【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种原子层沉积装置，更具体地，涉及一种如独立权利要求1的前序部分中所定义的原子层沉积装置。本专利技术还涉及一种用于将成批衬底装载到原子层沉积装置的反应室中的方法，更具体地，涉及一种如独立权利要求12的前序部分中所定义的方法。
技术介绍
1、出版物cn 112323045a公开了一种反应室，该反应室的顶部敞口。成批衬底从反应室顶部装载到反应室内部。由于成批衬底的装载是从真空室外部进行的，因此在装载成批衬底时真空会被破坏。
2、在原子层沉积装置(即，ald反应器)的反应室中装载多个衬底具有挑战性，并且需要衬底专用的复杂装载机构。衬底装载机构会影响工艺流程的几何结构，从而导致沉积速度减慢或膜层均匀性受到挑战。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是提供一种将成批衬底装载到原子层沉积装置的反应室中的简单且有效的方式，其中衬底的尺寸不限于任何特定尺寸。
2、本专利技术的目的通过原子层沉积装置及用于装载成批衬底的方法来实现，所述原子层沉积装置和所述方法的特征如独立权利要求所述。本专利技术的优选实施例在从属权利要求中公开。
3、本专利技术基于提供一种装载室的想法，所述装载室与真空室连接，所述真空室内部具有反应室，其中所述反应室具有相对于彼此可移动地设置的盖部和支撑部，使得所述成批衬底能够从所述装载室水平装载到所述反应室，然后环绕所述成批衬底关闭所述反应室。
4、根据本专利技术的原子层沉积装置，所述原子层沉积装置被设置成在批处理中同时处理
5、所述装载室和所述真空室内部的所述反应室优选地被设置成使所述装载装置被设置成将所述成批衬底从所述装载室移动到所述反应室，使得所述成批衬底水平移动，因此，所述装载室和所述真空室之间的所述装载连接件设置在所述室的侧壁处。所述反应室被设置成提供所述打开位置，使得将所述成批衬底传送到其上的所述支撑部与所述装载装置处于同一平面，由此所述成批衬底从所述装载室到所述反应室的传送是水平设置的。
6、成批衬底是指可以在所述反应室内部同时处理多个衬底的布置。在本申请的上下文中，成批衬底是指支架或类似结构，该支架或类似结构中可以放置若干衬底，以便同时进行处理。然而，当所述成批衬底不包括其他衬底时，所述成批衬底可以仅包含一个衬底，这意味着当支架或类似结构中仅设置一个衬底时，支架或类似结构中存在空闲空间。所述成批衬底被设置成支撑以特定间隔堆叠在一起的多个衬底。
7、所述装载室和所述真空室之间的所述装载连接件优选地包括端口阀等关闭机构，所述关闭机构被设置成打开和关闭所述装载室和所述真空室之间的所述装载连接件。
8、被设置成移动成批衬底的所述装载装置包括用于支撑所述成批衬底的成批衬底支撑件以及用于在所述装载室和所述反应室之间移动所述成批衬底支撑件的移动机构。
9、所述反应室包括支撑部和盖部，所述成批衬底放置在所述支撑部上以对衬底进行处理，所述盖部形成所述反应室的所述外壳的其余部分，其中所述盖部被设置成连接到所述支撑部并且被设置成环绕所述反应室内部的所述成批衬底。换句话说，所述反应室形成环绕所述成批衬底的外壳，其中所述外壳由所述盖部和所述支撑部形成。所述盖部相对于所述支撑部可移动地设置在所述打开位置和所述关闭位置之间，使得所述盖部被设置成朝向所述支撑部移动以关闭所述反应室。
10、根据本专利技术，所述盖部被设置成沿第一方向移动，所述装载装置被设置成沿第二方向移动所述成批衬底，其中所述第二方向横向于所述第一方向。换句话说，所述装载装置的移动方向与所述盖部的移动方向不同，例如，所述装载装置水平移动，而所述盖部垂直移动，反之亦然。
11、根据本专利技术，所述原子层沉积装置还包括升降装置，所述升降装置连接到所述反应室并且被设置成在所述反应室的所述打开位置和所述关闭位置之间移动所述盖部。
12、根据本专利技术，所述升降装置连接到所述反应室的所述盖部，并且被设置成相对于所述反应室的所述支撑部沿垂直方向移动所述盖部，其中所述支撑部固定设置在所述真空室内部。
13、根据本专利技术，所述升降装置连接到所述反应室的所述盖部，并且被设置成相对于所述反应室的所述支撑部沿水平方向移动所述盖部，其中所述支撑部固定设置在所述真空室内部。
14、所述升降装置从所述真空室外部经由所述真空室延伸到所述反应室。然而，根据本专利技术，所述升降装置包括设置在所述真空室外部的升降装置电机。
15、根据本专利技术，所述原子层沉积装置还包括热反射器，所述热反射器设置在所述真空室内部，以环绕所述反应室的所述盖部的至少一部分并与所述盖部一起移动。
16、根据本专利技术，所述原子层沉积装置还包括热反射器，所述热反射器可移动地设置在所述真空室内部，使得当所述反应室处于所述关闭位置时，所述热反射器设置在所述装载连接件和所述反应室之间的空间内，当所述反应室处于所述打开位置时，所述热反射器远离所述装载连接件，以在所述装载连接件和所述打开的反应室之间提供开放路径。
17、所述热反射器具有朝向装载连接件开口设置的反射器表面，使得所述热反射器的表面横向于或垂直于所述装载连接件开口延伸。
18、根据本专利技术的实施例，所述热反射器连接到所述反应室的所述盖部，使得所述热反射器可与所述盖部一起移动。
19、根据本专利技术，所述热反射器连接到所述升降装置，使得所述热反射器可与所述升降装置一起移动。
20、根据本专利技术，所述原子层沉积装置还包括真空系统，所述真空系统被设置成为所述装载室和所述真空室提供真空条件。所述真空系统可以包括一个或多个真空泵或真空装置，以便在所述装载室和所述真空室中提供真空条件进行独立操作。
21、一种用于将成批衬底装载到根据本专利技术所述的原子层沉积装置的反应室中以根据原子层沉积方法的原理处理衬底的方法包括以下步骤：将成批衬底放入装载室；打开所述装载室和真空室之间的装载连接件；将所述成批衬底从所述装载室移动到所述真空室内部的所述反应室，所述反应室处于打开位置时，所述反应室的支撑部与所述反应室的盖部间隔开；以及通过使所述盖部相对于所述支撑部移动，将所述反应室从所述打开位置移动到关闭位置。
22、所述成批衬底在所述装载室和所述真空室之间的移动优选水平设置，而将所述反应室从所述打开位置移动到所述关闭位置以及从本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种原子层沉积装置(1)，所述原子层沉积装置被设置成在批处理中同时处理多个衬底，所述原子层沉积装置(1)具有设置在真空室(20)内部的反应室(10)，其特征在于，所述原子层沉积装置(1)还包括：
2.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述盖部(12)被设置成沿第一方向(C)移动，所述装载装置(50)被设置成沿第二方向(D)移动所述成批衬底(B)，其中所述第二方向(D)横向于所述第一方向(C)。
3.根据权利要求1或2所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述原子层沉积装置(1)还包括升降装置(60)，所述升降装置连接到所述反应室(10)并且被设置成在所述反应室(10)的所述打开位置和所述关闭位置之间移动所述盖部(12)。
4.根据权利要求3所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述升降装置(60)连接到所述反应室(10)的所述盖部(12)，并且被设置成相对于所述反应室(10)的所述支撑部(11)沿垂直方向移动所述盖部(12)，其中所述支撑部(11)固定设置在所述真空室(20)内部。
5.根据权利要求3所述的原子层沉积装置，
6.根据权利要求3至5中任一项所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述升降装置(60)包括设置在所述真空室(20)外部的升降装置电机(61)。
7.根据前述任一项权利要求所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述原子层沉积装置(1)还包括热反射器(70)，所述热反射器设置在所述真空室(20)内部，以环绕所述反应室(10)的所述盖部(12)的至少一部分并与所述盖部(12)一起移动。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述原子层沉积装置(1)还包括热反射器(70)，所述热反射器可移动地设置在所述真空室(20)内部，使得当所述反应室(10)处于所述关闭位置时，所述热反射器(70)设置在所述装载连接件(40)和所述反应室(10)之间的空间内，当所述反应室(10)处于所述打开位置时，所述热反射器(70)远离所述装载连接件(40)，以在所述装载连接件(40)和所述打开的反应室(10)之间提供开放路径。
9.根据权利要求7或8所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述热反射器(70)连接到所述反应室(10)的所述盖部(12)，使得所述热反射器(70)可与所述盖部(12)一起移动。
10.根据权利要求7或8所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述热反射器(70)连接到所述升降装置(60)，使得所述热反射器(70)可与所述升降装置(60)一起移动。
11.根据前述任一项权利要求所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述原子层沉积装置(1)还包括真空系统(80)，所述真空系统被设置成为所述装载室(30)和所述真空室(20)提供真空条件。
12.一种用于根据原子层沉积方法的原理将成批衬底装载到用于处理衬底的原子层沉积装置的反应室(10)中的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
13.根据权利要求12所述的用于将成批衬底装载到反应室(10)中的方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤：
14.根据权利要求12或13所述的用于将成批衬底装载到反应室(10)中的方法，其特征在于，将所述反应室(10)从所述打开位置移动到所述关闭位置的步骤还包括：
15.根据权利要求12至14中任一项所述的用于将成批衬底装载到反应室(10)中的方法，其特征在于，所述方法由根据权利要求1至10中任一项所述的原子层沉积装置(1)来执行。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种原子层沉积装置(1)，所述原子层沉积装置被设置成在批处理中同时处理多个衬底，所述原子层沉积装置(1)具有设置在真空室(20)内部的反应室(10)，其特征在于，所述原子层沉积装置(1)还包括：
2.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述盖部(12)被设置成沿第一方向(c)移动，所述装载装置(50)被设置成沿第二方向(d)移动所述成批衬底(b)，其中所述第二方向(d)横向于所述第一方向(c)。
3.根据权利要求1或2所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述原子层沉积装置(1)还包括升降装置(60)，所述升降装置连接到所述反应室(10)并且被设置成在所述反应室(10)的所述打开位置和所述关闭位置之间移动所述盖部(12)。
4.根据权利要求3所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述升降装置(60)连接到所述反应室(10)的所述盖部(12)，并且被设置成相对于所述反应室(10)的所述支撑部(11)沿垂直方向移动所述盖部(12)，其中所述支撑部(11)固定设置在所述真空室(20)内部。
5.根据权利要求3所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述升降装置(60)连接到所述反应室(10)的所述盖部(12)，并且被设置成相对于所述反应室(10)的所述支撑部(11)沿水平方向移动所述盖部(12)，其中所述支撑部(11)固定设置在所述真空室(20)内部。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述升降装置(60)包括设置在所述真空室(20)外部的升降装置电机(61)。
7.根据前述任一项权利要求所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述原子层沉积装置(1)还包括热反射器(70)，所述热反射器设置在所述真空室(20)内部，以环绕所述反应室(10)的所述盖部(12)的至少一部分并与所述盖部(12)一起移动。
8.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：马库斯·波松，帕西·梅里尔伊宁，佩卡·索尼宁，马蒂·马利拉，
申请(专利权)人：BENEQ有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。