工作台制造技术

本发明专利技术公开了一种工作台，包括平台、多个支撑件及气流导引单元。平台具有相对的承载面与背面以及从承载面贯穿至背面的多个容置孔。支撑件分别设置于容置孔内，而气流导引单元从平台的背面连接至容置孔。此外，每一支撑件包括壳体及滚动件，其中壳体具有容置槽，而滚动件设置于容置槽内，且滚动件局部凸出至容置槽外。本发明专利技术的工作台在更换承载面上的板材时，因可通过气流推动支撑件，使支撑件的滚动件局部凸出于承载面以支撑板材，因此，能有效减少推动板材时的摩擦力，进而使板材容易移动或更换。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种工作台，且尤其涉及一种用气流来驱动支撑件的工作台。
技术介绍
图1是现有一种曝光设备的工作台的示意图。请参照图1，现有曝光设备的工作台 100包括平台Iio及金属盖板120。平台110具有承载面112，而金属盖板120设置于平台 110的承载面112上。上述的金属盖板120用以承载待曝光的基板，且金属盖板120的厚度约数厘米。金 属盖板120上设有保护涂层(图未示)，以防止基板因摩擦金属盖板120而受损。此外，金 属盖板120的尺寸是配合基板的尺寸。换言之，当基板的尺寸更换时，金属盖板120也需更 换。另外，当保护涂层磨损时，也需更换新的金属盖板120，以防止基板磨损。在更换金属盖板120时，需施力(如推力F)于金属盖板120，以将金属盖板120推 离平台110的承载面112。然而，由于金属盖板120是整面接触承载面112，所以金属盖板 120与承载面112的接触面积较大，导致金属盖板120与承载面112之间的摩擦力较大。而 且，因金属盖板120的厚度较薄，导致施力不易。因此，现有曝光设备的工作台100具有金 属盖板120不易更换的缺点。此外，由于金属盖板120不易更换，所以在更换金属盖板120 时容易造成金属盖板120与平台110彼此刮伤，且金属盖板120也容易因施力不当而变形。
技术实现思路
本专利技术提供一种工作台，以使工作台上的板材较容易移动。为达上述优点，本专利技术提出一种工作台，其包括平台、多个支撑件及气流导引单 元。平台具有相对的承载面与背面以及从承载面贯穿至背面的多个容置孔。支撑件分别设 置于容置孔内，而气流导引单元从平台的背面连接至容置孔。此外，每一支撑件包括壳体及 滚动件，其中壳体具有容置槽，而滚动件设置于容置槽内，且滚动件局部凸出至容置槽外。在本专利技术的一实施例中，上述的每一支撑件更包括套筒，而壳体设置于套筒内。在本专利技术的一实施例中，上述的套筒的底部设有凸缘，每一容置孔包括相连通的 第一容置空间与第二容置空间，第一容置空间通至承载面，而第二容置空间设置于第一容 置空间与背面之间。第一容置空间的内径小于第二容置空间的内径，且第一容置空间与第 二容置空间的连接处设有挡壁。此挡壁为提供凸缘一限位高度。在本专利技术的一实施例中，上述的每一支撑件更包括密封环，环绕设置于凸缘的外 侧。在本专利技术的一实施例中，上述的凸缘设有环形槽，而密封环固定于环形槽内，且部 分密封环凸出于环形槽外。在本专利技术的一实施例中，上述的滚动件为万向滚珠或滚柱。在本专利技术的一实施例中，上述的工作台更包括多个连接垫，分别设置于容置孔内， 且邻接背面。气流导引单元包括多个支管，分别连接至连接垫。而且，每一连接垫具有一连3接孔。在本专利技术之一实施例中，上述之工作台更包括盖板，配置于平台之承载面，以遮盖 容置孔。在本专利技术的一实施例中，上述的工作台更包括基座，以承载平台。在本专利技术的一实施例中，上述的工作台更包括导热板，配置于基座与平台之间，其 中导热板内设有液体流道单元。在本专利技术的一实施例中，上述的平台内更设有多个支撑销，且支撑销适于伸出平 台的承载面外。在本专利技术的一实施例中，上述的每一容置孔内设有限位部，提供对应的壳体一限 位高度。本专利技术的工作台在更换承载面上的板材时，因可通过气流推动支撑件，使支撑件 的滚动件局部凸出于承载面以支撑板材，因此，能有效减少推动板材时的摩擦力，进而使板 材容易移动或更换。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。 附图说明图1是现有一种曝光设备的工作台的示意图；图2是本专利技术一实施例的一种工作台的示意图；图3是图2的支撑件及连接垫的立体分解图；图4A是图2的工作台用于承载板材时的示意图；图4B是施力推动图2的工作台上的板材的示意图；图5是本专利技术另一实施例的滚动件的示意图；图6是本专利技术另一实施例的工作台的示意图；图7是本专利技术另一实施例的工作台的示意图；图8是图7的支撑件的立体分解图；图9是本专利技术另一实施例的工作台的示意图；图10是本专利技术另一实施例的工作台的示意图。其中，附图标记100 工作台110:平台112:承载面120 金属盖板200、200a、200b、200c 工作台210,210b,210c 平台211 支撑销212 承载面213、216、216c 容置孔214:背面217 第一容置空间218 第二容置空间219 挡壁220、220，、220”、220c 支撑件221 环形槽222 壳体223 容置槽224、224，滚动件225 顶面226 套筒227、227”凸缘228 密封环230:气流导引单元232 支管240 连接垫242 连接孔250 盖板260 基座270 导热板300 板材A 气流D1、D2:内径F 推力P:限位处具体实施例方式图2是本专利技术一实施例的一种工作台的示意图，而图3是图2的支撑件及连接垫 的立体分解图。请参照图2与图3，本实施例的工作台200包括平台210、多个支撑件220及 气流导引单元230。平台210具有相对的承载面212与背面214以及从承载面212贯穿至 背面214的多个容置孔216。支撑件220分别设置于容置孔216内，而气流导引单元230从 平台210的背面214连接至容置孔216。此气流导引单元230可连接至气体供应装置(图 未式)。此外，每一支撑件220包括壳体222及滚动件224，其中壳体222具有容置槽223， 而滚动件224设置于容置槽223内，且滚动件224局部凸出至容置槽223外。上述的每一支撑件220例如还包括套筒226，而壳体223设置于套筒226内，且套 筒226的底部例如设有凸缘227。每一支撑件220的滚动件224例如为万向滚珠。此外， 每一容置孔216例如包括相连通的第一容置空间217与第二容置空间218。第一容置空间 217通至承载面212，而第二容置空间218设置于第一容置空间217与背面214之间。第一 容置空间217的内径Dl例如是小于第二容置空间218的内径D2，且第一容置空间217与第 二容置空间218的连接处设有挡壁219。此挡壁219提供凸缘227 —限位高度。另外，本实 施例的工作台200可更包括多个连接垫240，分别设置于容置孔216内，且邻接平台210的背面214。气流导引单元230包括多个支管232，而这些支管232分别连接至连接垫240。 具体而言，每一连接垫240具有一连接孔242，而支管232分别连接至这些连接孔242。连 接垫240除了供支管232连接外，还可将容置孔216的第二容置空间218的底部密封。图4A是图2的工作台用于承载板材时的示意图，而图4B是施力推动图2的工作 台上的板材的示意图。请先参照图4A，在未通入气流至气流导引单元230时，支撑件220因 重力的关系而处于容置孔216的底部，且滚动件224并未凸出于平台210的承载面212。此 时，板材300可放置于平台210的承载面212，以进行作业。请参照图4B，当欲移动板材300或将板材300搬离平台210时，可通过气体供应装 置提供气流A至气流导引单元230中。气流A可经由气流导引单元230的支管232通入容 置孔216内，以推动支撑件220，使滚动件224局部凸出于平台210的承载面212。如此本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种工作台，其特征在于，包括：一平台，具有相对的一承载面与一背面以及从该承载面贯穿至该背面的多个容置孔；多个支撑件，分别设置于该些容置孔内，每一支撑件包括：一壳体，具有一容置槽；一滚动件，设置于该容置槽内，且该滚动件局部凸出至该容置槽外；以及一气流导引单元，从该平台的该背面连接至该些容置孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李崇维，黄建森，温孟川，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]