一种釉面反置瓦制造技术

技术编号:4063964 阅读:150 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供一种釉面反置瓦,包括陶土表层,其特征在于在陶土表层的下方设有釉面底层。不仅使瓦块具有足够的吸水、降温特性,同时由于底面的釉面防水层,又使瓦块的防水性大大增强,而且釉面层还可增加瓦块的强度和韧性,使瓦块不会轻易碎裂,增加了瓦块的耐用性。实为一理想的建筑用瓦。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术提供一种瓦,特别是一种釉面反置瓦,属于建筑工程材料

技术介绍
传统傣族民居的屋面瓦是一种粗制的陶瓦。由于陶瓦具有一定的吸水功能,因此 在下雨时瓦片能吸收并储存雨水。当天晴的时候,瓦片在阳光的照射下,表面温度升高,瓦 片内部的水分随之蒸发。在蒸发过程中带走大量的热,从而起到给室内降温的作用。但是 由于陶瓦属于粗制瓦,因此强度不高,容易碎裂,从而导致屋内漏雨。而如果采用瓷瓦或者 琉璃瓦,虽然强度高,不容易漏雨,但又会因吸水性差而失去蒸发降温的能力,给住户带来 不适。因此有必要对现有技术加以改进。
技术实现思路
为解决现有陶瓦质地脆弱,容易漏雨,以及瓷瓦、琉璃瓦不吸水,不利于屋面的蒸 发降温等问题,本技术提供一种釉面反置瓦。本技术通过下列技术方案完成一种釉面反置瓦,包括陶土表层,其特征在于 在陶土表层的下方设有釉面底层,以通过陶土表层吸水、降温,又通过釉面底层防止雨水渗漏。所述陶土表层的厚度大于釉面底层的厚度,以最大限度地吸水、降温,同时具有足 够的强度防漏,并能降低成本。所述由陶土表层和釉面底层构成的瓦块,其截面呈圆弧拱形或者尖角拱形或者带 弯钩的坡面形,以方便瓦块的铺设,使之具有遮风挡雨的作用。本技术具有下列优点和效果采用上述方案,不仅使瓦块具有足够的吸水、降 温特性,同时由于底面的釉面防水层,又使瓦块的防水性大大增强,而且釉面层还可增加瓦 块的强度和韧性,使瓦块不会轻易碎裂,增加了瓦块的耐用性。实为一理想的建筑用瓦。附图说明图1为本技术之安装结构示意图;图2为图1的A-A剖视图;图3为本技术之另一瓦块结构示意图。具体实施方式以下结合附图对本技术做进一步描述,但本技术之内容并不局限于此。本技术提供的釉面反置瓦,包括陶土表层1,在陶土表层1的下方设有釉面底 层2,且陶土表层1的厚度大于釉面底层2的厚度,所述由陶土表层1和釉面底层2构成的 瓦块,其截面呈圆弧拱形3,如图3。所述由陶土表层1和釉面底层2构成的瓦块,其截面呈带弯钩6的坡面形4,安装时,通过弯钩6置于挂瓦条5上,如图2,再在瓦块4上铺置上层的瓦块41,以形成屋面,如 图1。权利要求一种釉面反置瓦,包括陶土表层,其特征在于在陶土表层的下方设有釉面底层。2.根据权利要求1所述的釉面反置瓦,其特征在于所述陶土表层的厚度大于釉面底层 的厚度。3.根据权利要求1所述的釉面反置瓦,其特征在于所述由陶土表层和釉面底层构成的 瓦块,其截面呈圆弧拱形或者尖角拱形或者带弯钩的坡面形。专利摘要本技术提供一种釉面反置瓦,包括陶土表层,其特征在于在陶土表层的下方设有釉面底层。不仅使瓦块具有足够的吸水、降温特性,同时由于底面的釉面防水层,又使瓦块的防水性大大增强,而且釉面层还可增加瓦块的强度和韧性,使瓦块不会轻易碎裂,增加了瓦块的耐用性。实为一理想的建筑用瓦。文档编号E04D1/04GK201704882SQ20102024355公开日2011年1月12日 申请日期2010年7月1日 优先权日2010年7月1日专利技术者柏文峰, 王雅晶 申请人:昆明理工大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种釉面反置瓦,包括陶土表层,其特征在于在陶土表层的下方设有釉面底层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:柏文峰王雅晶
申请(专利权)人:昆明理工大学
类型:实用新型
国别省市:53[中国|云南]

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