【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅酸锆生产，具体为一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置。
技术介绍
1、硅酸锆是指锆英砂经过超细粉磨工艺加工而成的超细粉体，硅酸锆最初的应用主要是用于日用陶瓷和建筑卫生陶瓷的釉面上，是制作陶瓷乳白釉的乳浊剂，是一次生料乳白釉的主要添加剂，随着我国建筑陶瓷瓷砖材质的提升和规模的迅速扩大，硅酸锆开始用于建筑砖的坯体上，硅酸锆应用范围进一步拓展从而使硅酸锆的需用量迅速增大，带动了硅酸锆行业的快速发展，硅酸锆在锆系列产品中，已具有了举足轻重的地位，并形成了硅酸锆行业圈，而硅酸锆粉在加工完成之后需要对其中的杂质进行清除，避免杂质影响最终成品的质量，因此，我们推出一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置。
2、现有专利(公开号：cn216093994u)公开了一种硅酸锆制备用除杂设备，涉及化工
，为解决现有硅酸锆制备用除杂设备，因为大批量硅酸锆制备除杂耗时耗力且成本高，造成硅酸锆除杂效率低的问题，所述研磨机壳体的上端设置有研磨电机，所述研磨机壳体的内部设置有多孔研磨板，所述研磨机壳体的下端设置有第一布斗，所述第一布斗的下方设置有震动架，所述震动架的四周上端均设置有减震缓冲柱，所述第一布斗的下端设置有出口，所述出口的下端设置有第二布斗，所述第二布斗的下端设置有传送带电机，所述传送带电机的一侧设置有传送带，所述传送带的一端设置有分流架，所述分流架的一端上方设置有除杂吸尘器。专利技术人在实现本技术的过程中发现现有技术存在如下问题：1、现有的硅酸锆除杂装置利用吸尘器来对硅酸锆中的杂质进行吸出，达到除杂的目的，但是吸尘器在工作时也会将硅酸锆粉
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，以解决上述
技术介绍
中提出现有的硅酸锆除杂装置利用吸尘器来对硅酸锆中的杂质进行吸出，达到除杂的目的，但是吸尘器在工作时也会将硅酸锆粉一同吸入吸尘器内的问题；以及现有的硅酸锆除杂装置仅通过一道吸尘器除杂来完成除杂，除杂的效果极其有限，除杂效果差的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，包括工作台，所述工作台的底部固定连接有六个支撑腿，所述工作台的顶部一侧设有酸洗组件，所述酸洗组件的一侧顶部固定连接有抽水管，所述抽水管的中部分别固定连接有水泵、离心机和烘干箱，所述工作台的一侧中部设有输送组件，所述输送组件的上方设有除杂组件，所述工作台的一侧固定连接有收集盒；
2、所述除杂组件包括固定连接在工作台顶部一侧的安装板，所述安装板的顶部固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有旋转板，所述旋转板的底部两侧固定连接有两个连接杆，两个所述连接杆的底端均固定连接有电磁铁。
3、进一步优选的，所述输送组件包括固定连接在工作台一侧的第二电机，所述第二电机的输出端固定连接有输送辊，所述输送辊的外侧活动连接有输送带。
4、进一步优选的，所述输送辊的数量为两个，其中一个输送辊与第二电机的输出端连接，两个所述输送辊之间通过输送带构成传动结构。
5、进一步优选的，所述酸洗组件包括固定连接在工作台顶部一侧的酸洗箱，所述酸洗箱的内侧分别设有渗析室和扩散室，所述酸洗箱的内侧中部固定连接有安装导轨，所述安装导轨的中部设有两层阴离子交换膜，所述渗析室的顶部固定连接有第三电机，所述第三电机的输出端固定连接有主轴，所述主轴的外侧固定连接有若干个搅拌片。
6、进一步优选的，所述渗析室和扩散室的顶部均焊接有一个入料管。
7、进一步优选的，所述酸洗箱的一侧设有箱门。
8、进一步优选的，若干个所述搅拌片分为四组，且四组搅拌片等角分布在主轴的外侧。
9、与现有技术相比，本技术的有益效果：
10、本技术中，通过电磁铁、第一电机、旋转板和电磁铁之间的相互配合，实现对输送带上硅酸锆粉末的不间断除杂，利用电磁铁吸附除去铁杂质相较于传统的吸尘器除杂不会将硅酸锆粉末一同吸入收集箱内造成浪费。
11、本技术中，通过酸洗组件与硅酸锆浆液中的铁杂质反应进行去除，同时阴离子交换膜能够对硅酸锆浆液中的铁离子进行去除，最后通过除杂组件中的电磁铁将硅酸锆粉末中残留的少量铁杂质吸附出来，通过多重除杂工序，能够保证除杂的效果更好。
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1.一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的底部固定连接有六个支撑腿(2)，所述工作台(1)的顶部一侧设有酸洗组件(3)，所述酸洗组件(3)的一侧顶部固定连接有抽水管(4)，所述抽水管(4)的中部分别固定连接有水泵(5)、离心机(6)和烘干箱(7)，所述工作台(1)的一侧中部设有输送组件(8)，所述输送组件(8)的上方设有除杂组件(9)，所述工作台(1)的一侧固定连接有收集盒(10)；
2.根据权利要求1所述的一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，其特征在于：所述输送组件(8)包括固定连接在工作台(1)一侧的第二电机(801)，所述第二电机(801)的输出端固定连接有输送辊(802)，所述输送辊(802)的外侧活动连接有输送带(803)。
3.根据权利要求2所述的一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，其特征在于：所述输送辊(802)的数量为两个，其中一个输送辊(802)与第二电机(801)的输出端连接，两个所述输送辊(802)之间通过输送带(803)构成传动结构。
4.根据权利要求1所述的一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，其特
5.根据权利要求4所述的一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，其特征在于：所述渗析室(302)和扩散室(303)的顶部均焊接有一个入料管。
6.根据权利要求4所述的一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，其特征在于：所述酸洗箱(301)的一侧设有箱门。
7.根据权利要求4所述的一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，其特征在于：若干个所述搅拌片(307)分为四组，且四组搅拌片(307)等角分布在主轴(306)的外侧。
...【技术特征摘要】
1.一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的底部固定连接有六个支撑腿(2)，所述工作台(1)的顶部一侧设有酸洗组件(3)，所述酸洗组件(3)的一侧顶部固定连接有抽水管(4)，所述抽水管(4)的中部分别固定连接有水泵(5)、离心机(6)和烘干箱(7)，所述工作台(1)的一侧中部设有输送组件(8)，所述输送组件(8)的上方设有除杂组件(9)，所述工作台(1)的一侧固定连接有收集盒(10)；
2.根据权利要求1所述的一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，其特征在于：所述输送组件(8)包括固定连接在工作台(1)一侧的第二电机(801)，所述第二电机(801)的输出端固定连接有输送辊(802)，所述输送辊(802)的外侧活动连接有输送带(803)。
3.根据权利要求2所述的一种高纯度纳米硅酸锆除杂装置，其特征在于：所述输送辊(802)的数量为两个，其中一个输送辊(802)与第二电机(801)的输出端连接，两个所述输送辊(802)之间通过输送带(803)构成传动结构。
<...【专利技术属性】
技术研发人员：陈志锋，林婉珍，杨志明，陈亚娥，
申请(专利权)人：福建省安溪龙门中泉制釉有限公司，
类型：新型
国别省市：
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