【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电磁通信，更具体的是涉及一种基于特定函数的电磁屏蔽结构。
技术介绍
1、新一代移动通信技术在速率、时延、连接数以及移动性上有极大提升。但由于频率的上升导致波长减少，因此很多在前代移动通信中没有考虑的影响不能简单忽略，比如电磁波穿透墙壁、窗户等介质层时的反射特性和传输损耗，以及空间中存在的各种电磁信号的干扰问题。
2、为了有效减轻通信系统存在同频干扰等问题，新型电磁屏蔽在近几年受到研究者的关注，超材料以及超表面领域的长足发展为解决同频干扰的问题提供了解决方案：通过在介质基材上附着周期排列的金属图案可以调控介质基材的等效介电常数和等效磁导率，这使得电磁波在介质基材大角度斜入射情况下实现电磁屏蔽成为可能，但是现有技术中的超表面结构，不具有电磁屏蔽的功能，因此，提出一种基于特定函数的电磁屏蔽结构来解决上述问题很有必要。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于：解决现有技术中的超表面结构，其并不能有效减少介质基材的电磁波的透射性能的问题。
2、本专利技术为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
3、一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，包括：
4、介质基板层，所述介质基板层包括两层基础介质层和两层基础介质层之间的空气介质层；
5、金属图案功能层，所述金属图案功能层包括透明柔性材料层、金属图案层和oca胶层，所述透明柔性材料层通过oca胶层粘合到介质基板层外侧表面。
6、进一步地，所述的介质基板层为电磁波透波材料，如
7、进一步地，所述透明柔性材料为pet材料。
8、进一步地，所述金属图案层通过cu mesh工艺印刷在透明柔性材料层的一侧表面。
9、进一步地，所述金属图案功能层的金属图案单元的等间隔排布周期t，周期t满足公式：
10、
11、c为真空中光速，f0为中心频率；
12、er为介质基板材料介电常数；h为介质基板材料厚度；ξ为修正因子；
13、根据不同材料厚度等实际情况调整，-0.1λ0≤ξ≤0.1λ0，所有参数单位为mm。
14、进一步地，所述的金属图案功能层由周期性等间隔排布的金属图案单元组成；金属图案单元为方形结构，是中心对称的符合余弦函数曲线的金属条与一系列长度符合特定函数分布的与金属条相交的金属枝节以单元中心90°旋转对称而成的图案。
15、进一步地，所述金属图案单元中建立以单元中心为轴心的两个坐标轴与方形两个直角边相平行的xy坐标系；在坐标系上作函数：
16、(其中)；
17、与函数：
18、(其中)；
19、金属图案单元中的金属条与函数f1(x)(其中0＜x≤l,l为金属条在x轴方向最大值，与采样间隔和采样点相关)相重合；金属图案单元中的金属枝节为在x轴上以做一系列等间隔的与坐标系x轴相垂直的与函数f1(x)和函数f2(x)相交的一系列线段；金属条与金属枝节保持长度不变，通过展宽宽度与90°旋转对称，即可形成所需金属图案单元；金属条与金属枝节线宽等宽，线宽满足0.02t≤w≤0.04t。
20、进一步地，一系列金属枝节按等间隔采样而成，采样间隔d满足0.03t≤d≤0.08t，采样数为n(其中n取最大值)，金属条满足公式：
21、(其中0≤x≤nd,0.04t≤a1≤0.12t)。
22、优选的，所述介质基板层为单层或多层结构，其每一层的厚度、层与层之间的间隔为实际场景尺寸，本专利技术根据介质基板层具体尺寸调整金属图案功能层单元结构尺寸。
23、与现有技术相比，本专利技术的有益效果在于：
24、1、本专利技术可应用于建筑外墙、玻璃窗、塑料、木板等采用介质基材结构部位，通过在结构表面粘贴金属图案功能层的方式，从而在特定频段特定电磁波来波方向内，大幅减小电磁波在介质基材的透射幅度，该专利技术可以用于改善采用介质基材的建筑同频干扰问题。
25、2、本专利技术适用范围广，实际场景应用的单层或多层介质基板，本专利技术根据介质基板层具体尺寸灵活金属图案功能层的尺寸，以实现最佳的性能。
26、3、本专利技术采用印制电路板的蚀刻工艺，可保证整体结构强度；采用导电玻璃ito工艺，可保证玻璃的高透光性；采用cu mesh工艺将金属图案功能层先印刷于透明柔性材料层后粘贴至介质基板的工艺，可实现介质基板表面的高可见性，和透明材料介质基板(例如玻璃、亚克力材料等)的高透光性。
27、4、本专利技术安装方式为后装工艺，即在不更换原有介质基板的条件下完成，将设计好的金属图案功能层通过粘接工艺粘贴至介质基板表面，该方式大幅提高了应用的灵活度，使得该结构的广泛应用和普及成可能。
28、5、本专利技术的金属图案功能层采用印刷于柔性材料并粘接于介质基板上的方式，极大地方便了共形的需求，应用更加广泛。
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1.一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述的介质基板层为电磁波透波材料。
3.根据权利要求1所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述透明柔性材料为PET材料。
4.根据权利要求3所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述金属图案层通过Cu Mesh工艺印刷在透明柔性材料层的一侧表面。
5.根据权利要求4所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述金属图案功能层的金属图案单元的等间隔排布周期T，周期T满足公式：
6.根据权利要求5所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述的金属图案功能层为周期性等间隔排布的金属图案单元组成；金属图案单元为方形结构，是中心对称的符合余弦函数曲线的金属条与一系列长度符合特定函数分布的与金属条相交的金属枝节以单元中心90°旋转对称而成的图案。
7.根据权利要求6所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述金属图案单元中建立以单元中心为轴心的两
8.根据权利要求1所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：一系列金属枝节按等间隔采样而成，采样间隔d满足0.03T≤d≤0.08T，采样数为n(其中取最大值)，金属条满足公式：
9.根据权利要求1所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述介质基板层为单层或多层结构，其每一层的厚度、层与层之间的间隔为实际场景尺寸。
...【技术特征摘要】
1.一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述的介质基板层为电磁波透波材料。
3.根据权利要求1所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述透明柔性材料为pet材料。
4.根据权利要求3所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述金属图案层通过cu mesh工艺印刷在透明柔性材料层的一侧表面。
5.根据权利要求4所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述金属图案功能层的金属图案单元的等间隔排布周期t，周期t满足公式：
6.根据权利要求5所述的一种基于特定函数的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述的金属图案功能层为周期性等间隔排布的金属图...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁雄帆，符道临，熊伟，于瑞涛，
申请(专利权)人：江苏赛博空间科学技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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