【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于薄膜制备领域，涉及一种cn薄膜的制备领域，具体涉及一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜及其制备方法。
技术介绍
1、c属于万能材料，目前属于被广大学者研究的热门课题，氮化碳，属于人工合成的化合物，大量研究表明，除类石墨相外，氮化碳相机构的体弹性模量理论值均可与金刚石相比拟，被认为是一种新型的超硬材料，但cn在实际使用过程中还会受到与衬底的结合问题而进一步影响其性能的发挥。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了解决cn薄膜与衬底材料结合不牢固的问题，提供一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜及其制备方法。本专利技术在cn薄膜和衬底材料之间引入不同硬度的dlc膜（构成三明治结构）作为中间层，来解决cn薄膜与衬底材料结合不牢固的问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：
3、一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜，包括衬底、cn薄膜，其特征在于：在衬底和cn薄膜之间设有第一低硬度dlc膜、高硬度dlc膜、第二低硬度dlc膜。
4、进一步，所述第一低硬度dlc膜的硬度在 3000hv-4000hv，高硬度dlc膜的硬度在4500hv-6500hv，第二低硬度dlc膜的硬度在3800hv-4500hv。
5、进一步，所述第一低硬度dlc膜的厚度在20nm-30nm，高硬度dlc膜的厚度在30nm -40nm，第二低硬度dlc膜的厚度在20nm-30nm。
6、进一步，所述衬底为
7、一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜的制备方法，包括衬底的选择、cn薄膜的制备，其特征在于：在衬底和cn薄膜之间采用磁控溅射法依次制备出第一低硬度dlc膜、高硬度dlc膜、第二低硬度dlc膜。
8、进一步，所述第一低硬度dlc膜的制备参数为：功率：200-400w，ar：30-50sccm，气压：0.5-2.0pa，时间5min-15min。
9、进一步，所述高硬度dlc膜的制备参数为：功率：400-800w，ar：40-80sccm，气压：1.0-2.5pa，时间15min-20min。
10、进一步，所述第二低硬度dlc膜的制备参数为：功率：250-500w，ar：25-50sccm，气压：0.5-1.5pa，时间5min-15min。
11、第一低硬度的dlc薄膜较软，主要是达到与衬底材料直接进行有效的结合，高硬度dlc膜，主要为所制备的三层膜起到一个支撑骨架的作用，使所制备的复合薄膜不易脱落，第二低硬度的薄膜在整个膜系中位于第三层，其主要作用是为了和最上层的cn达到一个很好的结合，提高其结合强度。
12、本专利技术的有益效果：
13、不同硬度dlc膜（三明治结构）的引入，可以很好地适应不同衬底材料及最上层cn薄膜的需要，从而解决cn薄膜与衬底结合不牢的问题；
14、本专利技术所述的一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜，膜层与衬底的结合力较强，不易出现由于内应力等原因造成的裂纹等情况。
15、采用磁控溅射法制膜，工艺简单，成膜过程中参数少，质量可控，重复性强。
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1.一种以不同硬度DLC膜为缓冲层的CN复合薄膜，包括衬底、CN薄膜，其特征在于：在衬底和CN薄膜之间设有第一低硬度DLC膜、高硬度DLC膜、第二低硬度DLC膜。
2.根据权利要求1所述一种以不同硬度DLC膜为缓冲层的CN复合薄膜，其特征在于：所述第一低硬度DLC膜的硬度在3000HV-4000HV，高硬度DLC膜的硬度在4500HV-6500HV，第二低硬度DLC膜的硬度在3800HV-4500HV。
3.根据权利要求1或2所述一种以不同硬度DLC膜为缓冲层的CN复合薄膜，其特征在于：所述第一低硬度DLC膜的厚度在20nm-30nm，高硬度DLC膜的厚度在30nm -40nm，第二低硬度DLC膜的厚度在20nm-30nm。
4.根据权利要求1所述一种以不同硬度DLC膜为缓冲层的CN复合薄膜，其特征在于：所述衬底为玻璃、不锈钢、压克力板。
5.一种以不同硬度DLC膜为缓冲层的CN复合薄膜的制备方法，包括衬底的选择、CN薄膜的制备，其特征在于：在衬底和CN薄膜之间采用磁控溅射法依次制备出第一低硬度DLC膜、高硬度DLC膜、第二低硬度D
6.根据权利要求1所述一种以不同硬度DLC膜为缓冲层的CN复合薄膜的制备方法，其特征在于：所述第一低硬度DLC膜的制备参数为：功率：200-400w，Ar：30-50sccm，气压：0.5-2.0Pa，时间5min-15min。
7.根据权利要求1所述一种以不同硬度DLC膜为缓冲层的CN复合薄膜的制备方法，其特征在于：所述高硬度DLC膜的制备参数为：功率：400-800w，Ar：40-80sccm，气压：1.0-2.5Pa，时间15min-20min。
8.根据权利要求5或6或7所述一种以不同硬度DLC膜为缓冲层的CN复合薄膜的制备方法，其特征在于：所述第二低硬度DLC膜的制备参数为：功率：250-500w，Ar：25-50sccm，气压：0.5-1.5Pa，时间5min-15min。
...【技术特征摘要】
1.一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜，包括衬底、cn薄膜，其特征在于：在衬底和cn薄膜之间设有第一低硬度dlc膜、高硬度dlc膜、第二低硬度dlc膜。
2.根据权利要求1所述一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜，其特征在于：所述第一低硬度dlc膜的硬度在3000hv-4000hv，高硬度dlc膜的硬度在4500hv-6500hv，第二低硬度dlc膜的硬度在3800hv-4500hv。
3.根据权利要求1或2所述一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜，其特征在于：所述第一低硬度dlc膜的厚度在20nm-30nm，高硬度dlc膜的厚度在30nm -40nm，第二低硬度dlc膜的厚度在20nm-30nm。
4.根据权利要求1所述一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜，其特征在于：所述衬底为玻璃、不锈钢、压克力板。
5.一种以不同硬度dlc膜为缓冲层的cn复合薄膜的制备方法，包括衬底的...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭寿，沈洪雪，李刚，王天齐，金克武，
申请(专利权)人：中建材玻璃新材料研究院集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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