【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及同步电光采样，尤其涉及一种用于同步电光采样系统的夹具平台。
技术介绍
1、同步电光采样系统利用微波场与光场在电光晶体材料中相互作用，通过光场强度变化实现对电场变化信息采样。为实现电光采样，电光晶体需置于特定载物台上，其表面的共面电极间隔通常为几十μm，需要使用探针将光电器件输出信号导入到电极上。因此，同步电光采样系统要求实现需满足：(1)gsg探针(间隔50μm)为电光晶体电极上电；(2)入射光以特定角度由晶体表面入射并透射而出。
2、目前，现有的夹具平台为前后透射式，探针基座、电光晶体、光路结构置于竖直的面包板上，使用物理压片的方式将电光晶体固定在透光窗避免滑动。现有的夹具平台主要有以下缺点：
3、(1)结构灵活性差。由于玻片位置不可调，只能使用探针基座对下针位置进行调整，一旦达到位移极限，需要将探针基座拆除重新更换固定孔安装。特别是玻片损坏，需要更换的时候，整套系统均要从面包板上拆除，才能更换和重新调节。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的不足，本专利技术实施例的目的是提供一种用于同步电光采样系统的夹具平台，以解决现有夹具平台调节繁琐的问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术实施例提供了如下技术方案：
3、一种用于同步电光采样系统的夹具平台，包括：面包板和龙门架；所述面包板水平布置，面包板上设置有用于安装玻片的载物台，所述载物台能够带动玻片在水平方向移动；所述龙门架包括横梁和纵梁，所述纵梁上端连接在所述横梁的端部，
4、可选的，所述载物台包括二维调节单元、反光板和载物架，所述二维调节单元安装在所述面包板上，所述反光板安装在所述二维调节单元上，所述玻片安装在所述载物架上。
5、可选的，所述载物架为几字形，载物架下端可拆卸安装在所述反光板上，上端具有一载物槽，所述载物槽的四个角上布置有吸附孔，载物槽的左右两侧各设置两个气动接头，每个所述气动接头与对应的所述吸附孔连通。
6、可选的，所述载物槽前后两侧各设置一夹紧板，所述夹紧板上设置有腰形孔，通过所述腰形孔将夹紧板可拆卸安装在所述载物槽前后两侧的载物架上。
7、可选的，所述二维调节单元包括横向调节单元和纵向调节单元，所述横向调节单元与所述纵向调节单元结构相同，调节方向相垂直；所述横向调节单元包括第一固定座、第一滑台和第一调节器，所述第一固定座安装在所述面包板上，所述第一滑台和所述第一固定座滑动连接，所述第一调节器的本体固定在所述第一固定座上，第一调节器的芯轴抵在所述第一滑台上。
8、可选的，所述探针基座包括依次布置的第二固定座、第二滑台和第三滑台，所述第二滑台与所述第二固定座滑动连接，所述第三滑台与所述第二滑台转动连接，所述第二固定座上安装第三调节器，所述第三调节器的芯轴抵在所述第二滑台上，所述第二滑台上安装第二调节器，所述第二调节器的芯轴抵在所述第三滑台上。
9、可选的，还包括成像系统，所述龙门架的横梁上设置有导轨，所述成像系统滑动安装在所述横梁的导轨上；所述纵梁侧面设置有凹槽，所述第二固定座可拆卸安装在所述纵梁的凹槽上。
10、可选的，还包括聚光调节架，所述聚光调节架包括从下到上依次设置的y轴调节单元、x轴调节单元和z轴调节单元，所述z轴调节单元侧面依次设置有rz旋转调节单元、ry旋转调节单元和rx旋转调节单元；所述y轴调节单元包括y轴粗调单元和y轴精调单元，所述x轴调节单元包括x轴粗调单元和x轴精调单元，所述z轴调节单元包括z轴粗调单元和z轴精调单元。
11、可选的，所述y轴调节单元包括第三固定座、第四滑台、第四调节器和第五调节器，所述第四调节器安装在所述第三固定座上，所述第四调节器的芯轴抵在所述第四滑台上，所述第四滑台侧面安装一精调座，所述第五调节器安装在所述精调座上，第五调节器的芯轴抵在所述第三固定座上，所述x轴调节单元和z轴调节单元与所述y轴调节单元结构相同。
12、可选的，所述rz旋转调节单元包括第五滑台、第六滑台和第六调节器，所述第六滑台与所述第五滑台转动连接，所述第六调节器安装在所述第五滑台上，第六调节器的芯轴抵在所述第六滑台上，所述ry旋转调节单元和rx旋转调节单元与rz旋转调节单元结构相同。
13、本专利技术实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
14、本专利技术的夹具平台将载物台安装在水平布置的面包板上，探针基座安装在龙门架的纵梁上，探针基座和载物台均可灵活调整，通过探针基座和载物台的调整，可以调节探针落在电极上的位置，避免频繁调整探针及探针基座。即能够更加灵活调整探针基座、载物台、玻片之间的对应关系，更换玻片时也无需将整套系统从面板上拆除，提升了调试和测试效率。
15、本专利技术附加方面的优点将在下面的描述中给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
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1.一种用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，包括：面包板和龙门架；
2.如权利要求1所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述载物台包括二维调节单元、反光板和载物架，所述二维调节单元安装在所述面包板上，所述反光板安装在所述二维调节单元上，所述玻片安装在所述载物架上。
3.如权利要求2所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述载物架为几字形，载物架下端可拆卸安装在所述反光板上，上端具有一载物槽，所述载物槽的四个角上布置有吸附孔，载物槽的左右两侧各设置两个气动接头，每个所述气动接头与对应的所述吸附孔连通。
4.如权利要求3所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述载物槽前后两侧各设置一夹紧板，所述夹紧板上设置有腰形孔，通过所述腰形孔将夹紧板可拆卸安装在所述载物槽前后两侧的载物架上。
5.如权利要求2所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述二维调节单元包括横向调节单元和纵向调节单元，所述横向调节单元与所述纵向调节单元结构相同，调节方向相垂直；所述横向调节单元包括第一固定座、第一滑台
6.如权利要求1所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述探针基座包括依次布置的第二固定座、第二滑台和第三滑台，所述第二滑台与所述第二固定座滑动连接，所述第三滑台与所述第二滑台转动连接，所述第二固定座上安装第三调节器，所述第三调节器的芯轴抵在所述第二滑台上，所述第二滑台上安装第二调节器，所述第二调节器的芯轴抵在所述第三滑台上。
7.如权利要求6所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，还包括成像系统，所述龙门架的横梁上设置有导轨，所述成像系统滑动安装在所述横梁的导轨上；所述纵梁侧面设置有凹槽，所述第二固定座可拆卸安装在所述纵梁的凹槽上。
8.如权利要求1所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，还包括聚光调节架，所述聚光调节架包括从下到上依次设置的Y轴调节单元、X轴调节单元和Z轴调节单元，所述Z轴调节单元侧面依次设置有RZ旋转调节单元、RY旋转调节单元和RX旋转调节单元；
9.如权利要求8所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述Y轴调节单元包括第三固定座、第四滑台、第四调节器和第五调节器，所述第四调节器安装在所述第三固定座上，所述第四调节器的芯轴抵在所述第四滑台上，所述第四滑台侧面安装一精调座，所述第五调节器安装在所述精调座上，第五调节器的芯轴抵在所述第三固定座上，所述X轴调节单元和Z轴调节单元与所述Y轴调节单元结构相同。
10.如权利要求8所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述RZ旋转调节单元包括第五滑台、第六滑台和第六调节器，所述第六滑台与所述第五滑台转动连接，所述第六调节器安装在所述第五滑台上，第六调节器的芯轴抵在所述第六滑台上，所述RY旋转调节单元和RX旋转调节单元与RZ旋转调节单元结构相同。
...【技术特征摘要】
1.一种用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，包括：面包板和龙门架；
2.如权利要求1所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述载物台包括二维调节单元、反光板和载物架，所述二维调节单元安装在所述面包板上，所述反光板安装在所述二维调节单元上，所述玻片安装在所述载物架上。
3.如权利要求2所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述载物架为几字形，载物架下端可拆卸安装在所述反光板上，上端具有一载物槽，所述载物槽的四个角上布置有吸附孔，载物槽的左右两侧各设置两个气动接头，每个所述气动接头与对应的所述吸附孔连通。
4.如权利要求3所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述载物槽前后两侧各设置一夹紧板，所述夹紧板上设置有腰形孔，通过所述腰形孔将夹紧板可拆卸安装在所述载物槽前后两侧的载物架上。
5.如权利要求2所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述二维调节单元包括横向调节单元和纵向调节单元，所述横向调节单元与所述纵向调节单元结构相同，调节方向相垂直；所述横向调节单元包括第一固定座、第一滑台和第一调节器，所述第一固定座安装在所述面包板上，所述第一滑台和所述第一固定座滑动连接，所述第一调节器的本体固定在所述第一固定座上，第一调节器的芯轴抵在所述第一滑台上。
6.如权利要求1所述的用于同步电光采样系统的夹具平台，其特征在于，所述探针基座包括依次布置的第二固定座、第二滑台和第三滑台，所述第二滑台与所述第二固定座滑动连接，所述第三滑台与所...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘超，郭裕聪，朱兴邦，杨延昭，赵耀，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十一研究所，
类型：发明
国别省市：
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