【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种对基板进行处理的基板处理装置。基板例如可举出：半导体基板、fpd(flat panel display；平板显示器)用的基板、掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。fpd例如可举出：液晶显示装置、有机el(electroluminescence；电致发光)显示装置等。
技术介绍
1、作为现有的基板处理装置，有一种混合式的基板处理装置，其具备：对多枚基板一并进行处理的批处理式处理模块(批处理部)、对由批处理式处理模块进行了处理的基板逐枚进行处理的单片式处理模块(单片处理部)、对基板的姿态进行变换的旋转机构(例如参照：日本特表2016－502275号公报和日本特开2021－064652号公报)。
2、在日本特开2018－056341号公报中，公开了如图1a所示那样的姿态变更机构201。姿态变更机构201具备：一对水平支撑部件203、一对垂直支撑部件205、圆柱状的端部抵接部207、安装块209和旋转部211。一对水平支撑部件203、一对垂直支撑部件205、圆柱状的端部抵接部207立设于安装块209。安装块209可利用旋转部211绕水平轴ax12进行旋转。
3、一对垂直支撑部件205能够向箭头ar10的方向移动，端部抵接部207能够向箭头ar11的方向移动。在铅垂姿态的基板w变换为水平姿态之后，端部抵接部207从虚线的位置向实线的基板w的端部的位置移动。之后，一对垂直支撑部件205从实线的位置向虚线的位置移动。由此，如图1b所示，使端部抵接部207与基板w抵接并
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、但是，对于具备这样的结构的基板处理装置而言，有时希望以不利用端部抵接部207的方式来解除一对(两个)垂直支撑部件(铅垂保持部)205对基板w的保持。
3、本专利技术针对该情况而做出，目的在于，提供一种基板处理装置，能够良好地解除两个铅垂保持部对基板的保持。
4、用于解决课题的方案
5、为了实现该目的，本专利技术采取如下结构。即，本专利技术的基板处理装置连续地进行连续地进行对多枚基板一并进行处理的批处理和对基板逐枚进行处理的单片处理，所述基板处理装置的特征在于，具备：批处理槽，其对多枚基板一并进行处理；分批基板输送机构，其向所述批处理槽一并输送铅垂姿态的所述多枚基板；单片处理腔室，其对基板逐枚进行处理；水平基板输送机构，其向所述单片处理腔室逐枚输送水平姿态的基板；以及姿态变换机构，其将进行了批处理的所述多枚基板从垂直姿态变换为水平姿态，所述姿态变换机构具备：基板保持部，其对以预定间隔配置的铅垂姿态的所述多枚基板进行保持；以及姿态变换部，其从所述基板保持部接收所述多枚基板，并将接收的所述多枚基板从铅垂姿态变换为水平姿态，所述姿态变换部具备：两个水平保持部，其为收纳所述多枚基板的两个水平保持部，且在所述多枚基板为水平姿态的情况下载置所述多枚基板；两个铅垂保持部，其在所述多枚基板为铅垂姿态的情况下，将由所述两个水平保持部收纳的所述多枚基板以铅垂姿态保持；支撑台，其对所述两个水平保持部和所述两个铅垂保持部进行支撑；支撑台旋转部，其使所述支撑台绕水平轴旋转；以及状态变更部，其在所述两个铅垂保持部能够保持所述多枚基板的保持状态、和所述保持状态被解除的解除状态之间变更所述两个铅垂保持部的状态，所述两个铅垂保持部中的第一铅垂保持部具备：第一旋转部件，其相对于所述支撑台的支撑面呈直角延伸；以及第一保持部主体，其设置为在与所述第一旋转部件延伸的方向正交的方向上从所述第一旋转部件突出，所述两个铅垂保持部中的第二铅垂保持部具备：第二旋转部件，其相对于所述支撑台的所述支撑面呈直角延伸；以及第二保持部主体，其设置为在与所述第二旋转部件延伸的方向正交的方向上从所述第二旋转部件突出，所述第一保持部主体和所述第二保持部主体各自具备沿着所述多枚基板整齐排列的方向设置的多个保持槽，所述状态变更部使所述第一保持部主体和所述第二保持部主体分别绕所述第一旋转部件和所述第二旋转部件进行旋转，从而使所述两个铅垂保持部成为所述保持状态或者所述解除状态，在保持所述多枚基板的情况下，所述状态变更部使所述两个铅垂保持部成为所述保持状态，从而通过所述第一保持部主体和所述第二保持部主体夹持多枚基板，在通过所述支撑台旋转部使由所述两个铅垂保持部保持的所述多枚基板从铅垂姿态变换为水平姿态的情况下，所述状态变更部使所述两个铅垂保持部成为所述解除状态，从而使所述第一保持部主体和所述第二保持部主体远离所述多枚基板。
6、根据本专利技术的基板处理装置，在通过支撑台旋转部使由两个铅垂保持部保持的多枚基板从铅垂姿态变换为水平姿态的状态下，状态变更部使两个铅垂保持部成为解除状态，从而使第一保持部主体和第二保持部主体远离多枚基板。这里，通过使两个保持部主体旋转而成为解除状态，因此在解除时作用于基板的力(是引起基板的位置偏移的原因)可通过两个持部主体抵消。因此，不易发生基板的位置偏移。因此，能够良好地解除两个铅垂保持部对基板的保持。
7、另外，为了使两个铅垂保持部为保持状态和解除状态中的一方，第一保持部主体和第二保持部主体分别进行旋转。因此，能够使支撑台即姿态变换部紧凑地构成。
8、另外，在上述的基板处理装置中，优选，以比各基板的直径小的宽度配置所述第一旋转部件和所述第二旋转部件。为了成为解除状态，即使当各自具有多个保持槽的两个保持部主体旋转时基板发生位置偏移，第一旋转部件和第二旋转部件也会成为止挡部。因此，能够进一步防止基板的位置偏移。
9、另外，在上述的基板处理装置中，优选，还具备横旋转部，该横旋转部使所述基板保持部绕铅垂轴进行旋转。能够任意地改变基板的正反面的朝向。
10、另外，在上述的基板处理装置中，优选，所述第一保持部主体和所述第二保持部主体各自还具备多个通过槽，该多个通过槽沿着所述多枚基板整齐排列的方向设置，且用于分别使一枚基板通过，所述多个保持槽和所述多个通过槽为了在所述多个保持槽中保持所述多枚基板中的间隔一枚整齐排列的第一分割基板组而逐个交替地配置，所述姿态变换部从所述基板保持部接收所述多枚基板中的所述第一分割基板组，并且将接收的所述第一分割基板组从铅垂姿态变换为水平姿态。
11、两个铅垂保持部能够保持多枚基板中的间隔一枚整齐排列的第一分割基板组，因此能够扩大相邻的两枚基板的间隔。因此，水平基板输送机构能够容易地从姿态变换部取出基板。
12、另外，在上述的基板处理装置中，优选，还具备：相对移动部，其使所述基板保持部和所述两个铅垂保持部相对地水平移动；以及相对升降部，其使所述基板保持部和所述两个铅垂保持部相对地沿铅垂方向升降，当所述姿态变换部从所述基板保持部接收所述多枚基板时，所述相对移动部和所述相对升降部处于在所述基板保持部的下方配置所述两个铅垂保持部的状态即接收前状态，所述相对升降部从所述接收前状态变为在所述基板保持部的上方本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其连续地进行对多枚基板一并进行处理的批处理和对基板逐枚进行处理的单片处理，
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：
6.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其连续地进行对多枚基板一并进行处理的批处理和对基板逐枚进行处理的单片处理，
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其...
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