【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体生产辅助设备领域,具体涉及打磨浸泡治具。
技术介绍
1、目前,在对半导体刻蚀设备的静电吸盘进行清洗再生过程中,会用到药液浸泡和打磨顶部陶瓷表面的工艺。
2、打磨时,将静电陶瓷吸盘直接放置在旋转平台上,不进行固定,慢速打磨,这种打磨陶瓷顶面的过程中会遇到打磨面不均匀,打磨出来的陶瓷面不够光滑平整等一系列缺陷。
3、在浸泡的阶段只需将顶部的陶瓷面浸入药液即可,不能将整个部件都放进药液里。传统使用时,采用垫块将产品垫高,陶瓷面朝下进行浸泡陶瓷面区域。
4、综上,目前缺乏一种可以实现打磨以及浸泡固定的双用治具。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的问题,本技术提供一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,已解决上述至少一个技术问题。
2、本技术的技术方案是:一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,包括一用于承载工件的治具,其特征在于,所述治具包括圆环状的基体,所述基体的顶部内侧开设有用于搭接工件的安装槽;
3、所述安装槽的底部安装有周向排布的螺纹孔,所述螺纹孔用于连接夹持固定工件的固定件或者用于倒置支撑工件的支撑杆;
4、所述基体的底部开设有用于连接旋转平台的安装孔。
5、本技术通过单一治具实现了浸泡以及打磨两种工序的使用需求。
6、进一步优选的,所述基体的底部设置有至少三个周向排布的弧形凸起,每个弧形凸起上均开设有所述安装孔。
7、便于打磨的废水从相邻的弧形凸起之
8、进一步优选的,所述基体的外壁上开设有周向排布的缺口,所述缺口与所述安装槽对接导通。
9、便于工件的拿取。
10、进一步优选的,所述缺口上下两端贯穿所述基体,所述缺口的径向外侧也开口。
11、进一步优选的,所述基体包括从上至下设置的上环以及支撑环,以所述支撑环的上表面为所述安装槽的槽底;
12、所述缺口位于所述上环以及所述支撑环上。
13、进一步优选的,所述支撑环开设有所述缺口处的径向宽度大于所述支撑环上不开设有所述缺口处的径向宽度的1/3,且小于所述支撑环上不开设有所述缺口处的径向宽度的4/5。
14、进一步优选的,所述缺口在周向上的圆心角大于5°,且小于30°。
15、进一步优选的,所述工件的周向上开设有上宽下窄的台阶孔;
16、所述固定件以及所述支撑杆均穿过所述台阶孔与所述螺纹孔相连。
17、进一步优选的,所述支撑杆以及所述固定件均包括螺纹连接所述螺纹孔的螺杆部以及用于抵住所述台阶孔的限位部。
18、进一步优选的,所述支撑杆的长度大于所述固定件的长度。
19、有益效果:
20、1.打磨、浸泡双用式设计结构,可以在不更换治具、只更换长短不同的支撑杆以及固定件就可以实现打磨和浸泡两种功能的切换,避免不必要的周转的同时,提高工作效率。
21、2.缺口的结构,保证了作业人员可以更便捷的取放。
22、3、条状凸起之间的间隙,保证了在打磨的过程中残液可以顺畅流出治具内。保证治具可以灵活的安装在打磨设备的旋转平台上,且使工件在打磨的过程中稳定高效、不会产生打滑和离心的现象。
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1.一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,包括一用于承载工件的治具,其特征在于,所述治具包括圆环状的基体,所述基体的顶部内侧开设有用于搭接工件的安装槽;
2.根据权利要求1所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述缺口上下两端贯穿所述基体,所述缺口的径向外侧也开口。
3.根据权利要求1所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述基体包括从上至下设置的上环以及支撑环,以所述支撑环的上表面为所述安装槽的槽底;
4.根据权利要求3所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述支撑环开设有所述缺口处的径向宽度大于所述支撑环上不开设有所述缺口处的径向宽度的1/3,且小于所述支撑环上不开设有所述缺口处的径向宽度的4/5。
5.根据权利要求1所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述缺口在周向上的圆心角大于5°,且小于30°。
6.根据权利要求1所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述工件的周向上开设有上宽下窄的台阶孔;
>7.根据权利要求6所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述支撑杆以及所述固定件均包括螺纹连接所述螺纹孔的螺杆部以及用于抵住所述台阶孔的限位部。
8.根据权利要求1所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述支撑杆的长度大于所述固定件的长度。
...【技术特征摘要】
1.一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,包括一用于承载工件的治具,其特征在于,所述治具包括圆环状的基体,所述基体的顶部内侧开设有用于搭接工件的安装槽;
2.根据权利要求1所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述缺口上下两端贯穿所述基体,所述缺口的径向外侧也开口。
3.根据权利要求1所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述基体包括从上至下设置的上环以及支撑环,以所述支撑环的上表面为所述安装槽的槽底;
4.根据权利要求3所述的一种静电吸盘部件陶瓷面的打磨浸泡双用治具,其特征在于:所述支撑环开设有所述缺口处的径向宽度大于所述支撑环上不开设有所述缺口处的径向宽度...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨炜,贺贤汉,周毅,蒋立峰,王成明,
申请(专利权)人:上海富乐德智能科技发展有限公司,
类型:新型
国别省市:
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