【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种晶圆位姿识别系统及其位姿识别方法。
技术介绍
1、在半导体制造领域，晶圆的传输已经从手动到完全自动化演变，因此对晶圆进行精准位姿判断是保证半导体能实现精准传输的一个重要环节。目前在通过视觉进行晶圆定位时，通常直接将光源产生的直射光照射到晶圆表面，容易在晶圆的镜面边沿或边角部位产生光斑或光晕，导致实际识别的轮廓为光斑内侧区域，引发轮廓识别失真，无法对晶圆进行精准定位。
2、这里的陈述仅提供与本专利技术有关的
技术介绍
，而并不必然地构成现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种晶圆位姿识别系统及其位姿识别方法，避免晶圆的镜面边沿或边角部位产生光斑或光晕，确保了对晶圆边缘轮廓识别的精准度，增加了晶圆边缘与背景的对比度，提高了图像识别准确度。
2、为了达到上述目的，本专利技术提供一种晶圆位姿识别系统，用于半导体处理设备，包含：
3、支撑结构，其设置在所述半导体处理设备的中转腔中，用于支撑待识别晶圆；
4、漫射光发生组件，其设置在所述中转腔中，用于产生漫射光照射到所述待识别晶圆的表面，所述漫射光发生组件至少包含一个光源及光学板，所述光源经所述光学板形成漫射光；
5、图像传感器，其设置在所述中转腔中，用于采集所述待识别晶圆的表面图像；
6、定义从所述待识别晶圆的表面反射进入所述图像传感器的光线为反射光线，所有的所述反射光线组成的路径为反射路径，与所述反射光线对应的所有
7、可选地，所述光学板配置为反射板，所述反射板具有漫射表面，用于将所述光源产生的光转化为漫射光照射到所述待识别晶圆的表面，所述光源与所述支撑结构设于所述漫射表面的同侧。
8、可选地，所述光学板配置为透射板，所述透射板具有漫射表面，用于将所述光源产生的光转化为漫射光照射到所述待识别晶圆的表面，所述光源与所述支撑结构设于所述漫射表面的两侧。
9、所述图像传感器采集来自所述待识别晶圆表面的反射光线，所述反射光线与竖直方向存在夹角，所述夹角的数值大于等于30°。
10、所述漫射表面具有颜色，在cielab颜色空间中，所述漫射表面的颜色的l值不小于60，以与阴影部分产生色彩反差。
11、所述漫射表面的颜色为白色。
12、所述光学板位于所述入射路径上并对所述入射路径完全遮挡。
13、本专利技术还提供一种半导体处理设备，包含：
14、前端模块，用于存储晶圆；
15、至少一个处理腔，用于对晶圆进行处理；中转腔，所述中转腔中具有晶圆调整系统，所述晶圆调整系统包含如权利要求1-7中任意一项所述的晶圆位姿识别系统及调整结构，所述调整结构跟据所述晶圆位姿识别系统反馈的位置和/或姿态信息来调整晶圆的位置和/或姿态；
16、至少一个真空锁，所述真空锁一端连接所述前端模块或所述处理腔，另一端连接所述传输腔。
17、本专利技术还提供一种利用所述的晶圆位姿识别系统进行的晶圆位姿识别方法，包含：
18、漫射光发生组件产生漫射光照射到待识别晶圆的表面；
19、图像传感器采集来自所述待识别晶圆表面的反射光线，所述反射光线与竖直方向存在夹角，所述夹角的数值大于等于30°；
20、根据采集的晶圆图像识别所述待识别晶圆的边缘，并根据所述边缘的参数计算得到所述待识别晶圆的中心位置和/或朝向。
21、所述漫射光发生组件包含光学板，所述位姿识别方法包含将所述光学板设置在所述反射光线对应的入射光线路径上，以在图像传感器识别晶圆图像时，晶圆表面能够倒映所述光学板的像，以增强对所述待识别晶圆的边缘识别的精度。
22、本专利技术采用漫射光作为图像识别的光源，可以避免晶圆的镜面边沿或边角部位产生光斑或光晕，确保了对晶圆边缘轮廓识别的精准度。所述图像传感器以倾斜的路径来采集来自所述待识别晶圆表面的反射光线，就可以最大限度地获取来自所述光学板的漫射光，从而能够最大限度地避免来自腔室中其他位置的光线对成像产生的干扰，避免晶圆的镜面边沿或边角部位产生光斑或光晕。通过将所述图像传感器采集反射光线的路径设置为倾斜路径，可以确保所述图像传感器采集到倒映在所述待识别晶圆表面的所述光学板的图像，所述光学板的倒映图像可以增加晶圆边缘与背景的对比度，提高图像识别准确度。
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1.一种晶圆位姿识别系统，用于半导体处理设备，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述光学板配置为反射板，所述反射板具有漫射表面，用于将所述光源产生的光转化为漫射光照射到所述待识别晶圆的表面，所述光源与所述支撑结构设于所述漫射表面的同侧。
3.如权利要求1所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述光学板配置为透射板，所述透射板具有漫射表面，用于将所述光源产生的光转化为漫射光照射到所述待识别晶圆的表面，所述光源与所述支撑结构设于所述漫射表面的两侧。
4.如权利要求1所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述图像传感器采集来自所述待识别晶圆表面的反射光线，所述反射光线与竖直方向存在夹角，所述夹角的数值大于等于30°。
5.如权利要求2或3所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述漫射表面具有颜色，在CIELAB颜色空间中，所述漫射表面的颜色的L值不小于60，以与阴影部分产生色彩反差。
6.如权利要求5所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述漫射表面的颜色为白色。
7.如权利要求1所述
8.一种半导体处理设备，其特征在于，包含：
9.一种利用如权利要求1-7中任意一项所述的晶圆位姿识别系统进行的晶圆位姿识别方法，其特征在于，包含：
10.如权利要求9所述的晶圆位姿识别方法，其特征在于，所述漫射光发生组件包含光学板，所述位姿识别方法包含将所述光学板设置在所述反射光线对应的入射光线路径上，以在图像传感器识别晶圆图像时，晶圆表面能够倒映所述光学板的像，以增强对所述待识别晶圆的边缘识别的精度。
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆位姿识别系统，用于半导体处理设备，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述光学板配置为反射板，所述反射板具有漫射表面，用于将所述光源产生的光转化为漫射光照射到所述待识别晶圆的表面，所述光源与所述支撑结构设于所述漫射表面的同侧。
3.如权利要求1所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述光学板配置为透射板，所述透射板具有漫射表面，用于将所述光源产生的光转化为漫射光照射到所述待识别晶圆的表面，所述光源与所述支撑结构设于所述漫射表面的两侧。
4.如权利要求1所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述图像传感器采集来自所述待识别晶圆表面的反射光线，所述反射光线与竖直方向存在夹角，所述夹角的数值大于等于30°。
5.如权利要求2或3所述的晶圆位姿识别系统，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：无锡先为科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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