【技术实现步骤摘要】
实施例总体上涉及一种制造显示装置的方法。
技术介绍
1、显示装置是显示图像的装置，并且包括用于显示图像的显示区域。近来，对其中在显示区域中显示的图像的视角被限制的显示装置的需求正在增加。
2、例如，显示装置经常用在公共场所中，并且在这种情况下，可能期望限制在显示区域中显示的图像的视角，使得在用户周围的人不能识别在显示区域中显示的图像。
3、又例如，可能期望限制在车辆显示器的显示区域中显示的图像的视角，以防止在车辆显示器的显示区域中显示的图像(例如，导航等)被车辆的窗户反射和在夜间驾驶期间限制驾驶员的视野。
4、相应地，正在研究制造能够限制在显示区域中显示的图像的视角的显示装置的方法。
技术实现思路
1、实施例提供了制造能够限制在显示区域中显示的图像的视角的显示装置的方法。
2、根据本专利技术的实施例的制造显示装置的方法包括：在发光元件上形成阻挡层；在阻挡层上形成限定开口的第一有机层，开口暴露阻挡层的一部分并且在平面图中与发光元件重叠；形成覆盖第一有机层的限定开口的第一侧表面以及第一有机层的上表面的第一初步低反射层；形成覆盖第一有机层的限定开口并且与第一侧表面相对的第二侧表面以及第一有机层的上表面的第二初步低反射层；通过第一初步低反射层和第二初步低反射层的各向异性干法蚀刻，形成覆盖限定开口的第一侧表面和第二侧表面的低反射屏障；以及形成填充第一有机层的开口的第二有机层。
3、在实施例中，第一初步低反射层可以暴露限定开口的第二侧
4、在实施例中，第一初步低反射层可以覆盖限定开口的第一侧表面和阻挡层的该一部分的上表面的一部分，并且第二初步低反射层可以覆盖限定开口的第二侧表面和阻挡层的该一部分的上表面的剩余部分。
5、在实施例中，第二初步低反射层可以进一步覆盖第一初步低反射层的覆盖阻挡层的该一部分的上表面的该一部分的至少一部分。
6、在实施例中，阻挡层的被开口暴露的一部分的上表面可以被第一初步低反射层和第二初步低反射层完全覆盖。
7、在实施例中，覆盖阻挡层的该一部分的上表面的该一部分的第一初步低反射层和覆盖阻挡层的该一部分的上表面的剩余部分的第二初步低反射层可以通过各向异性干法蚀刻被去除。
8、在实施例中，第一初步低反射层的与第一有机层的上表面重叠的部分和第二初步低反射层的与第一有机层的上表面重叠的部分可以通过各向异性干法蚀刻被去除。
9、在实施例中，由第一有机层限定的开口可以被提供为多个，并且开口中的每一个开口在平面图中可以在第一方向上延伸，并且开口在平面图中可以沿着与第一方向交叉的第二方向排列，并且发光元件在平面图中可以与选自开口中的至少一个开口重叠。
10、在实施例中，低反射屏障的在与限定开口的第一侧表面的下部邻近的区域中在与限定开口的第一侧表面垂直的方向上的厚度可以大于低反射屏障的在与限定开口的第一侧表面的上部邻近的区域中在与限定开口的第一侧表面垂直的方向上的厚度的大约95％，并且小于低反射屏障的在与限定开口的第一侧表面的上部邻近的区域中在与限定开口的第一侧表面垂直的方向上的厚度的大约100％，并且低反射屏障的在与限定开口的第二侧表面的下部邻近的区域中在与限定开口的第二侧表面垂直的方向上的厚度可以大于低反射屏障的在与限定开口的第二侧表面的上部邻近的区域中在与限定开口的第二侧表面垂直的方向上的厚度的大约95％，并且小于低反射屏障的在与限定开口的第二侧表面的上部邻近的区域中在与限定开口的第二侧表面垂直的方向上的厚度的大约100％。
11、在实施例中，形成第一初步低反射层可以包括：形成覆盖第一有机层的限定开口的第一侧表面以及上表面的第一初步基底金属氧化物层；形成覆盖第一初步基底金属氧化物层的第一初步金属层；以及形成覆盖第一初步金属层的第一初步覆盖金属氧化物层。
12、在实施例中，形成第二初步低反射层可以包括：形成覆盖限定开口的第二侧表面和覆盖第一有机层的上表面的第一初步低反射层的第二初步基底金属氧化物层；形成覆盖第二初步基底金属氧化物层的第二初步金属层；以及形成覆盖第二初步金属层的第二初步覆盖金属氧化物层。
13、在实施例中，第一初步基底金属氧化物层、第二初步基底金属氧化物层、第一初步覆盖金属氧化物层和第二初步覆盖金属氧化物层中的每一个可以包括氧化铜或氧化钼钽。
14、在实施例中，第一初步金属层和第二初步金属层中的每一个可以包括铜、钛或钼。
15、在实施例中，第一初步低反射层可以由包括圆柱形靶和布置在圆柱形靶中的磁体的溅射设备形成。
16、在实施例中，圆柱形靶可以沿着开口的延伸方向延伸。
17、在实施例中，布置在圆柱形靶中的磁体可以位于从位于圆柱形靶中的旋转轴起的垂直于阻挡层的上表面的方向与从限定开口的第二侧表面的上边缘朝向限定开口的第一侧表面的下边缘的方向之间的方向上。
18、在实施例中，第二初步低反射层可以由包括圆柱形靶和布置在圆柱形靶中的磁体的溅射设备形成。
19、在实施例中，圆柱形靶可以沿着开口的延伸方向延伸。
20、在实施例中，布置在圆柱形靶中的磁体可以位于从位于圆柱形靶中的旋转轴起的垂直于阻挡层的上表面的方向与从限定开口的第一侧表面的上边缘朝向限定开口的第二侧表面的下边缘的方向之间的方向上。
21、根据实施例的制造显示装置的方法可以包括：形成覆盖限定开口的第一侧表面的第一初步低反射层；形成覆盖限定开口并且与第一侧表面相对的第二侧表面的第二初步低反射层；以及通过第一初步低反射层和第二初步低反射层的各向异性干法蚀刻，形成覆盖限定开口的第一侧表面和第二侧表面的低反射屏障。
22、相应地，低反射屏障可以均匀地形成为具有在设定的范围内的厚度，以具有预设的最佳反射率(例如，低反射屏障中包括的材料的最小反射率值)。
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1.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，
3.根据权利要求1所述的方法，其中，
4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述第二初步低反射层进一步覆盖所述第一初步低反射层的覆盖所述阻挡层的所述一部分的所述上表面的所述一部分的至少一部分。
5.根据权利要求3所述的方法，其中，所述阻挡层的被所述开口暴露的所述一部分的所述上表面被所述第一初步低反射层和所述第二初步低反射层完全覆盖。
6.根据权利要求3所述的方法，其中，覆盖所述阻挡层的所述一部分的所述上表面的所述一部分的所述第一初步低反射层和覆盖所述阻挡层的所述一部分的所述上表面的所述剩余部分的所述第二初步低反射层通过所述各向异性干法蚀刻被去除。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一初步低反射层的与所述第一有机层的所述上表面重叠的部分和所述第二初步低反射层的与所述第一有机层的所述上表面重叠的部分通过所述各向异性干法蚀刻被去除。
8.根据权利要求1所述的方法，其中，
9.根据权利要求1所述的方法，其中
10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，所述第一初步低反射层由包括圆柱形靶和布置在所述圆柱形靶中的磁体的溅射设备形成，
...【技术特征摘要】
1.一种制造显示装置的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中，
3.根据权利要求1所述的方法，其中，
4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述第二初步低反射层进一步覆盖所述第一初步低反射层的覆盖所述阻挡层的所述一部分的所述上表面的所述一部分的至少一部分。
5.根据权利要求3所述的方法，其中，所述阻挡层的被所述开口暴露的所述一部分的所述上表面被所述第一初步低反射层和所述第二初步低反射层完全覆盖。
6.根据权利要求3所述的方法，其中，覆盖所述阻挡层的所述一部分的所述上表面的所述一部分的所述第一初步低反射层和覆盖所述阻挡层的所述一部分的所述上表面的所述剩余部分的所述第二初步低反射层通过所述各向异性干法蚀刻被去除。
7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一初步低反射层的与所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴俊龙，申铉亿，李周炫，杨受京，李东敏，郑参台，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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