【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶圆加工，特别是涉及晶圆抛光机。
技术介绍
1、在将晶棒切割成晶圆后，需要使用晶圆抛光机对晶圆抛光，以确保晶圆表面的平整度和光洁度符合要求。为了达到晶圆表面整体平坦化的效果，通常采用晶圆抛光机对晶圆进行化学机械抛光，在该过程中，需要对抛光机供给抛光液。
2、传统技术中，晶圆抛光机用于供给抛光液的结构为开放结构，其由上部的流液管和下部的开放式接液环组成。流液管中的抛光液流到开放式接液环上，开放式接液环旋转以利用离心力使抛光液均匀分布在整个开放式接液环上，进而使抛光液从开放式接液环上的多个孔道流入晶圆抛光机的上盘。
3、然而，开放式接液环内的抛光液暴露于外界，外界的杂质有可能通过抛光液进入晶圆抛光机流入上盘，对晶圆抛光机抛光晶圆的过程造成负面影响(比如：外界杂质划伤晶圆)，导致晶圆的抛光品质降低。而且，在暴露于外界的状态下，抛光液容易挥发。挥发的抛光液与晶圆抛光机外表面接触，导致晶圆抛光机外表面形成很多晶体，增加了晶圆抛光机的清洁负担。
4、因此，有必要设计一种晶圆抛光机，以规避上述问题，保证晶圆的抛光品质，减轻晶圆抛光机的清洁负担。
技术实现思路
1、基于此，有必要针对上述问题，提供一种晶圆抛光机。该晶圆抛光机能够防止外界杂质通过抛光液进入抛光区域而导致晶圆的抛光品质降低，并减轻清洁负担。
2、为了解决上述问题，本技术提供技术方案如下：
3、一种晶圆抛光机，包括：机架；驱动装置，连接于所述机架，具有可升降的输出轴；
4、在其中一个实施例中，所述第一转动件可转动地套设于所述中心轴外。
5、在其中一个实施例中，所述第一转动件可转动地吊设于所述中心轴下方。
6、在其中一个实施例中，沿着所述中心轴的高度方向，所述进液流道位于所述出液流道上方；所述晶圆抛光机还包括第一连通管，所述第一连通管的入口连接于所述进液流道的出口，所述第一连通管的出口伸入所述出液流道。
7、在其中一个实施例中，所述第一连通管的出口至少部分与所述出液流道的壁贴合设置。
8、在其中一个实施例中，所述出液流道包括呈环形的中转槽，所述中转槽的轴线与所述第一转动件的转轴共线，所述中转槽的槽口朝向所述进液流道，所述第一连通管的出口至少部分与所述中转槽的槽壁贴合设置。
9、在其中一个实施例中，所述晶圆抛光机还包括第二连通管，所述第二连通管为多通管且与所述出液流道连通，用于将单个所述出液流道与所述上盘上的多个供液通道连通。
10、在其中一个实施例中，所述第二连通管包括环形主管和多个支管，所述环形主管上设有多个沿着所述环形主管圆周方向均匀分布的接头，所述接头与所述支管一一对应地连接。
11、在其中一个实施例中，所述出液流道具有两个出口，所述出液流道的两个所述出口分别与所述环形主管上沿着所述环形主管径向相对设置的两个所述接头连通。
12、在其中一个实施例中，所述驱动装置为驱动气缸，所述输出轴为活塞杆，所述输出轴沿着铅锤方向设置。
13、本技术至少具有以下有益效果：
14、在本技术提供的晶圆抛光机中，因为进液流道、出液流道均位于晶圆抛光机内，所以抛光液在流动过程中始终不会暴露于外界。因此，外界的杂质无法通过抛光液进入晶圆抛光机流入上盘，这能够避免外界的杂质对晶圆的抛光过程造成负面影响而导致晶圆的抛光品质降低。而且，因为抛光液没有暴露于外界，所以抛光液不容易挥发，晶圆抛光机上由挥发的抛光液形成的结晶便会显著减少，这能够减轻晶圆抛光机的清洁负担。
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1.一种晶圆抛光机，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述第一转动件(2)可转动地套设于所述中心轴(1)外。
3.根据权利要求1所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述第一转动件(2)可转动地吊设于所述中心轴(1)下方。
4.根据权利要求1所述的晶圆抛光机，其特征在于，沿着所述中心轴(1)的高度方向，所述进液流道(11)位于所述出液流道(21)上方；所述晶圆抛光机还包括第一连通管(4)，所述第一连通管(4)的入口连接于所述进液流道(11)的出口，所述第一连通管(4)的出口伸入所述出液流道(21)。
5.根据权利要求4所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述第一连通管(4)的出口至少部分与所述出液流道(21)的壁贴合设置。
6.根据权利要求5所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述出液流道(21)包括呈环形的中转槽(211)，所述中转槽(211)的轴线与所述第一转动件(2)的转轴共线，所述中转槽(211)的槽口朝向所述进液流道(11)，所述第一连通管(4)的出口至少部分与所述中转槽(211)的槽壁贴合设置。
7.根据权利要求1所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述晶圆抛光机还包括第二连通管(5)，所述第二连通管(5)为多通管且与所述出液流道(21)连通，用于将单个所述出液流道(21)与所述上盘(8)上的多个供液通道(82)连通。
8.根据权利要求7所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述第二连通管(5)包括环形主管(51)和多个支管(52)，所述环形主管(51)上设有多个沿着所述环形主管(51)圆周方向均匀分布的接头(511)，所述接头(511)与所述支管(52)一一对应地连接。
9.根据权利要求8所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述出液流道(21)具有两个出口(212)，所述出液流道(21)的两个所述出口(212)分别与所述环形主管(51)上沿着所述环形主管(51)径向相对设置的两个所述接头(511)连通。
10.根据权利要求1所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述驱动装置(10)为驱动气缸，所述输出轴(101)为活塞杆，所述输出轴(101)沿着铅锤方向设置。
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆抛光机，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述第一转动件(2)可转动地套设于所述中心轴(1)外。
3.根据权利要求1所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述第一转动件(2)可转动地吊设于所述中心轴(1)下方。
4.根据权利要求1所述的晶圆抛光机，其特征在于，沿着所述中心轴(1)的高度方向，所述进液流道(11)位于所述出液流道(21)上方；所述晶圆抛光机还包括第一连通管(4)，所述第一连通管(4)的入口连接于所述进液流道(11)的出口，所述第一连通管(4)的出口伸入所述出液流道(21)。
5.根据权利要求4所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述第一连通管(4)的出口至少部分与所述出液流道(21)的壁贴合设置。
6.根据权利要求5所述的晶圆抛光机，其特征在于，所述出液流道(21)包括呈环形的中转槽(211)，所述中转槽(211)的轴线与所述第一转动件(2)的转轴共线，所述中转槽(211)的槽口朝向所述进液流道(11)，所述第一连通管(4)的出口至...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱亮，李阳健，陈建国，王旭东，张国阳，
申请(专利权)人：浙江晶盛机电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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