【技术实现步骤摘要】
本专利技术实施例涉及微纳米加工的，尤其涉及一种基于局部压印制备光波导的方法及光波导。
技术介绍
1、增强现实和虚拟现实技术已经受到广泛关注，而其中的关键元件是波导片，波导片的关键评价指标之一就是视野范围，对于衍射光波导片中光栅结构的制备方法也受到很大的关注。
2、现有的衍射光波导的制备包括硅模板制备，利用硅模板转印制备形成软模板，再利用压印将软模板上的图形转印至波导基底上的胶层，硅模板制备主要是通过多次光刻、刻蚀于硅基底上形成光栅高度不一的耦入光栅区域、转折光栅区域和耦出光栅区域。然而，由于耦入光栅区域内的光栅底部至硅基底底部的距离与转折光栅区域内的光栅底部至硅基底底部的距离、耦出光栅区域内的光栅底部至硅基底底部的距离均不相等，因此由该硅模板转印形成的软模板各区域的光栅高度也不一致，进而由该软模板转印形成的衍射光波导的不同光栅区域具有不一样的胶层厚度，也即残胶高度不一致，而残胶内包含散射粒子，由于无法避免会存在残胶较厚的光栅，会导致光线在该波导内传输时光的散射现象会明显增大，进而最终影响整体显示效果。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种基于局部压印制备光波导的方法及光波导，通过对光波导的各个光栅区域分别涂胶、压印制备，可实现波导基底上各个光栅区的残胶均匀或者残胶量非常少的光波导产品，显示效果更好，提高用户的体验感。
2、第一方面，本专利技术提供了一种基于局部压印制备光波导的方法，制备方法包括：
3、在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以
4、光栅区压印步骤包括：
5、在透明基板上形成胶层，胶层至少覆盖当前的光栅区压印步骤对应的目标区域；其中，胶层的厚度大于或等于目标光栅结构的高度，且光栅区压印步骤中的胶层的厚度与目标光栅结构的高度呈正相关；
6、利用一个软质模板，在目标区域的胶层上压印形成目标光栅结构；
7、对目标区域的目标光栅结构进行固化；
8、剥离软质模板；
9、去除目标区域之外未固化的胶层。
10、可选的，胶层的材质为光固化胶；
11、对目标区域的目标光栅结构进行固化，包括：
12、采用具有镂空区域的遮光膜，对目标区域内的目标光栅结构进行光固化；其中，遮光膜的镂空区域在透明基板所在平面上的投影与目标区域重叠。
13、可选的，利用一个软质模板，在目标区域的胶层上压印形成目标光栅结构之前，还包括：
14、将具有镂空区域的遮光膜贴合于软质模板背离目标光栅结构的一侧表面；镂空区域与目标区域重合；
15、利用一个软质模板，在目标区域的胶层上压印形成目标光栅结构，包括：
16、采用贴合有遮光膜的软质模板在目标区域的胶层上压印形成目标光栅结构。
17、可选的，利用一个软质模板在目标区域的胶层上压印形成目标光栅结构之前，还包括：
18、将具有镂空区域的遮光膜与透明基板进行对准，以使镂空区域与所以透明基板上的目标区域对位重合。
19、可选的，在透明基板上形成胶层，包括：
20、至少在目标区域施加胶体材料；
21、以当前光栅区压印步骤对应预设的匀胶速度，对胶体材料进行匀胶，形成当前光栅区压印步骤对应厚度的胶层。
22、可选的，在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以依次在透明基板的目标区域中制备形成目标光栅结构之前，还包括：
23、将硬质模板的光栅图案压印至至少两个软质模板上；其中，软质模板的数量与光栅区压印步骤的次数相同；
24、固化并剥离，获得软质模板。
25、可选的，去除目标区域之外未固化的胶层，包括：
26、采用溶剂清洗除目标区域之外未固化的胶层。
27、可选的，同一光栅区压印步骤对应的目标区域包括至少一个目标光栅区，同一目标区域中的目标光栅区中的目标光栅结构的高度相同；光栅区压印步骤包括：
28、在透明基板上形成胶层，胶层至少覆盖当前的光栅区压印步骤对应的各目标光栅区；
29、利用一个软质模板，在各目标光栅区的胶层上压印形成目标光栅结构；
30、对各目标光栅区的目标光栅结构进行固化；
31、剥离软质模板；
32、去除各目标光栅区之外未固化的胶层。
33、可选的，在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以依次在透明基板的目标区域中制备形成目标光栅结构，包括：
34、按照各光栅区压印步骤对应的目标光栅结构的高度从低到高的顺序，在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以依次在透明基板的目标区域中制备形成不同高度的目标光栅结构。
35、第二方面，本专利技术还提供了一种光波导，采用上述的光波导制备方法制备形成。
36、本专利技术的技术方案，通过在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以依次在透明基板的目标区域中制备形成目标光栅结构；不同光栅区压印步骤对应制备的目标光栅结构的高度不同，且不同的光栅区压印步骤中形成的目标光栅结构的第一表面与透明基板的距离，与目标光栅结构的高度呈正相关；第一表面为目标光栅结构远离透明基板的表面；光栅区压印步骤包括：在透明基板上形成胶层，胶层至少覆盖当前的光栅区压印步骤对应的目标区域；其中，胶层的厚度大于或等于目标光栅结构的高度，且光栅区压印步骤中的胶层的厚度与目标光栅结构的高度呈正相关；利用一个软质模板，在目标区域的胶层上压印形成目标光栅结构；对目标区域的目标光栅结构进行固化；剥离软质模板；去除目标区域之外未固化的胶层。采用上述方法，通过对光波导的各个光栅区域分别涂胶、压印制备，且胶层的厚度大于或等于目标光栅区的光栅结构的厚度，解决了现有衍射光波导的不同光栅区域的残胶较多导致光线在波导内传播时光的散射增大的问题，实现了在透明基底上各个光栅区的残胶量均匀或者残胶量非常少的光栅结构，使得显示效果更好，提高用户的体验感。
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1.一种基于局部压印制备光波导的方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述胶层的材质为光固化胶；
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述利用一个软质模板，在所述目标区域的所述胶层上压印形成所述目标光栅结构之前，还包括：
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述利用一个软质模板在所述目标区域的所述胶层上压印形成所述目标光栅结构之前，还包括：
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述透明基板上形成胶层，包括：
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以依次在所述透明基板的目标区域中制备形成目标光栅结构之前，还包括：
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述去除所述目标区域之外未固化的所述胶层，包括：
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，同一所述光栅区压印步骤对应的所述目标区域包括至少一个所述目标光栅区，同一所述目标区域中的所述目标光栅区中的所述目
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以依次在所述透明基板的目标区域中制备形成目标光栅结构，包括：
10.一种光波导，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的光波导制备方法制备形成。
...【技术特征摘要】
1.一种基于局部压印制备光波导的方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述胶层的材质为光固化胶；
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述利用一个软质模板，在所述目标区域的所述胶层上压印形成所述目标光栅结构之前，还包括：
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述利用一个软质模板在所述目标区域的所述胶层上压印形成所述目标光栅结构之前，还包括：
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述透明基板上形成胶层，包括：
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以依次...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡庆文，李晓军，史瑞，史瑞成，杨雨帆，
申请(专利权)人：广纳四维广东光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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