【技术实现步骤摘要】
本申请涉及超导射频加速器领域，更具体地说，是涉及一种用于超导腔中温烘烤的装置。
技术介绍
1、超导射频加速器是射频场加速器的一种，其具体是一种采用在液氦温度下，利用其射频超导谐振腔中的射频电磁场来加速带电粒子的装置。超导射频加速器具备腔体功率损耗低、长宏脉冲乃至连续波工作、束流品质和稳定性好、重复频率高等优点，是目前国际上加速器技术的主要发展方向之一。
2、超导射频加速器内的射频超导谐振腔(简称超导腔)以其优越性能越来越广泛地应用到加速器领域，其中，tesla型9-cell(参阅图1)超导腔加速结构具有低表面峰值场强等特点，经多年的研究，通过改进超导腔原材料(铌材)的材料纯度和表面处理工艺，其加速性能已得到显著提高。
3、超导腔加速性能的提高是射频超导研究的主线，其中，实现高性能超导腔的途径有两方面，一方面为采用大晶粒超导腔；另一方面为进行特殊的超导腔表面处理。目前，主要的超导腔表面处理手段有超声波清洗、缓冲化学抛光(bcp)、电抛光(ep)、高温烘烤、低温烘烤和高压水冲洗。后来又在此基础上发展了低温氮掺杂(n-infusion)技术和中温烘烤技术，以在更高梯度下保持高性能。
4、其中，超导腔中温烘烤是指在大型高真空烘烤炉内，对已经完成前序后处理工艺的超导腔开口放置，整体抽高真空，然后将超导腔加热到300℃～400℃后，保温3小时左右后降温，待温度到达常温，再向高真空烘烤炉内充气后，把超导腔取出并转运至超净间组装。然而，上述超导腔的内表面容易在向高真空烘烤炉内充气过程中以及转运过程中受到高真空
5、因此，现有技术还有待于改进。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种用于超导腔中温烘烤的装置，以解决现有在超导腔中温烘烤过程中，超导腔的内表面容易在向高真空烘烤炉内充气过程中以及转运过程中受到高真空炉内和空气中的微粒物污染的问题。
2、为实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案是：
3、一种用于超导腔中温烘烤的装置，包括超导腔本体、控温组件和测温组件，第一真空泵组和第二真空泵组，所述超导腔本体具有内腔，所述装置还包括：
4、真空罩体，其具有密封腔，所述超导腔本体设置于所述密封腔内；
5、加长过渡管，其一端穿入所述真空罩体的密封腔内，并与所述超导腔本体连接；
6、第一控制阀，其与所述加长过渡管的另一端连接；
7、第二控制阀，其一端设置于所述真空罩体上，并与所述密封腔连通；
8、所述控温组件和所述测温组件均设置于所述超导腔本体上，所述控温组件用于控制所述超导腔本体的温度，所述测温组件用于测量所述超导腔本体的温度；
9、所述第一真空泵组与所述第一控制阀连接，并用于对所述内腔抽真空；
10、所述第二真空泵组与所述第二控制阀连接，并用于对所述密封腔抽真空和充高纯气体。
11、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述装置还包括超导腔本体安装组件，所述超导腔本体安装组件设置于所述真空罩体的密封腔内，并用于安装所述超导腔本体。
12、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述超导腔本体安装组件包括：
13、两个滑动导轨，两个所述滑动导轨并列设置于所述密封腔内；
14、两个固定块，其分别设置于两个所述滑动导轨上，并与两个所述滑动导轨固定连接；
15、若干个滑块，若干个所述滑块依次设置于两个所述滑动导轨上，并位于两个所述固定块的一侧，若干个所述滑块与两个所述滑动导轨滑动连接；
16、若干个支撑支架，若干个所述支撑支架的其中一个设置于两个所述固定块上、其余的所述支撑支架对应设置于若干个所述滑块上，所述超导腔本体的各个部分分别设置于若干个所述支撑支架上。
17、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述装置还包括隔离部，所述隔离部包裹设置于所述超导腔本体上，所述控温组件和所述测温组件均设置于所述隔离部上。
18、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述隔离部为铝箔纸。
19、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述真空罩体包括：
20、真空支架；
21、真空底板，其设置于所述真空支架上；
22、真空罩，其罩设于所述真空底板背离所述真空支架的表面上。
23、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述真空底板为不锈钢板，其厚度为25-40mm。
24、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述真空底板靠近所述真空支架的表面上设置有至少一第一加强筋和若干个第二加强筋，所述第一加强筋与若干个所述第二加强筋垂直交叉设置。
25、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述密封罩的顶部上设置有手抓部。
26、根据以上所述的用于超导腔中温烘烤的装置，所述超导腔本体上具有第三控制阀，所述第三控制阀通过波纹管与所述加长过渡管连接。
27、本申请提供的一种用于超导腔中温烘烤的装置的有益效果至少在于：本申请分别通过第一真空泵组，经过第一控制阀和加长过渡管为超导腔本体的内腔抽真空、以及通过第二真空泵组，经过第二控制阀为真空罩体的密封腔抽真空和充高纯气体，这样在对密封腔充高纯气体的过程中，因加长过渡管和第一控制阀的存在，使得超导腔本体的内腔始终处于高真空状态，而无需与真空罩体的密封腔进行连通，从而避免了密封腔内的微粒物进入内腔并对其造成污染；并且，在将超导腔本体转运至超净间组装时，也因第一控制阀的阻挡而使外部空气(空气微粒物)无法进入至加强过渡管以及超导腔本体的内腔，进一步保障超导腔本体的内腔不受污染。
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1.一种用于超导腔中温烘烤的装置，包括超导腔本体、控温组件和测温组件，第一真空泵组和第二真空泵组，所述超导腔本体具有内腔，其特征在于，所述装置还包括：
2.如权利要求1所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述装置还包括超导腔本体安装组件，所述超导腔本体安装组件设置于所述真空罩体的密封腔内，并用于安装所述超导腔本体。
3.如权利要求2所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述超导腔本体安装组件包括：
4.如权利要求1所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述装置还包括隔离部，所述隔离部包裹设置于所述超导腔本体上，所述控温组件和所述测温组件均设置于所述隔离部上。
5.如权利要求4所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述隔离部为铝箔纸。
6.如权利要求1所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述真空罩体包括：
7.如权利要求6所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述真空底板为不锈钢板，其厚度为25-40mm。
8.如权利要求6所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特
9.如权利要求6所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述密封罩的顶部上设置有手抓部。
10.如权利要求1所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述超导腔本体上具有第三控制阀，所述第三控制阀通过波纹管与所述加长过渡管连接。
...【技术特征摘要】
1.一种用于超导腔中温烘烤的装置，包括超导腔本体、控温组件和测温组件，第一真空泵组和第二真空泵组，所述超导腔本体具有内腔，其特征在于，所述装置还包括：
2.如权利要求1所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述装置还包括超导腔本体安装组件，所述超导腔本体安装组件设置于所述真空罩体的密封腔内，并用于安装所述超导腔本体。
3.如权利要求2所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述超导腔本体安装组件包括：
4.如权利要求1所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所述装置还包括隔离部，所述隔离部包裹设置于所述超导腔本体上，所述控温组件和所述测温组件均设置于所述隔离部上。
5.如权利要求4所述的用于超导腔中温烘烤的装置，其特征在于，所...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭万红，岳伟明，吴慕坤，殷玉魁，房玉超，彭少华，吕敏，
申请(专利权)人：深圳综合粒子设施研究院，
类型：发明
国别省市：
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