【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及全息光刻，尤其涉及一种浮雕图像生成方法、系统、设备及存储介质。
技术介绍
1、全息浮雕是在全息光刻或全息光栅的基础上加入特殊技术，使文字或图案看起来在同一平面上呈现出凹凸浮雕的立体效果，多应用在镭射定位包装、标签上，如浮雕图案、浮雕文字等，一般是根据图像生成灰度图，然后根据灰度图进行切割以生产出浮雕图案。
2、然而，现有全息光刻技术经常会因为灰度图的斜面线条不够圆润，很多地方过于粗糙，将会导致整体反射光的角度过于接近漫反射，从而导致生产出来的浮雕效果泛白发雾，不够晶亮，质量较差。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种浮雕图像生成方法、系统、设备及存储介质。
2、本专利技术提供如下技术方案：
3、第一方面，本申请提供了一种浮雕图像生成方法，包括：
4、获取浮雕的灰度图，设置所述浮雕的第一参数，根据所述第一参数确定所述灰度图中每个像素点的第二参数，所述第一参数和所述第二参数包括高度和宽度；
5、构建三维矩阵，根据每个所述像素点的第二参数，确定每个所述像素点在所述三维矩阵中的坐标，得到多个三维坐标点；
6、根据多个所述三维坐标点进行多项式拟合，得到多项式图像，对所述多项式图像进行等高切割，得到初始浮雕图像，所述初始浮雕图像包括多个斜面切割线条；
7、确定每个所述斜面切割线条对应的灰度值，根据所述灰度值对每个所述斜面切割线条进行调整，得到目标浮雕图像
8、一种实施方式中，所述根据所述第一参数确定所述灰度图中每个像素点的第二参数，包括：
9、确定所述第一参数的第一高度值和第一宽度值，并获取所述灰度图中像素点在高度方向的第一数量以及在宽度方向的第二数量；
10、根据所述第一高度值和第一数量，计算得到所述第二参数的第二高度值；
11、根据所述第一宽度值和第二数量，计算得到所述第二参数的第二宽度值。
12、一种实施方式中，所述根据每个所述像素点的第二参数，确定每个所述像素点在所述三维矩阵中的坐标，包括：
13、将每个所述像素点的第二宽度作为x坐标，第二高度作为y坐标，灰度值作为z坐标，得到每个所述像素点在所述三维矩阵中的坐标。
14、一种实施方式中，所述根据多个所述三维坐标点进行多项式拟合，包括：
15、将每个所述三维坐标点输入拟合软件，通过所述拟合软件对多个所述三维坐标点进行多项式拟合，所述拟合软件包括matlab。
16、一种实施方式中，所述确定每个所述斜面切割线条对应的灰度值，包括：
17、确定每个所述斜面切割线条在所述灰度图中的目标位置，根据所述目标位置确定每个所述斜面切割线对应的灰度值。
18、一种实施方式中，所述根据每个所述斜面切割线条对应的灰度值，对每个所述斜面切割线条进行调整，包括：
19、根据所述目标位置的灰度值确定所述斜面切割线条对应的最大高度，根据所述最大高度对每个所述斜面切割线条进行调整。
20、一种实施方式中，所述根据所述目标位置的灰度值确定所述斜面切割线条对应的最大高度，包括：
21、若所述目标位置的灰度值越大，则对应的所述斜面切割线条的最大高度越低；若所述目标位置的灰度值越小，则对应的所述斜面切割线条的最大高度越高。
22、第二方面，本申请提供了一种浮雕图像生成系统，包括：
23、获取模块，用于获取浮雕的灰度图，设置所述浮雕的第一参数，根据所述第一参数确定所述灰度图中每个像素点的第二参数，所述第一参数和所述第二参数包括高度和宽度；
24、构建模块，用于构建三维矩阵，根据每个所述像素点的第二参数，确定每个所述像素点在所述三维矩阵中的坐标，得到多个三维坐标点；
25、拟合模块，用于根据多个所述三维坐标点进行多项式拟合，得到多项式图像，对所述多项式图像进行等高切割，得到初始浮雕图像，所述初始浮雕图像包括多个斜面切割线条；
26、调整模块，用于确定每个所述斜面切割线条对应的灰度值，根据所述灰度值对每个所述斜面切割线条进行调整，得到目标浮雕图像。
27、第三方面，本申请提供了一种电子设备，包括存储器和至少一个处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述处理器用于执行所述计算机程序以实施如第一方面所述的浮雕图像生成方法。
28、第四方面，本申请提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被执行时，实现如第一方面所述的浮雕图像生成方法。
29、本专利技术的实施例具有如下有益效果：
30、本专利技术提供的浮雕图像生成方法，通过对斜面的算法拟合来减少剧烈变化的线条，拟合后的斜面线条圆润光滑，使得最后呈现出来的浮雕会更加晶亮，减少了浮雕的瑕疵，提高了浮雕的质量。
31、为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显和易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，做详细说明如下。
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1.一种浮雕图像生成方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述根据所述第一参数确定所述灰度图中每个像素点的第二参数，包括：
3.根据权利要求2所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述根据每个所述像素点的第二参数，确定每个所述像素点在所述三维矩阵中的坐标，包括：
4.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述根据多个所述三维坐标点进行多项式拟合，包括：
5.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述确定每个所述斜面切割线条对应的灰度值，包括：
6.根据权利要求5所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述根据所述灰度值对每个所述斜面切割线条进行调整，包括：
7.根据权利要求6所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述根据所述目标位置的灰度值确定所述斜面切割线条对应的最大高度，包括：
8.一种浮雕图像生成系统，其特征在于，包括：
9.一种电子设备，其特征在于，包括存储器和至少一个处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述处理器用于执
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被执行时，实现如权利要求1至7中任意一项所述的浮雕图像生成方法。
...【技术特征摘要】
1.一种浮雕图像生成方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述根据所述第一参数确定所述灰度图中每个像素点的第二参数，包括：
3.根据权利要求2所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述根据每个所述像素点的第二参数，确定每个所述像素点在所述三维矩阵中的坐标，包括：
4.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述根据多个所述三维坐标点进行多项式拟合，包括：
5.根据权利要求1所述的浮雕图像生成方法，其特征在于，所述确定每个所述斜面切割线条对应的灰度值，包括：
6.根据权利要求5所述的浮雕图像生成方法，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪昱坤，鲁琴，张静，刘畅，
申请(专利权)人：武汉华工图像技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：
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