【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于化学发光免疫分析，具体涉及一种适用于化学发光体系的清洗液及其制备方法和应用，进一步涉及用于吖啶酯直接化学发光检测试剂的磁珠清洗和吖啶酯直接化学发光检测仪器的系统清洗。
技术介绍
1、化学发光技术是将磁微粒分离、化学发光和免疫反应相结合，具有应用范围广、灵敏度高、特异性好等特点，在多种领域都得到了越来越多的关注。根据发光体系的不同，可将化学发光分为直接化学发光免疫分析、间接(酶促)化学发光免疫分析和电化学发光免疫技术。其中直接化学发光是一种通过化学发光剂直接标记抗原或抗体的免疫分析方法，这种方法具有检测灵敏度高，背景干扰低等特点。较为常用的化学发光剂是吖啶酯类化合物，这类化合物可直接标记抗体或抗原，然后与待测样本中相应的抗原或抗体、磁微粒包被的抗体或抗原反应，通过磁场把游离态和结合态的发光标记物分离，最后在含有过氧化氢的强碱激发液的作用下，快速发出强烈的可见光，通过对发光相对光强度的测定可进行定性或定量的检测。
2、总的来说，化学发光技术的步骤主要包括加样、温育、洗涤、激发和读取发光值。其中洗涤是检测的关键步骤之一，这一步骤的目的是将已反应完成的混合物放入磁分离系统进行处理，以清洗杂质和过量试剂，减少非特异性干扰物质对检测结果的影响；同时清洗液可为反应提供合适的缓冲环境，对检验结果的准确性、灵敏度和精密度起着关键作用。此外，清洗液对化学发光免疫分析仪的管路及加样针的维护也有重要意义。
3、目前市面上的清洗液种类众多，其中进口原装的清洗液虽然能保证较好的清洗效果和检验结果的稳定、一致，但这类清洗
4、cn113484306a公开了一种磁微粒化学发光清洗液及其制备方法和应用，其组分包括pbs缓冲液、钠离子、乙二胺四乙酸二钠、sds、吐温-20、叠氮钠和硅油型消泡剂。其中叠氮钠为高危化学试剂，在运输、储存、使用及废液处理上都有较高要求，且使用成本过高。sds对人的粘膜和上呼吸道有刺激作用，对眼和皮肤有刺激作用，可以引起呼吸系统过敏性反应，在使用时也需要对人员进行培训，带来危险的同时也增加了成本。
5、cn107118865a公开了一种清洗液，该清洗液使用了胆酸钠作为表面活性剂，这种成分具有洗涤能力过强，可溶解细胞膜，容易洗掉检测过程中已特异性结合的抗原或抗体等劣势，且胆酸钠含有具有反应活性的氮氢键，在免疫检测时易发生非特异性反应。加上该专利仅使用了proclin系列的防腐剂，该类防腐剂和叠氮钠相比虽然更加安全，也更为便宜，但防腐效果却远不如叠氮钠，特别是长时间存放是易析出沉淀，影响清洗效果。
6、在化学清洗液中，为了保证测得结果的准确、稳定，往往需要添加一定量的防腐剂，而在目前市面上的大多数清洗液中，使用的防腐剂要么含有剧毒(如叠氮钠)，要么缺乏稳定性，在长期存放时易失效；为了解决上述问题，也有的清洗液配方将多种防腐剂配合使用，以达到较好的防腐效果，但这种方法往往又使得清洗液配制变得更为麻烦，同时面临着成本升高，原料断供的风险。所以，找到一种价格便宜、防腐效果好、单组份，且国产化程度高的防腐剂就显得格外重要。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的主要目的在于提供一种成本低廉、组分简单、防腐效果好且国产化程度高的适用于化学发光体系的清洗液；本专利技术还提供了该化学发光清洗液的制备方法和应用。
2、本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的：
3、一种适用于化学发光体系的清洗液，每1000ml清洗液中，包括缓冲液：300-600mm；氯化盐：300-600mm；表面活性剂：0.1-0.3ml；防腐剂：0.05-0.2g；消泡剂：0.2-1.0ml；余量为水。
4、优选地，其中所述缓冲液为磷酸钠缓冲液或tris-hcl缓冲液中的一种。
5、优选地，其中所述氯化盐为氯化钾或氯化钠中的一种。
6、优选地，其中所述表面活性剂吐温-20或吐温-80中的一种。
7、优选地，其中所述防腐剂为2-羟基吡啶-n-氧化物。
8、优选地，其中所述消泡剂为有机硅消泡剂。
9、一种前述适用于化学发光体系的清洗液的制备方法，包括如下步骤：
10、1)配置ph为6.5-7.5的缓冲液；
11、2)按照配方要求，将氯化盐、防腐剂、表面活性剂以及消泡剂加入缓冲液中，用水定容至1000ml，即得清洗剂。
12、与现有技术相比，本专利技术至少具有以下优点：
13、本专利技术所提供的一种适用于化学发光体系的清洗液，其通过使用2-羟基吡啶-n-氧化物作为防腐剂，该防腐剂具有成本低，使用方便，防腐抗菌的效果好，对动物及人体无明显不良影响，对环境污染也较小，同时具有优异的清洗效果，保证了检测结果的稳定性、准确性，可大规模推广使用。
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1.一种适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，每1000mL清洗液中，包括缓冲液：300-600mM；氯化盐：300-600mM；表面活性剂：0.1-0.3mL；防腐剂：0.05-0.2g；消泡剂：0.2-1.0mL；余量为水。
2.根据权利要求1所述的适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，所述缓冲液为磷酸钠缓冲液或Tris-HCl缓冲液中的一种。
3.根据权利要求1所述的适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，所述氯化盐为氯化钾或氯化钠中的一种。
4.根据权利要求1所述的适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，所述表面活性剂吐温-20或吐温-80中的一种。
5.根据权利要求4所述的适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，所述防腐剂为2-羟基吡啶-N-氧化物。
6.根据权利要求5所述的适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，所述消泡剂为有机硅消泡剂。
7.一种根据权利要求1-6中任一项所述的适用于化学发光体系的清洗液的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
【技术特征摘要】
1.一种适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，每1000ml清洗液中，包括缓冲液：300-600mm；氯化盐：300-600mm；表面活性剂：0.1-0.3ml；防腐剂：0.05-0.2g；消泡剂：0.2-1.0ml；余量为水。
2.根据权利要求1所述的适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，所述缓冲液为磷酸钠缓冲液或tris-hcl缓冲液中的一种。
3.根据权利要求1所述的适用于化学发光体系的清洗液，其特征在于，所述氯化盐为氯化钾或氯化钠中...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢军，王智颖，夏凤，胡顺利，樊砚，高飞，袁慧，杨科，王远，
申请(专利权)人：重庆鉴星生物科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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