，完成对物体的检查。x射线是一种比可见光波长更短的电磁辐射薄，具有更高的能量和穿透能力，可以在不接触、不破坏物体表面的前提下，对物体内部结构快速成像。
2、x射线成像多存在伪影，影响检测的准确性。
技术实现思路
1、本专利技术旨在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术提供了一种图像处理方法、一种电子设备和一种计算机可读介质。使用所述图像处理方法可以较为准确地去除x射线图像中的伪影。
2、作为本专利技术的第一个方面，提供一种安检图像处理方法，其中，所述安检图像处理方法包括：
3、根据安检图像中各像素点对应的原子序数的分布情况，生成所述安检图像对应的掩模图像，其中，所述掩模图像用于表征所述安检图像中不同物质的过渡区域存在的伪影的初始位置，所述掩模图像上的像素点与所述安检图像上的像素点一一对应；
4、将所述安检图像上与所述掩模图像中伪影的初始位置处的像素点所对应的像素点作为目标像素点，确定所述目标像素点的多个周边像素点对应的原子序数的取值；
5、在多个所述周边像素点所对应的原子序数的取值中同时存在多种不同物质所对应的原子序数的取值的情况下，将相应的目标像素点作为伪影像素点；
6、将所述安检图像上所述伪影像素点所对应的原子序数的取值
7、根据所述伪影像素点所对应的目标原子序数取值、以及所述安检图像中除伪影像素点之外的像素点的原子序数的取值，生成修正后的图像。
8、可选地，所述目标像素点的多个所述周边像素点均与所述目标像素点不邻接。
9、可选地，在确定所述目标像素点的多个周边像素点对应的原子序数的取值之前，所述安检图像处理方法还包括：
10、利用预设滤波核遍历所述安检图像上的所述目标像素点，将所述预设滤波核所覆盖的像素点中，除了所述目标像素点之外、且与所述目标像素点不邻接的多个像素点作为所述目标像素点的周边像素点。
11、可选地，所述预设滤波核为镂空十字滤波核，所述镂空十字滤波核包括中心像素点、和四个滤波臂，四个所述滤波臂分别从所述中心像素点的四条边向所述中心像素点的外部延伸，所述滤波臂包括间隔设置的有效区和无效区，所述滤波臂上与所述中心像素点直接相邻的区域为所述无效区，所述有效区的形状、所述无效区的形状均与所述安检图像上的像素点一致；
12、在所述利用预设滤波核遍历所述安检图像上的所述目标像素点的步骤中，将所述中心像素点与所述目标像素点对准。
13、可选地，所述滤波臂上的有效区和无效区的数量与显示所述安检图像的显示面板的分辨率正相关。
14、可选地，所述滤波臂包括2个所述有效区和2个所述无效区。
15、可选地，所述目标原子序数值大于所述伪影像素点所对应的初始原子序数取值。
16、可选地，所述将所述安检图像上所述伪影像素点所对应的原子序数的取值修正为目标原子序数取值，包括：
17、确定所述伪影像素点的多个周边像素点所对应的原子序数取值；
18、将多个周边像素点中的目标周边像素点所对应的原子序数的平均值作为所述目标原子序数取值，其中，所述目标周边像素点为多个所述周边像素点中原子序数的取值与第一类物质相对应的像素点，多个所述周边像素点中的其余像素点的原子序数的取值与第二类物质相对应，且，所述第一类物质相对应的原子序数的取值大于所述第二类物质对应的原子序数的取值。
19、可选地，所述根据安检图像中各像素点对应的原子序数的分布情况，生成所述安检图像对应的掩模图像，包括：
20、将所述安检图像中原子序数取值与不同物质的过渡区域对应的像素点的标识位置1，将所述安检图像中其他区域的像素点的标识位均置0，以得到所述掩模图像。
21、作为本专利技术的第二个方面，提供一种电子设备，其中，所述电子设备包括：
22、一个或多个处理器；
23、存储器，其上存储有一个或多个计算机程序，当所述一个或多个计算机程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现根据本专利技术第一个方面所述的方法。
24、作为本专利技术的第三个方面，提供一种计算机可读介质，其上存储有计算机程序，其中，所述计算机程序被处理器执行时实现根据本专利技术第一个方面所提供的方法。
25、作为本专利技术的第四个方面，提供一种安检图像处理装置，用于执行本专利技术第一个方面所提供的方法。
26、通常，伪影会出现在原子序数较高的物质的边缘，或者两类物质的交界处。因物体的边缘更薄，在初次计算物质的原子序数时，获得的数值往往偏小，即，得到的原子序数的取值会介于两类物质之间。也就是说，探测器针对两类物质的过渡区域(或者交界处)的像素点(即，目标像素点)所输出的原子序数的取值，可能并不是该目标像素点真实的原子序数的取值。
27、如果所述目标像素点的多个周边像素点所对应的原子序数的取值与多种不同物质的原子序数取值相对应，就说明该目标像素点可能并不是原子序数取值在多种不同物质的原子序数的取值之间的中间物，需要对其原子序数的取值进行修正。确定了需要被修正的目标像素点(即，伪影像素点)的位置后，可以对伪影像素点所对应的原子序数的取值进行修正，并达到消除伪影的目的。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种安检图像处理方法，其特征在于，所述安检图像处理方法包括：
2.根据权利要求1所述的安检图像处理方法，其特征在于，所述目标像素点的多个所述周边像素点均与所述目标像素点不邻接。
3.根据权利要求2所述的安检图像处理方法，其特征在于，在确定所述目标像素点的多个周边像素点对应的原子序数的取值之前，所述安检图像处理方法还包括：
4.根据权利要求3所述的安检图像处理方法，其特征在于，所述预设滤波核为镂空十字滤波核，所述镂空十字滤波核包括中心像素点、和四个滤波臂，四个所述滤波臂分别从所述中心像素点的四条边向所述中心像素点的外部延伸，所述滤波臂包括间隔设置的有效区和无效区，所述滤波臂上与所述中心像素点直接相邻的区域为所述无效区，所述有效区的形状、所述无效区的形状均与所述安检图像上的像素点一致；
5.根据权利要求4所述的安检图像处理方法，其特征在于，所述滤波臂上的有效区和无效区的数量与显示所述安检图像的显示面板的分辨率正相关；
6.根据权利要求1所述的安检图像处理方法，其特征在于，所述目标原子序数值大于所述伪影像素点所对应的初始原
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的安检图像处理方法，其特征在于，所述将所述安检图像上所述伪影像素点所对应的原子序数的取值修正为目标原子序数取值，包括：
8.根据权利要求1至6中任意一项所述的安检图像处理方法，其特征在于，所述根据安检图像中各像素点对应的原子序数的分布情况，生成所述安检图像对应的掩模图像，包括：
9.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：
10.一种计算机可读介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现根据权利要求1至8中任意一项所述的安检图像处理方法。
...【技术特征摘要】
1.一种安检图像处理方法，其特征在于，所述安检图像处理方法包括：
2.根据权利要求1所述的安检图像处理方法，其特征在于，所述目标像素点的多个所述周边像素点均与所述目标像素点不邻接。
3.根据权利要求2所述的安检图像处理方法，其特征在于，在确定所述目标像素点的多个周边像素点对应的原子序数的取值之前，所述安检图像处理方法还包括：
4.根据权利要求3所述的安检图像处理方法，其特征在于，所述预设滤波核为镂空十字滤波核，所述镂空十字滤波核包括中心像素点、和四个滤波臂，四个所述滤波臂分别从所述中心像素点的四条边向所述中心像素点的外部延伸，所述滤波臂包括间隔设置的有效区和无效区，所述滤波臂上与所述中心像素点直接相邻的区域为所述无效区，所述有效区的形状、所述无效区的形状均与所述安检图像上的像素点一致；
5.根据权利要求4所述的安检图像处理方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨文斌，张文杰，
申请(专利权)人：杭州睿影科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。