【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体领域，尤其涉及一种研磨液传输臂及研磨设备。
技术介绍
1、化学机械研磨(chemical mechanical polishing，简称cmp)是一个通过化学力和机械力混合作用来消除晶圆表面材料的加工方式。在半导体芯片制造、计算机磁头等表面加工中有广泛的应用。研磨过程中，研磨液传送臂将研磨液输送至研磨台表面，并通过喷嘴喷射高压水以清洗研磨台。请参阅图1，其为现有技术中研磨液传输臂的结构示意图，其中，不可见部分用虚线表示。如图1所示，所述研磨液传输臂包括：基座10、摆臂11、喷嘴座12、输液管13。所述摆臂11连接所述基座10，所述喷嘴座12位于所述摆臂11端部，多条所述输液管13自基座10延伸至所述喷嘴座12。由于多条所述输液管13独立设置，因此所述输液管13在管路出口处的高低有偏差，需要人工使用偏口钳或剪刀进行剪裁，使管路出口处的高度一致；研磨液的长时间冲击也会导致所述输液管13变形，导致研磨液在研磨台上的落点有偏差，进而影响晶圆研磨质量；此外，多条所述输液管13的固定也较为繁琐，维护需要消耗大量人力，影响产能。
2、因此，提供一种输液管出口高度一致，落点无偏差，方便维护的研磨液传输臂，是目前需要解决的问题。
技术实现思路
1、本技术所要解决的技术问题是提供一种输液管出口高度一致，落点无偏差，方便维护的研磨液传输臂及研磨设备。
2、为了解决上述问题，本技术提供了一种研磨液传输臂，包括：基座；摆臂，所述摆臂包括摆臂本体，所述摆臂本体具有相对设
3、在一些实施例中，所述第二端还形成有第二延伸部，所述第二延伸部与所述基座位于所述摆臂本体的同侧，所述第二延伸部作为所述研磨液传输臂的喷嘴座；所述摆臂本体与所述第一延伸部以及所述第二延伸部一体成型。
4、在一些实施例中，所述液体通道包括高压水通道及研磨液通道。
5、在一些实施例中，所述高压水通道靠近所述基座的一端具有高压水通道入口，所述高压水通道具有多个自所述第一延伸部贯穿至所述喷嘴座的分支通道，所述分支通道在所述喷嘴座处具有分支通道出口。
6、在一些实施例中，所述分支通道的出口处具有螺纹，能够与具有螺纹的不同类型的喷嘴螺接。
7、在一些实施例中，所述高压水通道在所述第一延伸部远离所述基座的端部还具有一高压水出口，所述高压水出口的出液方向与所述分支通道出口的出液方向形成夹角。
8、在一些实施例中，所述研磨液通道靠近所述基座的一端具有研磨液通道入口，远离所述基座的一端具有一向所述喷嘴座方向弯折的弯折部，且所述研磨液通道的出口位于所述弯折部的端部。
9、在一些实施例中，所述研磨液通道的出口处设置有延长管路。
10、在一些实施例中，所述高压水通道的宽度大于所述研磨液通道的宽度。
11、为了解决上述问题，本技术提供了一种研磨设备，所述研磨设备包括本技术所述的研磨设备。
12、上述技术方案，通过在摆臂内部设置液体通道，将液体通道与摆臂形成一体结构，并通过液体管路将研磨液体传输至所述摆臂内的液体通道中，使液体通道出口处的高度一致，避免了高度不一致导致的落点偏差；液体通道与摆臂形成一体结构避免了长时间冲击管路变形导致研磨液在研磨台上的落点有偏差，进而影响晶圆研磨质量；同时减少了更换维护工时，提高产能。
13、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本技术。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。
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1.一种研磨液传输臂，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述第二端还形成有第二延伸部，所述第二延伸部与所述基座位于所述摆臂本体的同侧，所述第二延伸部作为所述研磨液传输臂的喷嘴座；所述摆臂本体与所述第一延伸部以及所述第二延伸部一体成型。
3.根据权利要求2所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述液体通道包括高压水通道及研磨液通道。
4.根据权利要求3所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述高压水通道靠近所述基座的一端具有高压水通道入口，所述高压水通道具有多个自所述第一延伸部贯穿至所述喷嘴座的分支通道，所述分支通道在所述喷嘴座处具有分支通道出口。
5.根据权利要求4所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述分支通道的出口处具有螺纹，能够与具有螺纹的不同类型的喷嘴螺接。
6.根据权利要求4所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述高压水通道在所述第一延伸部远离所述基座的端部还具有一高压水出口，所述高压水出口的出液方向与所述分支通道出口的出液方向形成夹角。
7.根据权利要求3所述的研磨液传输臂，其特征
8.根据权利要求7所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述研磨液通道的出口处设置有延长管路。
9.根据权利要求3所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述高压水通道的宽度大于所述研磨液通道的宽度。
10.一种研磨设备，其特征在于，包括如权利要求1～9任一项所述的研磨液传输臂。
...【技术特征摘要】
1.一种研磨液传输臂，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述第二端还形成有第二延伸部，所述第二延伸部与所述基座位于所述摆臂本体的同侧，所述第二延伸部作为所述研磨液传输臂的喷嘴座；所述摆臂本体与所述第一延伸部以及所述第二延伸部一体成型。
3.根据权利要求2所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述液体通道包括高压水通道及研磨液通道。
4.根据权利要求3所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述高压水通道靠近所述基座的一端具有高压水通道入口，所述高压水通道具有多个自所述第一延伸部贯穿至所述喷嘴座的分支通道，所述分支通道在所述喷嘴座处具有分支通道出口。
5.根据权利要求4所述的研磨液传输臂，其特征在于，所述分支通道的出口处具有螺纹，能够与具有螺纹的不同类...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵标，杨俊男，闫晓晖，
申请(专利权)人：上海积塔半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
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