【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及光刻，特别涉及一种辅助图形的放置方法、装置及计算机设备。
技术介绍
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技术介绍
1、光刻工艺是现代极大规模集成电路制造过程中最重要的制程工序，是通过光刻机将掩模上集成电路的设计图形实际转移到硅片上。随着集成电路的技术节点不断演进，掩模上集成电路设计图形的尺寸越来越小，对于180nm以下技术节点，由于光学临近效应(optical proximity effect)，掩模在硅片上的成像将产生畸变、失真。为了克服这一现象，业界普遍采用掩模优化技术对掩模版上的图形进行优化，以使光刻胶上显影之后的图形与设计图形相一致，同时增大工艺窗口，提升良率。
2、在进行光学邻近效应修正的时候，往往会根据一定的规则，在版图上的主图形附近放置一些亚分辨率辅助图形(sraf)，辅助图形的存在能够增大工艺窗口，提升产品良率。其中，主图形和对应其所设置的辅助图形往往是相对应的关系，即对应某一套主图形设置有一套辅助图形规则，而对应另一套主图形设置有另一套辅助图形规则。然而对应所有主图形设置完后辅助图形后，某套主图形的辅助图形和另一套主图形的辅助图形之间可能会因为一些边对边冲突，或者角对角冲突，使得两套辅助图形之间出现冲突。进而在实际设置辅助图形时，需要对出现冲突的辅助图形进行不必要的合并。
技术实现思路
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技术实现思路
1、为了解决现有技术中在设置辅助图形时出现对辅助图形进行不必要的合并步骤的问题，本专利技术提供一种辅助图形的放置方法、装置及计算机设
2、本专利技术为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种辅助图形的放置方法，用于对应版图中的主图形在版图上放置辅助图形，包括以下步骤：
3、获取主图形以及对应每个主图形预计设置的辅助图形的位置关系；
4、基于位置关系将与主图形对应的辅助图形依照预设次序进行排序；
5、判断不同主图形对应的辅助图形在排序过程中是否存在冲突；
6、若否，基于排序结果放置辅助图形，以使其完成放置工作。
7、若是，则基于排序结果和预设规则对存在冲突的辅助图形进行消除后，再放置未消除的辅助图形，以使其完成放置工作。
8、优选地，获取主图形以及对应每个主图形预计设置的辅助图形的位置关系具体包括：
9、获取对应主图形的辅助图形设置规则，主图形和辅助图形存在对应关系，其中一个主图形可对应设置一个或若干个辅助图形；
10、获取主图形的轮廓信息，并基于辅助图形设置规则于某一个主图形轮廓外预计设置辅助图形，并获取该辅助图形的位置；
11、迭代上述于某一个主图形轮廓外预计设置辅助图形的过程，以获取每个主图形预计设置的辅助图形的位置；
12、基于主图形的位置和对应每个主图形预计设置的辅助图形的位置获得其位置关系。
13、优选地，将与主图形对应的辅助图形依照预设次序进行排序具体包括：
14、基于位置关系获得主图形以及与其对应的辅助图形之间的距离；
15、在每个主图形的轮廓外由距离从小到大的方式将其对应的辅助图形进行排序。
16、优选地，判断不同主图形对应的辅助图形在排序过程中是否存在冲突具体包括：
17、基于位置关系获得两相邻近的辅助图形之间或辅助图形和主图形之间的最短距离；
18、基于预设冲突规则和最短距离判断两相邻近的辅助图形之间或辅助图形和主图形之间是否存在冲突；
19、若存在，则表明某一主图形对应的辅助图形与另一主图形或另一主图形对应的辅助图形在排序的过程中存在冲突。
20、优选地，预设冲突规则包括相邻近的辅助图形之间或辅助图形与主图形之间存在重合、交叠、边对边冲突、角对角冲突中的其中一种或多种组合。
21、优选地，基于排序结果放置辅助图形具体包括：
22、于主图形的轮廓外基于排序结果逐一放置辅助图形；
23、每放置一个辅助图形后保存该辅助图形的位置；
24、基于该辅助图形的放置位置和排序结果放置下一个辅助图形，直至所有辅助图形全部放置完成。
25、优选地，于主图形的轮廓外基于排序结果逐一放置辅助图形具体包括：
26、不同的主图形可同时基于排序结果放置辅助图形；
27、或，不同的主图形可依照预设顺序关系分步基于排序结果逐一放置辅助图形。
28、优选地，基于预设规则对存在冲突的辅助图形进行消除具体包括：
29、若排序过程中两相邻的辅助图形之间存在冲突，则对两相辅助邻图形进行移动、清除、缩小或变形处理以使冲突得到消除。
30、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种装置，应用上述的辅助图形的放置方法，所述装置包括：
31、识别模块：用于获取主图形以及对应每个主图形预计设置的辅助图形的位置关系；
32、筛选模块：用于将与主图形对应的辅助图形依照预设次序进行排序；
33、判断模块：用于判断不同主图形对应的辅助图形在排序过程中是否存在冲突；
34、处理模块：用于基于排序结果放置辅助图形。
35、本专利技术为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机设备，应用于上述的辅助图形的放置方法，包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行上述计算机程序以实现所述辅助图形的放置方法。
36、与现有技术相比，本专利技术所提供的一种辅助图形的放置方法、装置及计算机设备，具有如下的有益效果：
37、1.本专利技术实施例提供的一种辅助图形的放置方法，用于对应版图中的主图形在版图上放置辅助图形，包括以下步骤：
38、获取主图形以及对应每个主图形预计设置的辅助图形的位置关系；
39、基于位置关系将与主图形对应的辅助图形依照预设次序进行排序；
40、判断不同主图形对应的辅助图形在排序过程中是否存在冲突；
41、若否，基于排序结果放置辅助图形，以使其完成放置工作。
42、若是，则基于排序结果和预设规则对存在冲突的辅助图形进行消除后，再放置未消除的辅助图形，以使其完成放置工作，本实施在消除冲突时，会基于排序结果消除掉使用者相对不重视的辅助图形，再保留掉其相对重视的辅助图形，使得在放置辅助图形时，不会出现对辅助图形进行不必要的合并步骤的问题，所放置的辅助图形最大程度接近对应每个主图形的规则所期望设置的辅助图形的形状。
43、2.本专利技术实施例的获取主图形以及对应每个主图形预计设置的辅助图形的位置关系具体包括：
44、获取对应主图形的辅助图形设置规则，主图形和辅助图形存在对应关系，其中一个主图形可对应设置一个或若干个辅助图形；
45、获取主图形的轮廓信息，并基于辅助图形设置规则于某一个主图形轮廓外预计设置辅助图形，并获取该辅助图形的位置；
46、迭代上述于某一个主图形本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种辅助图形的放置方法，用于对应版图中的主图形在版图上放置辅助图形，其特征在于：包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：获取主图形以及对应每个主图形预计设置的辅助图形的位置关系具体包括：
3.如权利要求2所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：将与主图形对应的辅助图形依照预设次序进行排序具体包括：
4.如权利要求1所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：判断不同主图形对应的辅助图形在排序过程中是否存在冲突具体包括：
5.如权利要求4所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：预设冲突规则包括相邻近的辅助图形之间或辅助图形与主图形之间存在重合、交叠、边对边冲突、角对角冲突中的其中一种或多种组合。
6.如权利要求1所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：基于排序结果放置辅助图形具体包括：
7.如权利要求6所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：于主图形的轮廓外基于排序结果逐一放置辅助图形具体包括：
8.如权利要求4所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：基于预设规则对存在冲突的辅助图
9.一种装置，应用于如权利要求1-8中任意一项所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：所述装置包括：
10.一种计算机设备，应用于如权利要求1-8中任意一项所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：包括存储器、处理器及存储在存储器上的计算机程序，所述处理器执行上述计算机程序以实现所述辅助图形的放置方法。
...【技术特征摘要】
1.一种辅助图形的放置方法，用于对应版图中的主图形在版图上放置辅助图形，其特征在于：包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：获取主图形以及对应每个主图形预计设置的辅助图形的位置关系具体包括：
3.如权利要求2所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：将与主图形对应的辅助图形依照预设次序进行排序具体包括：
4.如权利要求1所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：判断不同主图形对应的辅助图形在排序过程中是否存在冲突具体包括：
5.如权利要求4所述的辅助图形的放置方法，其特征在于：预设冲突规则包括相邻近的辅助图形之间或辅助图形与主图形之间存在重合、交叠、边对边冲突、角对角冲突中的其中一种或多种组合...
【专利技术属性】
技术研发人员：林少军，
申请(专利权)人：东方晶源微电子科技北京股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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