【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，应用于薄膜金属化制程，具体涉及承载晶圆的载片台在薄膜沉积工艺中的上下运动机构。
技术介绍
1、在半导体技术中，薄膜溅射是金属互联的主要工艺手段，在金属溅射沉积过程中，需要对承载晶圆的载片台的位置高低进行精确控制，以满足沉积薄膜的均匀性的要求。
2、在以往的设计中，有些采用的是步进电机的控制，有些采用的是传统的遮挡式原点定位的方式，有些驱动机构采用的是相对摩擦较高的蜗杆机构，往往出现定位进度低、定位不准、运动卡顿以及抖动的问题，导致晶圆固定不稳且位置出现偏差，进而使得后续加工工艺达不到标准，造成资源浪费、重复作业以及效率低下等问题，为此，提出一种wafer定位升降装置是十分必要的。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：一种wafer定位升降装置，包括伺服电机，还包括：
2、升降机构，通过齿轮组与伺服电机固定连接，包括波纹管，所述波纹管一端与定位机构固定连接，所述波纹管另一端固定连接安装架构，所述安装架构内部设置有铜制导向套，且所述波纹管内部设置有光杆，所述光杆与铜制导向套嵌合连接，所述光杆螺旋连接丝杆一端，所述丝杆中部固定连接滚珠螺母安装板，所述滚珠螺母安装板外侧固定连接有击打杆，且所述丝杆靠近滚珠螺母安装板处固定连接空心轴，所述丝杆远离滚珠螺母安装板一端设置有位置标志块；
3、所述位置标志块处还设置有光电开关滑槽，所述光电开关滑槽上固定连接有光电开关。
4、作为本专利技术所述wafe
5、作为本专利技术所述wafer定位升降装置的一种优选方案，其中：所述定位机构包括活动组件和固定组件，所述活动组件包括储气囊，所述储气囊一侧与第一输气管固定连接；
6、所述储气囊对应第一输气管处设置有单向进气阀，所述储气囊远离单向进气阀一侧开设有第一通孔，所述储气囊内部靠近第一通孔处固定连接有磁吸环，所述磁吸环嵌套连接有密封环，所述储气囊内部靠近密封环处设置有活动磁球，且所述第一通孔远离磁吸环一侧固定连接有第二输气管一端，所述第二输气管另一端固定连接固定组件。
7、作为本专利技术所述wafer定位升降装置的一种优选方案，其中：所述储气囊远离固定组件一侧固定连接有支撑架，所述支撑架上固定连接有支撑杆，所述支撑杆铰接有两个运动杆，所述两个运动杆之间设置有挤压弹簧，所述支撑架对应两个运动杆两侧均设置有挡板。
8、作为本专利技术所述wafer定位升降装置的一种优选方案，其中：所述活动组件还包括支撑箱，所述支撑箱内部中空且呈开口设置，其内部固定连接有固定杆，所述固定杆数目为二。
9、作为本专利技术所述wafer定位升降装置的一种优选方案，其中：所述两个固定杆分别转动连接转动杆和推杆，所述转动杆一端固定连接有第一正磁块，另一端固定连接有第一负磁块，且所述转动杆靠近正磁块的一端固定连接有第一弹力绳一端；
10、所述推杆呈直角设置，其一端固定连接第二正磁块，所述推杆另一端固定连接推片，所述推杆靠近推片一侧固定连接有第二弹力绳一端，所述第一弹力绳和第二弹力绳另一端均与支撑箱内侧底部固定连接。
11、作为本专利技术所述wafer定位升降装置的一种优选方案，其中：所述固定组件包括载片台，所述载片台内部中空且设置有输气管道，所述输气管道一端固定连接第二输气管，所述输气管道另一端固定连接有移动杆，所述载片台上开设有滑动槽，所述滑动槽数目为四且与移动杆滑动连接。
12、作为本专利技术所述wafer定位升降装置的一种优选方案，其中：所述移动杆数目为四呈四角设置，且所述移动杆内部中空，其远离输气管道一端固定连接固定气囊，所述移动杆上固定连接拉绳一端，所述拉绳另一端固定连接有置物垫；
13、所述置物垫靠近拉绳一侧设置有若干挤压块，所述载片台靠近拉绳一侧对应挤压块处设置有若干卡块，所述载片台与置物垫之间对称设置有两个活动弹簧。
14、作为本专利技术所述wafer定位升降装置的一种优选方案，其中：所述载片台远离置物垫一侧对称设置有两个稳固件，所述稳固件与支撑箱固定连接，且所述稳固件远离支撑箱一侧对称开设有两个活动槽，所述活动槽底部固定连接有支撑弹簧，所述支撑杆两端均与活动槽滑动连接。
15、作为本专利技术所述wafer定位升降装置的一种优选方案，其中：所述储气囊靠近第一输气管一侧固定连接有挡片，所述储气囊远离支撑架一侧固定连接有按压板，所述按压板上设置有把手，且靠近按压板一侧的稳固件上对应开设有活动孔，所述活动孔与把手滑动连接。
16、本专利技术的有益效果：本专利技术由伺服电机带动丝杆滚珠螺母旋转使丝杆上下升降，改变由以往设计的通过气缸直线运动方向实现升降。这一设计能有效控制上下升降高度，确保升降精度；简化控制的同时，增强机构上下运动稳定性和耐久性，利用滚珠丝杆副的特性，达到控制晶圆升降的目的；
17、同时利用伺服马达闭环控制的特性，通过各零件旋转和运动的比例精准控制上下位置，不仅有助于提高生产过程中的精确度和一致性，还能降低因位置误差而导致的废品率，从而提高生产效率和质量。此外，该机构还可以适应不同工作条件，为多种应用场景提供了更大的灵活性和可适应性。
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1.一种wafer定位升降装置，其特征在于：包括：伺服电机(100)，还包括：
2.如权利要求1所述的wafer定位升降装置，其特征在于：还包括气缸(400)，所述气缸(400)与所述击打杆(204a)位置相对应，且所述气缸(400)内部嵌套连接有伸缩杆(401)，所述伸缩杆(401)与气缸(400)之间设置有压缩弹簧(402)，并且所述气缸(400)远离伸缩杆(401)一侧固定连接有第一输气管(403)一端，所述第一输气管(403)另一端固定连接定位机构(300)。
3.如权利要求1或2所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述定位机构(300)包括活动组件(301)和固定组件(302)，所述活动组件(301)包括储气囊(301a)，所述储气囊(301a)一侧与第一输气管(403)固定连接；
4.如权利要求3所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述储气囊(301a)远离固定组件(302)一侧固定连接有支撑架(301b)，所述支撑架(301b)上固定连接有支撑杆(301b-1)，所述支撑杆(301b-1)铰接有两个运动杆(301b-2
5.如权利要求3所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述活动组件(301)还包括支撑箱(301c)，所述支撑箱(301c)内部中空且呈开口设置，其内部固定连接有固定杆(301c-1)，所述固定杆(301c-1)数目为二。
6.如权利要求5所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述两个固定杆(301c-1)分别转动连接转动杆(301d)和推杆(301e)，所述转动杆(301d)一端固定连接有第一正磁块(301d-1)，另一端固定连接有第一负磁块(301d-2)，且所述转动杆(301d)靠近第一正磁块(301d-1)的一端固定连接有第一弹力绳(301d-3)一端；
7.如权利要求4所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述固定组件(302)包括载片台(302a)，所述载片台(302a)内部中空且设置有输气管道(302a-1)，所述输气管道(302a-1)一端固定连接第二输气管(301a-6)，所述输气管道(302a-1)另一端固定连接有移动杆(302b)，所述载片台(302a)上开设有滑动槽(302a-2)，所述滑动槽(302a-2)数目为四且与移动杆(302b)滑动连接。
8.如权利要求7所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述移动杆(302b)数目为四呈四角设置，且所述移动杆(302b)内部中空，其远离输气管道(302a-1)一端固定连接固定气囊(302b-1)，所述移动杆(302b)上固定连接拉绳(302b-2)一端，所述拉绳(302b-2)另一端固定连接有置物垫(302c)；
9.如权利要求4或8所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述载片台(302a)远离置物垫(302c)一侧对称设置有两个稳固件(302a-3)，所述稳固件(302a-3)与支撑箱(301c)固定连接，且所述稳固件(302a-3)远离支撑箱(301c)一侧对称开设有两个活动槽(302a-4)，所述活动槽(302a-4)底部固定连接有支撑弹簧(302a-5)，所述支撑杆(301b-1)两端均与活动槽(302a-4)滑动连接。
10.如权利要求9所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述储气囊(301a)靠近第一输气管(403)一侧固定连接有挡片(301a-7)，所述储气囊(301a)远离支撑架(301b)一侧固定连接有按压板(301a-8)，所述按压板(301a-8)上设置有把手(301a-9)，且靠近按压板(301a-8)一侧的稳固件(302a-3)上对应开设有活动孔(302a-6)，所述活动孔(302a-6)与把手(301a-9)滑动连接。
...【技术特征摘要】
1.一种wafer定位升降装置，其特征在于：包括：伺服电机(100)，还包括：
2.如权利要求1所述的wafer定位升降装置，其特征在于：还包括气缸(400)，所述气缸(400)与所述击打杆(204a)位置相对应，且所述气缸(400)内部嵌套连接有伸缩杆(401)，所述伸缩杆(401)与气缸(400)之间设置有压缩弹簧(402)，并且所述气缸(400)远离伸缩杆(401)一侧固定连接有第一输气管(403)一端，所述第一输气管(403)另一端固定连接定位机构(300)。
3.如权利要求1或2所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述定位机构(300)包括活动组件(301)和固定组件(302)，所述活动组件(301)包括储气囊(301a)，所述储气囊(301a)一侧与第一输气管(403)固定连接；
4.如权利要求3所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述储气囊(301a)远离固定组件(302)一侧固定连接有支撑架(301b)，所述支撑架(301b)上固定连接有支撑杆(301b-1)，所述支撑杆(301b-1)铰接有两个运动杆(301b-2)，所述两个运动杆(301b-2)之间设置有挤压弹簧(301b-3)，所述支撑架(301b)对应两个运动杆(301b-2)两侧均设置有挡板(301b-4)。
5.如权利要求3所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述活动组件(301)还包括支撑箱(301c)，所述支撑箱(301c)内部中空且呈开口设置，其内部固定连接有固定杆(301c-1)，所述固定杆(301c-1)数目为二。
6.如权利要求5所述的wafer定位升降装置，其特征在于：所述两个固定杆(301c-1)分别转动连接转动杆(301d)和推杆(301e)，所述转动杆(301d)一端固定连接有第一正磁块(301d-1)，另一端固定连接有第一负磁块(301d-2)，且所述转动杆(301d)靠近第一正磁块(301d-1)...
【专利技术属性】
技术研发人员：盛勇峰，王开兵，张强，
申请(专利权)人：上海悦匠实业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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