【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空镀膜，特别涉及一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构及真空镀膜设备。
技术介绍
1、真空镀膜设备由真空室、机架、真空系统和控制系统组成。不同的应用设备。高真空阀即是用在高真空泵和真空容器之间，用以控制二者接通与切断的控制阀。阀门的种类很多，而目前在两个立式真空室间或高真空腔体与高真空泵间设置有高真空阀门，存在结构复杂，故障率高、成本高昂等问题。
技术实现思路
1、本专利技术目的在于提供一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构及真空镀膜设备，以解决现有技术中所存在的一个或多个技术问题，至少提供一种有益的选择或创造条件。
2、为解决上述技术问题所采用的技术方案：
3、本专利技术提供了一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，包括过渡腔体，过渡腔体侧面设有第一连接口，用于连接过渡腔体与高真空泵，所述过渡腔体的两端均设有高真空挡板阀，所述高真空挡板阀包括真空腔体、阀板和驱动单元，所述阀板垂直于水平面设置于所述真空腔体内，所述真空腔体设有第二连接口，用于连接高真空挡板阀与炉体(真空室)，所述驱动单元用于驱动所述阀板靠近或者远离所述过渡腔体进而实现真空腔体与过渡腔体通断的功能。
4、本专利技术的有益效果是：
5、第一连接口由连接法兰与高真空泵连接，第二连接口连通高真空腔体。当打开高真空挡板阀时，阀板在驱动单元的带动下远离过渡腔将过渡腔和真空腔体连通，当关闭高真空挡板阀时，阀板在驱动单元的带动下靠近过渡腔将过渡腔和真空腔体隔断。
6、作为上述技术方案的进一步改进，所述过渡腔体呈横向延伸设置。过渡腔体横向延伸设置，所述高真空阀水平放置，阀板与地面垂直。
7、通过将阀体水平放置，优化了传统双体阀的结构，减少了1个过渡真空室，减少了高度方向空间的占用，节省了成本。
8、作为上述技术方案的进一步改进，所述阀板滑动设于所述真空腔体，便于推动阀板，提高阀板的稳定性。
9、作为上述技术方案的进一步改进，所述真空腔体内部设有导轨，所述阀板滑动设于所述导轨。导轨起到导向作用。
10、作为上述技术方案的进一步改进，所述阀板设有导轮，所述导轮滑动设于所述导轨。通过导轨和导轮，保证高真空阀门受力平衡、运行稳定。
11、作为上述技术方案的进一步改进，所述第一连接口的数量至少1个，至少1个第一连接口均匀分布于所述过渡腔体。
12、作为上述技术方案的进一步改进，所述真空腔体远离所述过渡腔体的一端设有阀盖，所述阀盖与所述过渡腔体之间设有密封圈。在阀盖上设置密封圈，保证密封性能。
13、作为上述技术方案的进一步改进，所述阀盖设有凹槽，所述密封圈卡接于所述凹槽。便于设置密封圈。
14、作为上述技术方案的进一步改进，所述第一连接口和第二连接口均设有连接法兰。方便与高真空泵或者高真空腔体连接。
15、本专利技术还提供了一种真空镀膜设备，包括上述任意一项所述的一种双(多)体(真空室)高真空阀门结构。提高了整机使用性能，缩短了抽真空时间，提高了生产效率，降低了能耗，绿色制造。
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1.一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
6.根据权利要求1所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
7.根据权利要求1所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
8.根据权利要求7所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
9.根据权利要求1所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
10.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括权利要求1至9任意一项所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构。
【技术特征摘要】
1.一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
3.根据权利要求1所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
4.根据权利要求3所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
5.根据权利要求4所述的一种双(多)炉体(真空室)高真空阀门结构，其特征在于：
6.根据权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：武文全，
申请(专利权)人：佛山市佛欣真空技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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