System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 入口组件制造技术_技高网

入口组件制造技术

技术编号:40832856 阅读:4 留言:0更新日期:2024-04-01 14:56
公开了一种入口组件、减排装置和方法。入口组件用于减排装置,减排装置用于处理来自半导体加工工具的排出流,入口组件包括:入口喷嘴,其被配置成将排出流输送到减排装置的燃烧室中;以及试剂喷嘴,其被配置成将试剂输送到减排装置的燃烧室中,试剂喷嘴相对于入口喷嘴同心地定位,试剂喷嘴被配置成在其周边周围的不同位置处以不同的量输送试剂。以这种方式,被供应到燃烧室以有助于排出气体流减排的试剂剂量可以在排出气体流周围的不同位置或部位处变化。这使得试剂的流量能够与从入口喷嘴排放到燃烧室中的排出流的流量相匹配,这提供了正确的试剂剂量以适合不同部位处的排出流,这提高了减排装置的破坏率效率,而不会导致试剂的过量供应。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术的领域涉及入口组件、减排装置和方法。


技术介绍

1、诸如辐射燃烧器或其它类型的减排装置的减排装置是已知的,并且通常用于处理来自例如在半导体或平板显示器制造工业中使用的制造加工工具的排出气体流。在此类制造期间,残留的全氟化合物(pfc)和其它化合物存在于从加工工具泵送的排出气体流中。pfc是难以从排出气体去除的,并且不期望这些pfc释放到环境中,因为已知它们具有相对高的温室效应。

2、诸如在ep 0694735中所描述的,已知的辐射燃烧器使用燃烧从排出气体流中去除pfc和其它化合物。通常,排出气体流是含有pfc和其它化合物的氮气流。排出流被运送到燃烧室中,该燃烧室被具孔气体燃烧器的出口表面侧向包围。在一些情况下,处理材料(诸如燃料气体)可以在进入燃烧室之前与排出气体流混合。燃料气体和空气被同时供应到具孔燃烧器,以在出口表面处对燃烧起作用。来自具孔燃烧器的燃烧产物与排出流混合物反应,以燃烧排出流中的化合物。

3、尽管存在减排装置的布置,但它们各自具有它们自己的缺点。因此,期望的是提供一种用于减排装置的改进的布置。


技术实现思路

1、根据第一方面,提供了一种用于减排装置的入口组件,该减排装置用于处理来自半导体加工工具的排出流,该入口组件包括:入口喷嘴,该入口喷嘴被配置成将排出流输送到减排装置的燃烧室中;以及试剂喷嘴,该试剂喷嘴被配置成将试剂输送到减排装置的燃烧室中,该试剂喷嘴相对于该入口喷嘴同心地定位,该试剂喷嘴被配置成在其周边(perimeter)周围的不同位置处以不同的量输送试剂。

2、第一方面认识到的是,现有减排装置的问题在于,在特定操作条件下减排性能可能不是最佳的。特别地,在某些条件下,破坏率效率可能没有可能所需要的那么高,和/或可能需要试剂的过量供应以达到特定的破坏率效率。

3、因此,提供了一种入口组件。入口组件可用于减排装置。该减排装置可用于处理来自半导体加工工具的排出流。入口组件可包括入口喷嘴。入口喷嘴可被配置成将排出流输送到减排装置的燃烧室中。入口组件可包括试剂喷嘴。试剂喷嘴可被配置成将试剂输送到减排装置的燃烧室中。试剂喷嘴可相对于入口喷嘴同心地定位,或者定位成包围入口喷嘴。试剂喷嘴可被配置或布置成在其周边周围的不同位置处以不同的量、剂量(amount)或不同的流率输送试剂。以这种方式,被供应到燃烧室以有助于排出气体流减排的试剂剂量可以在排出气体流周围的不同位置或部位处变化。这使得试剂的流量能够与从入口喷嘴排放到燃烧室中的排出流的流量相匹配,这提供了正确的试剂剂量以适合不同部位处的排出流,这提高了减排装置的破坏率效率,而不会导致试剂的过量供应。

4、入口喷嘴和试剂喷嘴可被布置或配置成将试剂相对于排出流同心地输送或运送到燃烧室中。换句话说,试剂可被输送到邻近排出流的燃烧室中。

5、入口组件可包括上游廊道(gallery)。上游廊道可被配置或布置成向试剂喷嘴的周边供给或供应试剂。

6、入口喷嘴和试剂喷嘴可被配置成将试剂输送或运送到燃烧室中。试剂可以被输送或运送以包围被输送或运送到燃烧室的排出流。

7、试剂喷嘴可被构造或布置成在排出流的第一区域、部分或一部分附近比在排出流的第二区域、部分或一部分附近输送更多的试剂。换句话说,试剂可在第一区域附近以比在第二区域附近的流率更高的流率被输送。与第二区域中的试剂相比,这在第一区域中提供了额外的试剂。

8、试剂喷嘴可被配置或布置成在试剂喷嘴的第一部分内比在试剂喷嘴的第二部分内输送或运送更多的试剂。换句话说,试剂喷嘴可在第一部分内以比第二部分内的流率更高的流率输送试剂。

9、入口喷嘴可具有长圆形横截面。试剂喷嘴可具有环形长圆形横截面。试剂喷嘴可被配置成在环形长圆形的圆形部分附近内比在环形长圆形的线性部分内输送更多的试剂。换句话说,试剂喷嘴可被配置成在圆形部分中以比在线性部分内的流率更高的流率输送试剂。

10、试剂喷嘴的内表面可与入口喷嘴的外表面间隔开。试剂喷嘴的内表面与入口喷嘴的外表面之间的间隙距离可在周边周围不同,以在周边周围的不同位置处以不同的量输送试剂。换句话说,试剂喷嘴与入口喷嘴之间的距离可以变化,以便在试剂喷嘴内的不同位置处以不同的流率输送试剂。

11、间隙距离在需要输送较多试剂的位置处可比在需要输送较少试剂的位置处更大。换句话说,间隙距离可以变化,以改变在试剂喷嘴内不同位置处所输送的试剂的流率。

12、间隙距离在环形长圆形的圆形部分附近内或邻近环形长圆形的圆形部分可比在环形长圆形的线性部分内更大。

13、试剂可经由位于周边周围的孔被供应到试剂喷嘴,所述孔被配置成在周边周围的不同位置处以不同的量输送试剂。将孔配置在试剂喷嘴周围使得能够在入口喷嘴内的不同位置处输送不同流率的试剂。

14、这些孔可径向延伸。

15、孔的尺寸和/或密度在周边周围的不同位置处可不同。

16、孔的尺寸和/或密度在需要输送较多试剂的位置处可比在需要输送较少试剂的位置处更大。换句话说,通过配置孔的尺寸和/或密度,可在试剂喷嘴内的一些位置处输送较高流率的试剂,并且可在试剂喷嘴内的其它位置处输送较低流率的试剂。

17、孔的尺寸和/或密度在环形长圆形的圆形部分附近内或邻近环形长圆形的圆形部分可比在环形长圆形的线性部分内更大。

18、试剂可经由位于周边周围的具孔材料被供应到试剂喷嘴。具孔材料可具有不同的孔隙率,以在周边周围的不同位置处以不同的量输送试剂。换句话说,通过改变孔隙率,试剂的流率可在周边周围的不同位置处不同。

19、根据第二方面,提供了一种包括第一方面的入口组件的减排装置。

20、减排装置可包括上述入口组件的特征。

21、根据第三方面,提供了一种方法,该方法包括:将排出流输送到具有入口喷嘴的减排装置的燃烧室中;相对于入口喷嘴同心地定位试剂喷嘴;以及配置试剂喷嘴,该试剂喷嘴被配置成在其周边周围的不同位置处以不同的量输送试剂。

22、该方法可包括配置入口喷嘴和试剂喷嘴,以将试剂相对于排出流同心地输送到燃烧室中。

23、该方法可包括从上游廊道向试剂喷嘴的周边供给试剂。

24、该方法可包括配置入口喷嘴和试剂喷嘴,以将试剂输送到燃烧室中,包围排出流。

25、该方法可包括配置试剂喷嘴,以在排出流的第一区域附近比在排出流的第二区域附近输送更多的试剂。

26、该方法可包括配置试剂喷嘴,以在试剂喷嘴的第一部分内比在试剂喷嘴的第二部分内输送更多的试剂。

27、入口喷嘴可具有长圆形横截面,且试剂喷嘴可具有环形长圆形横截面,并且该方法可包括配置试剂喷嘴,以在环形长圆形的圆形部分附近内比在环形长圆形的线性部分内输送更多的试剂。

28、该方法可包括将试剂喷嘴的内表面与入口喷嘴的外表面间隔开,并且将试剂喷嘴的内表面与入口喷嘴的外表面之间的间隙距离配置成在周边周围不同,以本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于减排装置的入口组件,所述减排装置用于处理来自半导体加工工具的排出流,所述入口组件包括:

2.根据权利要求1所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴和所述试剂喷嘴被配置成将所述试剂相对于所述排出流同心地输送到所述燃烧室中。

3.根据权利要求1或2所述的入口组件,包括上游廊道,所述上游廊道被配置成向所述试剂喷嘴的所述周边供给所述试剂。

4.根据前述权利要求中任一项所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴和所述试剂喷嘴被配置成将所述试剂输送到所述燃烧室中,包围所述排出流。

5.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂喷嘴是以下中的至少一者:

6.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴具有长圆形横截面,并且所述试剂喷嘴具有环形长圆形横截面,并且所述试剂喷嘴被配置成在所述环形长圆形的圆形部分附近内比在所述环形长圆形的线性部分内输送更多的所述试剂。

7.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂喷嘴的内表面与所述入口喷嘴的外表面间隔开,并且所述试剂喷嘴的所述内表面与所述入口喷嘴的所述外表面之间的间隙距离在所述周边周围不同,以在所述周边周围的不同位置处以不同的量输送所述试剂。

8.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述间隙距离是以下中的至少一者:

9.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂经由位于所述周边周围的孔被供应到所述试剂喷嘴,所述孔被配置成在所述周边周围的不同位置处以不同的量输送所述试剂。

10.根据权利要求9所述的入口组件,其中,所述孔径向延伸。

11.根据权利要求9或10所述的入口组件,其中,所述孔的尺寸和密度中的至少一者在所述周边周围的不同位置处不同。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的入口组件,其中,所述孔的尺寸和密度中的至少一者是以下中的至少一者:

13.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂经由位于所述周边周围的具孔材料被供应到所述试剂喷嘴,所述具孔材料具有不同的孔隙率,以在所述周边周围的不同位置处以不同的量输送所述试剂。

14.一种减排装置,所述减排装置包括任一前述权利要求所述的入口组件。

15.一种方法,所述方法包括:

...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于减排装置的入口组件,所述减排装置用于处理来自半导体加工工具的排出流,所述入口组件包括:

2.根据权利要求1所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴和所述试剂喷嘴被配置成将所述试剂相对于所述排出流同心地输送到所述燃烧室中。

3.根据权利要求1或2所述的入口组件,包括上游廊道,所述上游廊道被配置成向所述试剂喷嘴的所述周边供给所述试剂。

4.根据前述权利要求中任一项所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴和所述试剂喷嘴被配置成将所述试剂输送到所述燃烧室中,包围所述排出流。

5.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂喷嘴是以下中的至少一者:

6.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述入口喷嘴具有长圆形横截面,并且所述试剂喷嘴具有环形长圆形横截面,并且所述试剂喷嘴被配置成在所述环形长圆形的圆形部分附近内比在所述环形长圆形的线性部分内输送更多的所述试剂。

7.根据任一前述权利要求所述的入口组件,其中,所述试剂喷嘴的内表面与所述入口喷嘴的外表面间隔开,并且所述试剂喷嘴的所述内表面与所述入口喷嘴的所述外表面之间...

【专利技术属性】
技术研发人员:A·J·希里M·J·西尔伯斯坦
申请(专利权)人:埃地沃兹有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1