竖立式晶圆表面清洗装置制造方法及图纸

本技术提供一种竖立式晶圆表面清洗装置，它包括底座，所述底座的上部水平放置有晶圆箱；所述晶圆箱内放置竖立的多个晶圆片；所述晶圆箱上部装配有喷淋模块，所述喷淋模块包括水平的水箱，所述水箱下部设计有向下伸出的两个以上的清洗管，所述清洗管分别插入晶圆片的两面，所述水箱的上部通过升降丝杆与升降电机连接；所述底座下部设计有控制底座前后运动的水平运动模块。该装置可以双面多个晶圆片同时清洗，同时在取料放料时不需要对晶圆片单独移来移去，清洗完成后可以通过晶圆箱将所有晶圆片取出，可以直接放置晶圆箱，使得效率大大提高，竖直结构方便水流从晶圆箱内自动沥干，清洗效果更好。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及晶圆片清洗设备，具体涉及竖立式晶圆表面清洗装置。

技术介绍

1、晶圆片湿制程加工过程中，晶圆片的表面需要保持清洁，因此在许多加工步骤之后都需要对晶圆表面进行清洗。传统的清洗加工通常需要将晶圆片单独放置在清洗机中，在清洗完成之后需要重新将晶圆片取出放置，生产过程较为繁琐。另外传统的清洗结构通常对每个晶圆片单独进行，这样也使得晶圆片的清洗效率较低。而且，传统的晶圆片清洗机工作时，晶圆片都是平放在设备上，这样很难对晶圆片的双面同时进行清洗，这样就需要通过不同工序分别对晶圆片的两面分别进行清洗，清洗效率较低。

技术实现思路

1、针对以上问题，本技术提供一种不需要单独放置晶圆片，可以同时对多个晶圆片的双面进行同步清洗的竖立式晶圆表面清洗装置。

2、本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：该竖立式晶圆表面清洗装置包括外壳，所述外壳内设计有水平设计的底座，所述底座的上部水平放置有晶圆箱；所述晶圆箱为上部敞开的长方形状，晶圆箱的前后面分别装配有两对以上成对使用的侧料槽，所述晶圆箱底面设计有分别与侧料槽配合的两个以上的底槽，所述侧料槽上设计有竖直贯通的开槽，所述底槽上设计有水平贯穿的开槽，待清洗的两个以上晶圆片底部分别放置在底槽内，晶圆片侧边放置在对应侧料槽内，晶圆片的底部采用镂空设计；所述晶圆箱上部装配有喷淋模块，所述喷淋模块包括水平的水箱，所述水箱下部设计有向下伸出的两个以上的清洗管，所述清洗管分别插入晶圆片的两面，所述水箱的上部通过升降丝杆与升降电机连接；所述底座下部设计有控制底座前后运动的水平运动模块。

3、作为优选，所述水平运动模块包括前后各两个竖直的支撑柱，所述四个支撑柱上部装配有两对前后成对使用的滚轮，所述底座下部设计有两个前后方向水平的轨道，所述轨道放置在所述滚轮上，所述底座下部固定装配有轴线为前后方向水平的横向电机，所述横向电机的水平输出轴上装配有横向丝杆，所述底座下部固定有运动块，所述运动块与所述横向丝杆螺纹装配。

4、作为优选，所述底座包括上部镂空的放置板，所述放置板下部设计有倾斜的槽板，所述放置板与槽板之间四周封闭，形成过水腔，所述槽板倾斜的低端设计有出水管，所述出水管与软管连接。

5、作为优选，所述晶圆箱的采用不锈钢材质的方管焊接而且，所述侧料槽装配在前后位置的方管上，所述底槽装配在底部位置的方管上。

6、作为优选，所述底座上部装配有两个定位块、两个活动块，所述晶圆箱定位放置在两个定位块、两个活动块中间。

7、作为优选，所述定位块设计为l型，所述定位块左右固定装配在所述底座上部，两个所述定位块前部位置分别对应加工有两个安装孔，所述安装孔上装配有两个可以向上拔出的所述活动块。

8、作为优选，所述活动块设计为l型，所述活动块下部设计有装入所述安装孔的安装柱。

9、本技术的有益效果在于：本竖立式晶圆表面清洗装置主要用来对晶圆片湿法加工后的清洗，也可以用来对于晶圆片进行一些喷淋操作，该装置使用时，通过晶圆箱将多个晶圆片一起放置到底座上，这时晶圆片竖立在晶圆箱中。通过升降气缸控制水箱下部的清洗管插入到相邻的晶圆片中间，这时清洗管同时向两侧的晶圆片表面喷水，对晶圆片表面进行清洗，然后通过所述水平运动模块控制所述底座前后运动，这时竖直的清洗管就通过侧边的喷水口完成了对晶圆片整个面的清洗。晶圆箱的底部可以采用镂空设计，便于清洗液流出。该装置通过直接将晶圆箱放置到清洗腔体内的底座上，然后通过多个竖直的清洗管直接对晶圆片的双面进行清洗，通过水平运动模块带动晶圆箱连同晶圆片前后运动，使得晶圆片完成全面清洗，整个清洗过程自动完成，这样不仅可以双面多个晶圆片同时清洗，同时在取料放料时不需要对晶圆片单独移来移去，清洗完成后可以通过晶圆箱将所有晶圆片取出，可以直接放置晶圆箱，使得效率大大提高，竖直结构方便水流从晶圆箱内自动沥干，清洗效果更好。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种竖立式晶圆表面清洗装置，它包括外壳(1)，所述外壳(1)内设计有水平设计的底座(2)，所述底座(2)的上部水平放置有晶圆箱(3)；其特征在于：所述晶圆箱(3)为上部敞开的长方形状，晶圆箱(3)的前后面分别装配有两对以上成对使用的侧料槽(31)，所述晶圆箱(3)底面设计有分别与侧料槽(31)配合的两个以上的底槽(32)，所述侧料槽(31)上设计有竖直贯通的开槽，所述底槽(32)上设计有水平贯穿的开槽，待清洗的两个以上晶圆片(4)底部分别放置在底槽(32)内，晶圆片(4)侧边放置在对应侧料槽(31)内；所述晶圆箱(3)上部装配有喷淋模块(5)，所述喷淋模块(5)包括水平的水箱(51)，所述水箱(51)下部设计有向下伸出的两个以上的清洗管(52)，所述清洗管(52)分别插入晶圆片(4)的两面，所述水箱(51)的上部通过升降丝杆(53)与升降电机(54)连接；所述底座(2)下部设计有控制底座(2)前后运动的水平运动模块(6)。

2.根据权利要求1所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述底座(2)包括上部镂空的放置板(21)，所述放置板(21)下部设计有倾斜的槽板(22)，所述放置板(21)与槽板(22)之间四周封闭，形成过水腔，所述槽板(22)倾斜的低端设计有出水管(23)，所述出水管(23)与软管连接。

3.根据权利要求2所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述水平运动模块(6)包括前后各两个竖直的支撑柱(61)，所述四个支撑柱(61)上部装配有两对前后成对使用的滚轮(62)，所述底座下部设计有两个前后方向水平的轨道(24)，所述轨道(24)放置在所述滚轮(62)上，所述底座(2)下部固定装配有轴线为前后方向水平的横向电机(63)，所述横向电机(63)的水平输出轴上装配有横向丝杆(64)，所述底座下部固定有运动块(25)，所述运动块与所述横向丝杆(64)螺纹装配。

4.根据权利要求1-3中任一条所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述晶圆箱(3)的采用不锈钢材质的方管焊接而且，所述侧料槽(31)装配在前后位置的方管上，所述底槽(32)装配在底部位置的方管上。

5.根据权利要求1-3中任一条所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述底座(2)上部装配有两个定位块(26)、两个活动块(27)，所述晶圆箱(3)定位放置在两个定位块(26)、两个活动块(27)中间。

6.根据权利要求5所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述定位块设计为L型，所述定位块(26)左右固定装配在所述底座(2)上部，两个所述定位块(26)前部位置分别对应加工有两个安装孔(28)，所述安装孔(28)上装配有两个可以向上拔出的所述活动块(27)。

7.根据权利要求6所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述活动块(27)设计为L型，所述活动块(27)下部设计有装入所述安装孔(28)的安装柱。

...

【技术特征摘要】

1.一种竖立式晶圆表面清洗装置，它包括外壳(1)，所述外壳(1)内设计有水平设计的底座(2)，所述底座(2)的上部水平放置有晶圆箱(3)；其特征在于：所述晶圆箱(3)为上部敞开的长方形状，晶圆箱(3)的前后面分别装配有两对以上成对使用的侧料槽(31)，所述晶圆箱(3)底面设计有分别与侧料槽(31)配合的两个以上的底槽(32)，所述侧料槽(31)上设计有竖直贯通的开槽，所述底槽(32)上设计有水平贯穿的开槽，待清洗的两个以上晶圆片(4)底部分别放置在底槽(32)内，晶圆片(4)侧边放置在对应侧料槽(31)内；所述晶圆箱(3)上部装配有喷淋模块(5)，所述喷淋模块(5)包括水平的水箱(51)，所述水箱(51)下部设计有向下伸出的两个以上的清洗管(52)，所述清洗管(52)分别插入晶圆片(4)的两面，所述水箱(51)的上部通过升降丝杆(53)与升降电机(54)连接；所述底座(2)下部设计有控制底座(2)前后运动的水平运动模块(6)。

2.根据权利要求1所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述底座(2)包括上部镂空的放置板(21)，所述放置板(21)下部设计有倾斜的槽板(22)，所述放置板(21)与槽板(22)之间四周封闭，形成过水腔，所述槽板(22)倾斜的低端设计有出水管(23)，所述出水管(23)与软管连接。

3.根据权利要求2所述的竖立式晶圆表面清洗装置，其特征在于：所述水平运动模块(6)包括前后各两个竖...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾麒文，洪成都，
申请(专利权)人：苏州桔云科技有限公司，
类型：新型
国别省市：