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一种设有镂空层的戒指制造技术

技术编号:4079171 阅读:232 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供了一种设有镂空层的戒指,包括指环,在指环的内表面上设有凹槽,所述凹槽顶部设有垫层,垫层完全覆盖凹槽并与凹槽的边缘位于同一平面,所述垫层呈网状。网状的垫层与凹槽之间形成透气空间,因此透气性好,且佩戴舒适。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种戒指,具体是指一种设有镂空层的戒指
技术介绍
随着生活水平的提高,各种首饰作为消费品快速进入人们的生活,目前在市场上 广泛销售的首饰诸如戒指、项链、吊坠等等,在制作及结构上大都采用了传统样式,比如戒 指,基本上是使用量最大,最常见的首饰,对于男戒或者镶嵌大体积钻石或宝石的女戒,与 手指接触的表面比较宽,在佩戴这类彰显豪华或奢侈的时,指环内表面与手指紧密接触,因 接触面积大,故透气性差,容易弓I起人体不适。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种设有镂空层的戒指,指环内表面上设有镂空层, 佩戴时透气性好,佩戴舒适。为实现上述目的,本技术的解决方案为一种设有镂空层的戒指,包括指环, 在指环的内表面上设有凹槽,所述凹槽顶部设有垫层,垫层完全覆盖凹槽并与凹槽的边缘 位于同一平面,所述垫层呈网状。网状的垫层与凹槽之间形成透气空间,因此透气性好,且 佩戴舒适。所述的一种设有镂空层的戒指,所述指环的部分内表面上设有凹槽,该凹槽顶部 设有将其全部覆盖的垫层,所述垫层呈网状。所述的一种设有镂空层的戒指,所述指环的全部内表面上设有凹槽,该凹槽顶部 设有将其全部覆盖的垫层,所述垫层呈网状。所述的一种设有镂空层的戒指,所述凹槽及垫层的弯曲度与指环一致。采用上述结构的有益技术效果在于,因在指环的内表面上设有网状垫层,网状的 垫层与凹槽之间形成透气空间,因此透气性好,且佩戴舒适。附图说明图1为本技术的立体图;图2为本技术的第一实施例的垫层立体图;图3为本技术的第二实施例的垫层立体图。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本新型方案,以下结合附图和实施方式对本 新型作进一步的详细说明。如图1所示,一种设有镂空层的戒指,包括指环1,在指环1的内表面上设有凹槽 2,所述凹槽2顶部设有垫层3,垫层3完全覆盖凹槽2并与凹槽2的边缘位于同一平面,所 述垫层3呈网状。所述凹槽2及垫层3的弯曲度与指环1一致。网状的垫层3与凹槽2之间形成透气空间,因此透气性好,且佩戴舒适。请参考图2所示,所述指环1的部分内表面上设有凹槽2,该凹槽2顶部设有将其 全部覆盖的垫层3,所述垫层3呈网状。请参考图3所示,所述指环1的全部内表面上设有凹槽2,该凹槽2顶部设有将其 全部覆盖的垫层3,所述垫层3呈网状。虽然通过实施例描绘了本专利技术创造,本领域普通技术人员知道,本专利技术有许多变 形和变化而不脱离本专利技术的精神,希望所附的权利要求包括这些变形和变化而不脱离本发 明的精神。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设有镂空层的戒指,包括指环,其特征在于,在指环的内表面上设有凹槽,所述凹槽顶部设有垫层,垫层完全覆盖凹槽并与凹槽的边缘位于同一平面,所述垫层呈网状。

【技术特征摘要】
一种设有镂空层的戒指,包括指环,其特征在于,在指环的内表面上设有凹槽,所述凹槽顶部设有垫层,垫层完全覆盖凹槽并与凹槽的边缘位于同一平面,所述垫层呈网状。2.如权利要求1所述的一种设有镂空层的戒指,其特征在于,所述指环的部分内表面 上设有凹槽,该凹槽顶部设有将其全...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈伟峰
申请(专利权)人:陈伟峰
类型:实用新型
国别省市:94[中国|深圳]

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