【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及前光板加工领域，尤其涉及一种玻璃前光板网点加工工艺及显示装置。
技术介绍
1、目前现有显示器光源均为背光源，为实现户外强光下显示可见，需要使用高功耗光源，而反射型显示器，可利用户外阳光反射后作为显示光源，但在阴天或晚上无法实现显可见，可以通过增加前光源可以解决这个问题。
2、水墨屏或彩屏电子书，同样在外光源照射下，可以进行显示光源，但在阴天或晚上无法实现显可见，可以通过增加前光源可以解决这个问题。
3、前置光源需要前光板进行光学分布设计，前光板材质一般为pc和玻璃材质，其中pc材质较玻璃材质更软，光透性低。更倾向使用玻璃材质。玻璃前光板网点加工技术，有印刷工艺加工、镭射工艺加工等。印刷工艺加工玻璃前光板，网点可视不良易发生，不良率较高。镭射工艺加工玻璃前光板，显示效果变差，模糊不清。印刷工艺加工玻璃前光板，要求油墨为半透明且网点大小达到100-200um范围，网点可视不良易发生，不良率较高；镭射工艺加工玻璃前光板，镭射工艺破坏玻璃的结构，网点周围产生细微的裂痕，导致显示效果有模糊的不良现象出来。
技术实现思路
1、本专利技术提供的一种玻璃前光板网点加工工艺，可以解决现有前光板网点加工可视不良的问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术提供了一种玻璃前光板网点加工工艺，包括以下步骤：
3、s1：在透明基材上的一面上涂抹uv透明胶；
4、s2：将所述透明基材放置于网点转印模具上，且所述uv透明胶位于所述透明基材和所
5、s3：采用uv纳米压印机对所述uv透明胶进行纳米压印形成网点；
6、s4：采用uv照射炉照射所述uv透明胶，使所述uv透明胶固化。
7、作为上述技术方案的进一步描述：
8、所述网点转印模具包括一压印模板，所述压印模板通过微影成像于一硅基板上制作图案，再使用该具有特定图案的硅基板制作成所述压印模板。
9、作为上述技术方案的进一步描述：
10、所述压印模板为镍压印模板。
11、作为上述技术方案的进一步描述：
12、所述uv透明胶的厚度大网点高度10-15um。
13、作为上述技术方案的进一步描述：
14、所述uv透明胶的折射率小于所述透明基材的折射率。
15、一种显示装置，其包括采用上述工艺制作的玻璃前光板和显示屏，所述显示屏设置在透明基材远离uv透明胶的一侧。
16、作为上述技术方案的进一步描述：
17、所述透明基材为玻璃。
18、综上所述，由于采用了上述技术方案，本专利技术的有益效果是：使用uv纳米压印工艺进行玻璃前光板网点加工，uv纳米压印工艺可以将网点做到1-20um范围，可以解决网点可视的问题；uv纳米压印工艺不会损坏玻璃自身的材质结构，不会出现裂痕不良，显示更清晰；因此，采用本专利技术生产的前光板具有更高的光线利用率，向下的光线多于向上的光线；微小网点可以有效转印，不存在网点可视不良问题；不破坏玻璃的结构，显示更清晰。
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1.一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，所述网点转印模具包括一压印模板，所述压印模板通过微影成像于一硅基板上制作图案，再使用该具有特定图案的硅基板制作成所述压印模板。
3.根据权利要求2所述的一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，所述压印模板为镍压印模板。
4.根据权利要求1所述的一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，所述UV透明胶的厚度大网点高度10-15um。
5.根据权利要求1所述的一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，所述UV透明胶的折射率小于所述透明基材的折射率。
6.一种显示装置，其特征在于，包括采用权利要求1-5任一一项制作的玻璃前光板和显示屏，所述显示屏设置在透明基材远离UV透明胶的一侧。
7.根据权利要求6所述的一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，所述透明基材为玻璃。
【技术特征摘要】
1.一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，所述网点转印模具包括一压印模板，所述压印模板通过微影成像于一硅基板上制作图案，再使用该具有特定图案的硅基板制作成所述压印模板。
3.根据权利要求2所述的一种玻璃前光板网点加工工艺，其特征在于，所述压印模板为镍压印模板。
4.根据权利要求1所述的一种玻璃前光板网点加工工艺...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭福明，倪俊伟，王翔，
申请(专利权)人：昆山锦林光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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