光罩边缘铬残留去除方法技术

本发明专利技术实施例涉及一种光罩边缘铬残留去除方法，首先将曝光文件置于设有图形区域的光罩材料的边缘，当然，曝光文件所在区域不与图形区域重叠，然后对曝光文件所在区域的曝光文件及光罩材料所涂覆的感光胶进行曝光，最后当光罩材料边缘有铬残留时，依照光罩材料上留有的曝光痕迹对光罩材料边缘的感光胶进行去除，同时就把光罩材料边缘的铬残留去除了。采用本发明专利技术实施例的光罩边缘铬残留去除方法，可在去除光罩材料边缘的铬残留的同时，避免采用蚀刻通过化学反应去除法所带来的图形缺失的问题，保证了光罩质量而不废弃，节约了材料、作业成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子制造领域，尤其涉及一种。
技术介绍
随着电子产业的高速发展，在液晶显示(Liquid Crystal Display, IXD)、集成电 路(Integrated Circuit, IC)等电子制造行业中，光罩成为了必不可少的重要模具之一，其 应用越来越广泛。一般的光罩制作过称如下以苏打玻璃或石英玻璃为基材，在其表面涂覆 一层铬(Cr)层形成遮光层，再于铬层之上涂覆一层氧化铬层，最后在氧化铬层表面涂覆一 层感光胶，使用软件控制曝光装置对其进行电子束曝光或镭射曝光后，再通过化学反应，即 通过化学药液对感光胶及部分铬层去除，从而形成所设计的图形，上述图形铬印在基材的 过程光罩的制作过程。光罩的制作时，表面最上层的感光胶在涂覆时主要采用以基材为中 心进行旋转式涂覆，那么，在旋转涂覆感光胶时，整个表面上各个位置的感光胶的厚度有差 异，特别是光罩边缘约10-20mm宽度的区域感光胶相对较厚，这样，通过上述光罩制作过程 后，光罩边缘约10-20mm宽度的区域内易出现大量的铬残留，残留的铬会对使用光罩进行 生产产生很大的品质影响，具体地，在使用光罩进行生产时，当光罩边缘与夹光罩的夹具接 触时，光罩边缘的铬残留被夹具磨损后形成的铬粉易掉落在作业现场，致使产品受铬粉污 染，品质达不到电子制造行业要求，特别是在IC半导体行业中更是如此；另外，铬粉还易污 染纳米铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides, IT0)玻璃，这样在对ITO玻璃进行切割操作 时，铬粉会阻碍切割，造成切割精度达不到生产要求，致使IT0切割品质下降。为了去除铬残留，一般采用蚀刻通过化学反应去除法，该方法主要采用棉棒粘附 有蚀刻液后往光罩边缘的铬残留区域进行擦拭，以使蚀刻液与铬发生化学反应，对铬残留 进行去除。但是，由于蚀刻液为液体，其在擦拭过程中难免会扩散，当采用该方法去除图形 附近的铬残留时，蚀刻液会渗入图形区，造成图形的缺失，导致光罩报废。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题在于，提供一种，可 在去除光罩边缘铬残留的同时，保障光罩中图形的完整性。为解决上述技术问题，本专利技术实施例采用如下技术方案一种光罩边缘铬残留去 除方法，包括将曝光文件置于设置有图形区域的光罩材料边缘，所述光罩材料涂覆有感光 胶，所述曝光文件所在区域不与所述图形区域重叠；对所述曝光文件所在区域的曝光文件 及感光胶进行曝光；依照所述光罩材料上留有的曝光痕迹对所述光罩材料边缘的感光胶进 行去除，以去除所述光罩材料边缘的铬残留。一种，包括将第一矩形曝光文件、第二矩形曝光文件分 别纵向置于设置有图形区域的光罩材料X方向的边缘，将第三矩形曝光文件、第四矩形曝 光文件分别横向置于所述光罩材料Y方向的边缘，所述X方向与所述Y方向正交，所述光罩 材料涂覆有感光胶，所述第一矩形曝光文件所在区域、第二矩形曝光文件所在区域、第三矩形曝光文件所在区域及第四矩形曝光文件所在区域均不与所述图形区域重叠；对所述第一 矩形曝光文件所在区域、第二矩形曝光文件所在区域、第三矩形曝光文件所在区域、第四矩 形曝光文件所在区域的第一矩形曝光文件、第二矩形曝光文件、第三矩形曝光文件、第四矩 形曝光文件及感光胶进行曝光；依照所述光罩材料上留有的曝光痕迹对所述光罩材料边缘 的感光胶进行去除，以去除所述光罩材料边缘的铬残留。本专利技术实施例的有益效果是通过提供一种，首先将曝 光文件置于设有图形区域的光罩材料的边缘，当然，曝光文件所在区域不与图形区域重叠， 然后对曝光文件所在区域的曝光文件及光罩材料所涂覆的感光胶进行曝光，最后当光罩材 料边缘有铬残留时，依照光罩材料上留有的曝光痕迹对光罩材料边缘的感光胶进行去除， 同时就把光罩材料边缘的铬残留去除了。这样，在去除光罩材料边缘的铬残留的同时，避免 采用蚀刻通过化学反应去除法所带来的图形缺失的问题，保证了光罩质量而不废弃，节约 了材料、作业成本。下面结合附图对本专利技术实施例作进一步的详细描述。 附图说明图1是本专利技术实施例的的主要流程图。图2是本专利技术实施例的中光罩材料尺寸示意图。图3是本专利技术实施例的中第一矩形曝光文件及第二矩 形曝光文件尺寸示意图。图4是本专利技术实施例的中第三矩形曝光文件及第四矩 形曝光文件尺寸示意图。图5是本专利技术实施例的中将各矩形曝光文件置于光罩 材料上时的布局示意图。图6是本专利技术实施例的中光罩材料进行正式曝光的区 域尺寸示意图。具体实施例方式本专利技术实施例提供了一种，其主要包括首先将曝光文 件置于设有图形区域的光罩材料的边缘，当然，曝光文件的形状、数量均可按照实际情况选 用，例如，当光罩为方形或矩形时，对应曝光文件可以对应采用矩形或月牙形等，而光罩材 料各边边缘的铬残留情况有可能相同或不同，这时，可在光罩材料具有铬残留或铬残留严 重的一个或多个边的边缘对应设置曝光文件，而为了在光照材料边缘留下曝光痕迹，曝光 文件的形状、大小可根据实际情况采用，但是需要保证曝光文件于光罩材料边缘的所在区 域不与图形区域重叠；然后对曝光文件所在区域上的曝光文件及感光胶进行曝光，当曝光 文件为多个时，可按照节约程序的顺序依次对光罩材料各边曝光文件所在区域进行曝光， 曝光的能量设置也可以根据实际情况选择采用，例如采用光罩材料进行曝光所用能量的 1. 5倍、2倍或3倍等，此时，依照曝光区域高能量反应，光罩材料上的感光胶也会被曝透；最 后当光罩材料边缘有铬残留时，依照光罩材料上留有的曝光痕迹对光罩材料边缘的感光胶 进行去除，同时就把光罩材料边缘的铬残留去除了，其中，去除边缘感光胶的时机可根据实际要求选取。这样，在去除光罩材料边缘的铬残留的同时，避免采用蚀刻通过化学反应去除法 所带来的图形缺失的问题，保证了光罩质量而不废弃，节约了材料、作业成本。下面通过一个具体实施例对本专利技术的进行说明。参照图1，本专利技术实施例的主要包括如下步骤101，选 择一个已涂覆感光胶的光罩材料；102，根据光罩材料尺寸设计两组矩形曝光文件，第一组 矩形曝光文件包括第一矩形曝光文件及第二矩形曝光文件，第二组矩形曝光文件包括第三 矩形曝光文件及第四矩形曝光文件，设定曝光方向为Y方向，与Y方向正交的为X方向，第 一组矩形曝光文件的长度方向平行于Y方向，而第二组矩形曝光文件的长度方向平行于X 方向，而各第一矩形曝光文件、第二矩形曝光文件、第三矩形曝光文件及第四矩形曝光文件 的长度值分别与其所放置的所述光罩材料上对应边缘一边边长相等、宽度值分别与其所放 置的所述光罩材料上对应边缘一边到所述图形区域距离相等，例如图2所示，光罩材料在X 方向上的边长为609. 6mm(长)，在Y方向上的边长为508mm(宽)，光罩材料中的图形区域 到光罩材料各边距离均为20mm，则第一矩形曝光文件及第二矩形曝光文件尺寸均如图3所 示，其长度值为508mm、宽度值为20mm，而第三矩形曝光文件及第四矩形曝光文件尺寸均如 图4所示，其长度值为609. 6mm、宽度值也为20mm ； 103，如图5所示，将第一矩形曝光文件及 第二矩形曝光文件分别纵向置于光罩材料X方向的边缘，将第三矩形曝光文件、第四矩形 曝光文件分别横向置于所述光罩材料Y方向的边缘，采用了上述光罩材料尺寸及各矩形曝 光文件尺寸就保证了第一矩形曝光文件所在区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩边缘铬残留去除方法，其特征在于，包括：将曝光文件置于设置有图形区域的光罩材料边缘，所述光罩材料涂覆有感光胶，所述曝光文件所在区域不与所述图形区域重叠；对所述曝光文件所在区域的曝光文件及感光胶进行曝光；依照所述光罩材料上留有的曝光痕迹对所述光罩材料边缘的感光胶进行去除，以去除所述光罩材料边缘的铬残留。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：杜武兵，林伟，邓阿庆，
申请(专利权)人：深圳市路维电子有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]