【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种电子枪，具体涉及一种用于微焦点x射线管的两次聚焦冷阴极电子枪。
技术介绍
1、x射线管作为一种重要的射线源,广泛应用于医学、工业、科研等领域。随着科技不断进步，人们对x射线管的分辨率、穿透成像能力及检测结果的精度要求不断提高，微焦点x射线管应运而生。而微焦点x射线管的关键组件是电子枪，其能够实现微焦点电子束斑。目前已有不少可用于微焦点x射线管中的电子枪，但这些电子枪均存在焦点尺寸大、电子束能量低等问题。
2、如授权公告号为cn206363980u的中国专利公开的一种用于极微焦点x射线管的多级聚焦阴极电子枪，该电子枪包括阴极、栅网、补偿电极及聚焦电极，通过在栅极和聚焦电极间加入补偿电极以保证电子穿过栅网后具有最小的发射度增长，使得电子束的聚焦更容易，补偿电极并不会让电子束发生聚焦，因而获得的焦点尺寸较大。
3、又如在授权公告号为cn204885080u的中国专利公开的一种电子枪，该电子枪主要包括芯柱、热子、热子支撑座、第一级栅、第二级栅和第三级栅，第一级栅会聚热子发射的电子，第二级栅用于加速电子并控制管流，第三级栅会聚电子束并最终使其聚焦形成尺寸低至5μm的焦点，整个过程中电子只聚焦一次。
4、再如公开号为cn1744265a的中国专利中公开的一种电子枪，该电子枪的电子从阴极发射后，穿过控制电极时被预聚焦后，经第一阳极、聚焦电极和第二阳极构成的两个聚焦透镜被二次聚焦并加速，电子束的能量较低，只适用于阴极射线管。
技术实现思路
1、
2、为解决上述问题，本专利技术采用如下技术方案：
3、一种用于微焦点x射线管的两次聚焦冷阴极电子枪,包括共轴线依次设置的阴极、栅极、第一聚焦极、第二聚焦极和阳极；
4、所述阴极上设有电子发射区域，阴极靠近栅极的一端端面设有凹面朝向栅极的凹陷结构，电子发射区域位于凹陷结构内；
5、所述第二聚焦极内的电子束传输通道为非中心对称结构。
6、更进一步的，所述非中心对称结构为长方形。
7、进一步的，所述凹陷结构为凹面朝向栅极的曲面结构或圆柱形结构。
8、进一步的，所述凹陷结构为凹面朝向栅极的曲面结构时，曲面的曲率半径为0.4mm～0.6mm。
9、进一步的，所述凹陷结构为凹面朝向栅极的圆柱形结构时，圆柱形结构的直径为0.8～1.2mm。
10、进一步的，所述第一聚焦极内的电子束传输通道直径尺寸略大于凹陷结构直径或曲面结构的弦。
11、本专利技术提供的一种用于微焦点x射线管的两次聚焦冷阴极电子枪，该电子枪的电子发射区域位于阴极凹陷结构内，栅极用于提供场发射阴极发射电子所需的电场强度。当电子发射区域发射出电子束后，凹陷结构会对发射出的电子束进行初步会聚，此时，阴极、栅极和第一聚焦极构成第一聚焦透镜，第一聚焦极、第二聚焦极和阳极靶构成第二聚焦透镜，电子束轨迹在第一聚焦透镜的作用下于栅极处形成第一个焦点，在第二聚焦透镜作用下于阳极的靶面处形成更小尺寸的第二个焦点输出。
12、与现有技术相比，本专利技术通过在阴极上设置的凹陷结构，并将电子发射区域放置与凹陷结构中，配合引入的两个聚焦极且第二聚焦极电子束传输通孔采用的非中心对称结构，减少了栅极截获电流的同时将电子束聚焦两次，获得了在相互正交的两个方向上尺寸可调的焦点，且焦点尺寸最小可达2μm。
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1.一种用于微焦点X射线管的两次聚焦冷阴极电子枪，包括共轴线依次设置的阴极、栅极、第一聚焦极、第二聚焦极和阳极，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种用于微焦点X射线管的两次聚焦冷阴极电子枪,其特征在于：所述非中心对称结构为长方形。
3.根据权利要求1所述的一种用于微焦点X射线管的两次聚焦冷阴极电子枪,其特征在于：所述凹陷结构为凹面朝向栅极的曲面结构或圆柱形结构。
4.根据权利要求3所述的一种用于微焦点X射线管的两次聚焦冷阴极电子枪,其特征在于：所述凹陷结构为凹面朝向栅极的曲面结构时，曲面的曲率半径为0.4 mm～0.6mm。
5.根据权利要求3所述的一种用于微焦点X射线管的两次聚焦冷阴极电子枪,其特征在于：所述凹陷结构为凹面朝向栅极的圆柱形结构时，圆柱形结构的直径为0.8～1.2mm。
6.根据权利要求1所述的一种用于微焦点X射线管的两次聚焦冷阴极电子枪,其特征在于：所述第一聚焦极内的电子束传输通道直径尺寸略大于凹陷结构直径或曲面结构的弦。
【技术特征摘要】
1.一种用于微焦点x射线管的两次聚焦冷阴极电子枪，包括共轴线依次设置的阴极、栅极、第一聚焦极、第二聚焦极和阳极，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种用于微焦点x射线管的两次聚焦冷阴极电子枪,其特征在于：所述非中心对称结构为长方形。
3.根据权利要求1所述的一种用于微焦点x射线管的两次聚焦冷阴极电子枪,其特征在于：所述凹陷结构为凹面朝向栅极的曲面结构或圆柱形结构。
4.根据权利要求3所述的一种用于微焦点x射线管的两次...
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