包括抗反射层的显示装置制造方法及图纸

技术编号：40589512 阅读：24 留言：0更新日期：2024-03-12 21:49

本发明专利技术提供一种显示装置，包括：第一电极，该第一电极设置在基板上；发光层，该发光层设置在第一电极上；第二电极，该第二电极设置在发光层上；以及抗反射层，该抗反射层设置在第二电极上并且包含吸光材料，其中，吸光材料包括选自由非晶碳(a‑C)、聚合物、单体、金属和石墨组成的组中的至少一种。

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【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种显示装置，更具体地，涉及一种包括抗反射层的显示装置。

技术介绍

1、在相关技术中，偏振膜附接在显示装置的显示表面上，以防止外部光的反射。

2、因为偏振膜包括线性偏振膜和1/4λ相位延迟膜，所以偏振膜的厚度相当大。

3、因此，在相关技术的显示装置中，存在由于偏振膜而导致其厚度厚的缺点，并且由于厚的厚度，在实现可卷曲或可折叠的显示装置方面存在限制。此外，在将偏振膜应用于可卷曲或可折叠的显示装置的情况下，存在这样的问题：当重复卷曲或弯曲显示装置的操作时，具有厚的厚度的偏振膜剥离。

技术实现思路

1、技术问题

2、本专利技术旨在解决上述问题，提供一种显示装置，其中，具有薄的厚度的抗反射层包括在该显示装置中，因此，易于实现可卷曲或可折叠的显示装置并且可以防止抗反射层被剥离的问题。

3、技术方案

4、为了实现上述目的，本专利技术提供一种显示装置，包括：第一电极，该第一电极设置在基板上；发光层，该发光层设置在第一电极上；第二电极，该第二电极设置在发光层上；以及抗反射层，该抗反射层设置在第二电极上，抗反射层包含吸光材料，其中，吸光材料包括选自由非晶碳(a-c)、聚合物、单体、金属、金属氧化物和石墨组成的组中的至少一种材料。

5、金属可以包括选自由钨和钼组成的组中的至少一种材料。

6、钨可以包括选自由[双(叔丁基亚氨基)双(二甲氨基)钨(vi)]、[五羰基(n，n-二甲基甲烷胺)钨]和[五羰基(1-

7、可以在抗反射层的顶表面上额外地设置第一界面层，并且第一界面层可以具有在抗反射层的折射率与第一界面层上的与第一界面层接触的层的折射率之间的折射率。

8、第一界面层可以包含选自由氮化硅和氧化硅组成的组中的至少一种材料。

9、可以在抗反射层的底表面上额外地设置第二界面层，并且第二界面层可以具有在抗反射层的折射率与第二界面层下方的与第二界面层接触的层的折射率之间的折射率。

10、第二界面层可以包含选自由氮化硅和氧化硅组成的组中的至少一种材料。

11、可以在第二电极上额外地设置封装层，并且抗反射层可以设置在第二电极与封装层之间。

12、可以在第二电极上额外地设置包括第一封装层和第二封装层的封装层，并且抗反射层可以设置在第一封装层与第二封装层之间。

13、可以在第二电极上额外地设置封装层和硬涂层，并且抗反射层可以设置在封装层与硬涂层之间。

14、可以在第二电极上额外地设置硬涂层，并且抗反射层可以设置在硬涂层的顶表面上。

15、此外，本专利技术提供一种显示装置，包括：第一电极，该第一电极设置在基板上；发光层，该发光层设置在第一电极上；第二电极，该第二电极设置在发光层上；以及抗反射层，该抗反射层设置在第二电极的下方，抗反射层包含吸光材料，其中，吸光材料包括选自由非晶碳(a-c)、聚合物、单体、金属和石墨组成的组中的至少一种材料。

16、金属可以包括选自由钨和钼组成的组中的至少一种材料。

17、钨可以包括选自由[双(叔丁基亚氨基)双(二甲氨基)钨(vi)]、[五羰基(n，n-二甲基甲烷胺)钨]和[五羰基(1-甲基吡咯烷)钨]组成的组中的至少一种材料。

18、可以在抗反射层的底表面上额外地设置第一界面层，并且第一界面层的折射率可以在抗反射层的折射率与在第一界面层下方的与第一界面层接触的层的折射率之间。

19、第一界面层可以包含选自由氮化硅和氧化硅组成的组中的至少一种材料。

20、可以在抗反射层的顶表面上额外地设置第二界面层，并且第二界面层的折射率可以在抗反射层的折射率与在第二界面层上的与第二界面层接触的层的折射率之间。

21、第二界面层可以包含选自由氮化硅和氧化硅组成的组中的至少一种材料。

22、可以在基板上额外地设置电路元件层，并且抗反射层可以设置在基板与电路元件层之间。

23、抗反射层可以设置在基板的底表面上。

24、有益效果

25、根据本专利技术的实施例，因为通过化学气相沉积工序形成为具有薄的厚度并且包含选自由非晶碳(a-c)、聚合物、单体、金属、金属氧化物和石墨组成的组中的至少一种材料的吸光材料层被用作抗反射层，由于抗反射层的厚度薄，因此易于实现可卷曲或可折叠的显示装置，而且，即使当可卷曲或可折叠的显示装置被反复卷曲或弯曲时，也可以防止抗反射层被剥离的问题。

26、此外，根据本专利技术的实施例，可以通过调节吸光材料层的厚度来调节抗反射层的光吸收率，因此，可以调节外部光的反射率，从而实现薄的厚度，并且获得与包括相关技术的偏振膜的抗反射层的效果相似或更好的效果。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示装置，包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在所述抗反射层的顶表面上额外地设置有第一界面层，并且

3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在所述抗反射层的底表面上额外地设置有第二界面层，并且

4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在所述第二电极上额外地设置有封装层，并且

5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在所述第二电极上额外地设置有包括第一封装层和第二封装层的封装层，并且

6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在所述第二电极上额外地设置有封装层和硬涂层，并且

7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在所述第二电极上额外地设置有硬涂层，并且

8.一种显示装置，包括：

9.根据权利要求1或8所述的显示装置，其中，所述金属包含选自由钨和钼组成的组中的至少一种材料。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其中，所述钨包含选自由[双(叔丁基亚氨基)双(二甲氨基)钨(VI)]、[五羰基(N，N-二甲基甲烷胺)钨]和[五羰基(1-甲基吡咯烷)钨]组成的组中的至少一种材料。

11.根据权利要求8所述的显示装置，其中，在所述抗反射层的底表面上额外地设置有第一界面层，并且

12.根据权利要求2或11所述的显示装置，其中，所述第一界面层包含选自由氮化硅和氧化硅组成的组中的至少一种材料。

13.根据权利要求8所述的显示装置，其中，在所述抗反射层的顶表面上额外地设置有第二界面层，并且

14.根据权利要求3或13所述的显示装置，其中，所述第二界面层包含选自由氮化硅和氧化硅组成的组中的至少一种材料。

15.根据权利要求8所述的显示装置，其中，在所述基板上额外地设置有电路元件层，并且

16.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述抗反射层设置在所述基板的底表面上。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】