System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法技术_技高网

一种光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法技术

技术编号:40609432 阅读:16 留言:0更新日期:2024-03-12 22:16
本发明专利技术涉及一种光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,所述测试方法包括以下步骤:a)采用有机溶剂配置待测金属元素的至少5组不同离子浓度的标准溶液;b)使用电感耦合等离子体质谱仪测定标准溶液,得标准溶液各离子浓度对应的信号强度值;c)绘制待测金属元素的“离子浓度—信号强度值”的线性回归方程;d)采用有机溶剂溶解待测的光刻胶材料样品制备样品溶液,使用电感耦合等离子体质谱仪测定样品溶液,得各待测金属元素离子的信号强度值,并根据回归方程标准曲线计算出待测样品液中金属离子的浓度。本发明专利技术提供的检测方法有较高的检测灵敏度及准确性,可同时准确检测22种金属离子的含量,大大提高了检测精确度和效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法


技术介绍

1、光刻胶材料拥有独特的电性能和物理性能,但光刻胶材料也容易被污染,细微的污染都可能改变光刻胶材料的性质。通常光刻胶材料中的金属杂质限量控制在ppb(10-9)级别,控制和监测光刻工艺中金属离子的含量,是集成电路产业链中非常重要的环节。

2、目前的测试方法主要采用电感耦合等离子体质谱仪(icp-ms)测试光刻胶材料中金属杂质。icp-ms是一种将icp技术和质谱技术结合在一起的分析仪器。

3、目前市面上售卖的电感耦合等离子体质谱仪包含两种模式:cool氢气模式及he模式两种检测模式。cool氢气模式会进氢气以消除样品中杂元素对待测元素的干扰。

4、目前icp-ms法测试光刻胶材料中金属离子不是很成熟,检测条件参数等需进一步优化。例如,现在icp-ms多是测试水相中的金属离子,即在样品中加各种酸,通过微波消解法等处理成无机水溶液再测试。但是传统的处理方法经过加酸、消解、转移、定容过程,极易引入金属离子污染,而光刻胶中金属离子含量极少,为避免传统处理方法带来的污染,光刻胶中金属离子测试采用有机溶剂体系,即将样品直接溶解在电子级有机溶剂中直接进样测试。有机体系与水系中测金属离子目标元素响应、背景干扰情况均有所区别,这就需要研究如何去除背景干扰、选择合适的检测参数。


技术实现思路

1、本专利技术的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法。</p>

2、为了实现本专利技术之目的,本申请提供一种光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,所述测试方法包括以下步骤:

3、a)采用有机溶剂配置待测金属元素的至少5组不同离子浓度的标准溶液;

4、所述待测金属元素选自li、na、mg、al、k、ca、cr、fe、mn、ni、cu、zn、pb、cd、ba、ti、sn、v、ag、as、co、w中的一种或多种;

5、b)使用电感耦合等离子体质谱仪测定步骤a)所得的标准溶液,得标准溶液各离子浓度对应的信号强度值;

6、其中,所述电感耦合等离子体质谱仪包含cool氢气模式及he模式两种检测模式;

7、其中,采用所述cool氢气模式测定li、na、mg、al、k、ca、cr、fe的标准溶液;

8、其中,采用所述he模式测定mn、ni、cu、zn、pb、cd、ba、ti、sn、v、ag、as、co、w的标准溶液;

9、c)根据步骤b)所得检测结果绘制待测金属元素的“离子浓度—信号强度值”的线性回归方程;所述信号强度即为cps计数。

10、d)使用a)步骤相同的有机溶剂溶解待测的光刻胶材料样品制得样品溶液;

11、e)使用电感耦合等离子体质谱仪以步骤b)相同的检测方法,以cool氢气模式及he模式两种检测模式测定样品溶液,得样品溶液的各待测金属元素离子的信号强度值;

12、f)将步骤e)所得的样品溶液的待测金属元素的信号强度值代入步骤c)所得对应金属元素的线性回归方程,计算出样品溶液中待测金属离子的浓度。

13、优选地,所述有机溶剂是含0.5%~2%硝酸的n-甲基吡咯烷酮;

14、所述硝酸和所述n-甲基吡咯烷酮为单个金属离子<100ppt的电子级试剂。

15、优选地,所述cool氢气模式测定标准溶液还包含将电感耦合等离子体质谱仪设置为以下检测参数的步骤:

16、rf功率:800~900w;

17、取样深度:15~20mm;

18、氢气流量:0.8~1.2ml/min;

19、氦气流量:1~3ml/min。

20、优选地,所述he模式测定标准溶液还包含将电感耦合等离子体质谱仪设置为以下检测参数的步骤:

21、rf功率:1000~1700w;

22、取样深度:5~10mm;

23、氦气流量:3~7ml/min。

24、优选地,步骤d)中,还包含以下步骤:采用有机溶剂对光刻胶材料样品进行稀释,并超声均匀,得到样品溶液。

25、优选地,所述电感耦合等离子体质谱仪中采用氧气含量20%的氩氧混合气的等离子体气体。

26、优选地,所述电感耦合等离子体质谱仪为agilent icp-ms 7700s。

27、与现有技术相比,本专利技术的有益效果在于:

28、对于不同待测金属元素优选不同的检测模式,并优选合适的检测溶剂,降低了底物元素对金属离子的干扰,本专利技术提供的检测方法有较高的检测灵敏度及准确性。此外,本方法可同时准确检测22种金属离子的含量,操作简单,大大提高了检测效率。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述测试方法包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述有机溶剂是含0.5%~2%硝酸的N-甲基吡咯烷酮;

3.根据权利要求1或2所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述Cool氢气模式测定标准溶液还包含将电感耦合等离子体质谱仪设置为以下检测参数的步骤:

4.根据权利要求1或2所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述He模式测定标准溶液还包含将电感耦合等离子体质谱仪设置为以下检测参数的步骤:

5.根据权利要求1所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,步骤d)中,还包含以下步骤:采用有机溶剂对光刻胶材料样品进行稀释,并超声均匀,得到样品溶液。

6.根据权利要求1所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述电感耦合等离子体质谱仪中采用氧气含量20%的氩氧混合气的等离子体气体。

7.根据权利要求1所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于:所述电感耦合等离子体质谱仪为Agilent ICP-MS 7700S。

...

【技术特征摘要】

1.一种光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述测试方法包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述有机溶剂是含0.5%~2%硝酸的n-甲基吡咯烷酮;

3.根据权利要求1或2所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述cool氢气模式测定标准溶液还包含将电感耦合等离子体质谱仪设置为以下检测参数的步骤:

4.根据权利要求1或2所述的光刻胶材料中痕量金属离子含量的检测方法,其特征在于,所述he模式测定标准溶液还包含将电感耦合...

【专利技术属性】
技术研发人员:张锁慧胡明华潘新刚傅志伟
申请(专利权)人:徐州博康信息化学品有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1