System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 显示设备及制造显示设备的方法技术_技高网

显示设备及制造显示设备的方法技术

技术编号:40711966 阅读:11 留言:0更新日期:2024-03-22 11:13
本申请涉及显示设备及制造显示设备的方法。显示设备包括:基板;像素电极,设置在基板上;分隔层,设置在基板上并限定暴露像素电极的至少一部分的开口;发光层,在分隔层的开口内设置在像素电极上;公共电极,在分隔层的开口内设置在发光层上;盖层,设置在公共电极和分隔层上,并围绕分隔层的开口的侧表面;以及颜色转换图案,在分隔层的开口内设置在盖层上。

【技术实现步骤摘要】

实施方式涉及显示设备及制造显示设备的方法。更具体地,实施方式涉及提供视觉信息的显示设备及制造该显示设备的方法。


技术介绍

1、显示设备包括发光层和多个颜色转换图案。发光层发光,并且颜色转换图案转换光的颜色。因此,颜色转换图案可以发射具有与入射光的颜色不同的颜色的光。

2、颜色转换图案可以包括量子点,并且分为红色转换图案、绿色转换图案和散射图案(或蓝色转换图案)。红色转换图案体现红色像素,绿色转换图案体现绿色像素,并且散射图案体现蓝色像素。


技术实现思路

1、实施方式提供了具有改进的显示质量的显示设备。

2、实施方式提供了制造显示设备的方法。

3、实施方式中的显示设备包括:基板;像素电极,设置在基板上;分隔层,设置在基板上并限定暴露像素电极的至少一部分的开口;发光层,在分隔层的开口内设置在像素电极上;公共电极,在分隔层的开口内设置在发光层上;盖层,设置在公共电极和分隔层上,并围绕分隔层的开口的侧表面;以及颜色转换图案,在分隔层的开口内设置在盖层上。

4、在实施方式中,公共电极可以接触分隔层。

5、在实施方式中,分隔层可以包括设置在基板上的无机层、设置在无机层上的第一金属层和设置在第一金属层上的第二金属层。

6、在实施方式中,与第二金属层的邻近开口的侧表面相比,第一金属层的邻近开口的侧表面可以突出。

7、在实施方式中,显示设备还可以包括设置在分隔层上并与分隔层重叠的像素限定层。

8、在实施方式中,发光层可以还设置在分隔层上并与分隔层重叠,其中,发光层的在开口内设置在像素电极上的部分和发光层的设置在分隔层上并与分隔层重叠的部分彼此间隔开。

9、在实施方式中,盖层可以沿着分隔层的开口的侧表面从公共电极的第一表面(上表面)延伸到分隔层的第一表面(上表面),公共电极的第一表面(上表面)可以与公共电极的面向衬底的第二表面(下表面)相对,并且分隔层的第一表面(上表面)可以与分隔层的面向衬底的第二表面(下表面)相对。

10、在实施方式中,盖层可以包括无机材料。

11、实施方式中的制造显示设备的方法包括:在基板上形成像素电极;在基板上形成初步分隔层;通过在初步分隔层中限定与像素电极重叠的开口来形成分隔层;在分隔层的开口内在像素电极上形成发光层;在分隔层的开口内在发光层上形成公共电极;在公共电极、分隔层和分隔层的开口的侧表面上形成盖层;以及在分隔层的开口内在盖层上形成颜色转换图案。

12、在实施方式中,公共电极可以接触分隔层。

13、在实施方式中,形成初步分隔层可以包括:在衬底上形成覆盖像素电极的初步无机层;在初步无机层上形成初步第一金属层;以及在初步第一金属层上形成初步第二金属层。

14、在实施方式中,形成分隔层可以包括:通过干蚀刻与像素电极重叠的初步分隔层来限定第一子开口;以及湿蚀刻初步第一金属层的通过干蚀刻而暴露的侧表面;以及通过蚀刻与像素电极重叠的初步无机层来限定与第一子开口重叠的第二子开口。

15、在实施方式中,第二子开口可以具有底切结构。

16、在实施方式中,盖层可以沿着分隔层的开口的侧表面从公共电极的第一表面延伸到分隔层的第一表面,公共电极的第一表面可以与公共电极的面向衬底的第二表面相对,并且分隔层的第一表面可以与分隔层的面向衬底的第二表面相对。

17、实施方式中的制造显示设备的方法包括:在基板上形成像素电极;在基板上形成初步分隔层;在初步分隔层上形成限定第一开口的像素限定层;通过在初步分隔层中限定与第一开口重叠的第二开口来形成分隔层;在分隔层的第二开口内在像素电极上形成发光层;在分隔层的第二开口内在发光层上形成公共电极;在公共电极、分隔层和分隔层的第二开口的侧表面上形成盖层;以及在分隔层的第二开口内在盖层上形成颜色转换图案。

18、在实施方式中,公共电极可以接触分隔层。

19、在实施方式中,形成初步分隔层可以包括在衬底上形成覆盖像素电极的初步无机层;在初步无机层上形成初步第一金属层;以及在初步第一金属层上形成初步第二金属层。

20、在实施方式中,形成分隔层可以包括:通过干蚀刻与像素电极重叠的初步分隔层来限定与第一开口重叠的第一子开口;以及湿蚀刻初步第一金属层的通过干蚀刻而暴露的侧表面;以及通过蚀刻与像素电极重叠的初步无机层来限定与第一子开口重叠的第二子开口。

21、在实施方式中,第二子开口可以具有底切结构。

22、在实施方式中,该方法还可以包括在形成盖层之前去除像素限定层。

23、在根据本公开的显示设备的实施方式中,发光层和公共电极可以对于每个像素是短路的并且通过单层盖层密封,由此最小化渗透路径,从而可以改善生长中的暗点。此外,由于金属层设置为围绕颜色转换图案的侧表面的一部分,因此从颜色转换图案发射的光被反射,从而可以提高显示设备的发光效率。此外,不需要除了盖层沉积工艺之外的单独的封装工艺,并且对于颜色转换图案,不需要单独的空间,从而可以简化显示设备的制造工艺。因此,可以提高显示设备的显示质量和生产率。

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【技术保护点】

1.一种显示设备,包括:

2.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述公共电极接触所述分隔层。

3.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述分隔层包括:

4.根据权利要求3所述的显示设备,其中,与所述第二金属层的邻近所述开口的侧表面相比,所述第一金属层的邻近所述开口的侧表面突出。

5.根据权利要求1所述的显示设备,还包括:

6.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述发光层还设置在所述分隔层上并与所述分隔层重叠,

7.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述盖层沿着所述分隔层的所述开口的所述侧表面从所述公共电极的第一表面延伸到所述分隔层的第一表面,

8.一种制造显示设备的方法,所述方法包括:

9.一种制造显示设备的方法,所述方法包括:

10.根据权利要求9所述的方法,还包括:

【技术特征摘要】

1.一种显示设备,包括:

2.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述公共电极接触所述分隔层。

3.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述分隔层包括:

4.根据权利要求3所述的显示设备,其中,与所述第二金属层的邻近所述开口的侧表面相比,所述第一金属层的邻近所述开口的侧表面突出。

5.根据权利要求1所述的显示设备,还包括:

6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:梁熙䞭成宇镛宋昇勇
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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