含硼的小分子制造技术

本发明专利技术涉及用于治疗真菌感染，更具体地说为局部治疗甲癣和／或皮肤真菌感染的化合物。本发明专利技术涉及对真菌具有活性并且在接触患者时能够使化合物到达受真菌感染的皮肤、指甲、毛发、爪或蹄的特定部分的特性的化合物。本发明专利技术的化合物特别具有有利于透入指甲板的生理化学特性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
具有式Ⅰ结构的化合物：　　＊＊＊　（Ⅰ）　　其中　　Ｂ为硼；　　Ｒ↑［１ａ］为选自负电荷、盐抗衡离子、Ｈ、取代或未被取代的烷基、取代或未被取代的杂烷基、取代或未被取代的环烷基、取代或未被取代的杂环烷基、取代或未被取代的芳基和取代或未被取代的杂芳基中的成员；　　Ｍ１为选自氧、硫和ＮＲ↑［２ａ］中的成员；　　其中　　Ｒ↑［２ａ］为选自Ｈ，取代或未被取代的烷基，取代或未被取代的杂烷基，取代或未被取代的环烷基，取代或未被取代的杂环烷基，取代或未被取代的芳基和取代或未被取代的杂芳基中的１为ＣＲ↑［１２ａ］时，Ｒ↑［９ａ］不为卤素、甲基、乙基，或不任选与Ｒ↑［１０ａ］连接成苯基环；Ｒ↑［１０ａ］不为未被取代的苯氧基、Ｃ（ＣＨ↓［３］）↓［３］、卤素、ＣＦ↓［３］、甲氧基、乙氧基，或不任选与Ｒ↑［９ａ］连接成苯基环；Ｒ↑［１１ａ］不为卤素或不任选与Ｒ↑［１０ａ］连接成苯基环；和Ｒ↑［１２ａ］不为卤素；　　此外，条件是当Ｍ１为氧，Ｗ１为选自（ＣＲ↑［３ａ］Ｒ↑［４ａ］）↓［ｎ１］中的成员，其中ｎ１为０，Ｊ１为选自（ＣＲ↑［６ａ］Ｒ↑［７ａ］）↓［ｍ１］中的成员，其中ｍ１为１，Ａ１为ＣＲ↑［９ａ］，Ｄ１为ＣＲ↑［１０ａ］，Ｅ１为ＣＲ↑［１１ａ］，Ｇ１为ＣＲ↑［１２ａ］时，Ｒ↑［６ａ］和Ｒ↑［７ａ］均不为卤代苯基；　　此外，条件是当Ｍ１为氧，Ｗ１为选自（ＣＲ↑［３ａ］Ｒ↑［４ａ］）↓［ｎ１］中的成员，其中ｎ１为０，Ｊ１为选自（ＣＲ↑［６ａ］Ｒ↑［７ａ］）↓［ｍ１］中的成员，其中ｍ１为１，Ａ１为ＣＲ↑［９ａ］，Ｄ１为ＣＲ↑［１０ａ］，Ｅ１为ＣＲ↑［１１ａ］，Ｇ１为ＣＲ↑［１２ａ］，且Ｒ↑［９ａ］、Ｒ↑［１０ａ］和Ｒ↑［１１ａ］为Ｈ时，Ｒ↑［６ａ］、Ｒ↑［７ａ］和Ｒ↑［１２ａ］不为Ｈ；　　此外，条件是当Ｍ１为氧ｎ１为１，Ｊ１为选自（ＣＲ↑［６ａ］Ｒ↑［７ａ］）↓［ｍ１］中的成员，其中ｍ１为０，Ａ１为ＣＲ↑［９ａ］，Ｄ１为ＣＲ↑［１０ａ］，Ｅ１为ＣＲ↑［１１ａ］，Ｇ１为ＣＲ↑［１２ａ］，Ｒ↑［９ａ］为Ｈ，Ｒ↑［１０ａ］为Ｈ，Ｒ↑［１１ａ］为Ｈ，Ｒ↑［６ａ］为Ｈ，Ｒ↑［７ａ］为Ｈ，Ｒ↑［１２ａ］为Ｈ时，Ｗ１不为Ｃ＝Ｏ（羰基）；　　此外，条件是当Ｍ１为氧，Ｗ１为ＣＲ↑［５ａ］，ｎ１为１，Ｊ１为ＣＲ↑［８ａ］，ｍ１为１，Ａ１为ＣＲ↑［９ａ］，Ｄ１为ＣＲ↑［１０ａ］，Ｅ１为ＣＲ↑［１１ａ］，Ｇ１为ＣＲ↑［１２ａ］，Ｒ↑［６ａ］、Ｒ↑［７ａ］、Ｒ...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：SJ贝克，赤间勉，C贝林杰卡瓦哈拉，VS赫南德兹，KM侯德，JJ雷登，KR马普里斯，JJ珀拉特纳，V桑德斯，张永康，
申请(专利权)人：安纳考尔医药公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]