【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及耗材(消耗部件)、等离子体处理装置和耗材的制造方法。
技术介绍
1、在干蚀刻装置等等离子体处理装置中，使用因暴露在等离子体中而消耗的耗材。作为耗材，能够采用使用了石英的部件(例如，专利文献1)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2019-220500号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术问题
2、本专利技术提供一种廉价地制造等离子体处理装置用的耗材的技术。
3、用于解决技术问题的技术方案
4、本专利技术是一种耗材，其由石英和陶瓷中的任一种材料形成，用于等离子体处理装置，上述耗材具有：由第一纯度的上述材料形成的芯部；和保护部，其设置于上述芯部的周围的、会因上述等离子体处理装置中的等离子体而发生损耗的部分，由比上述第一纯度高的第二纯度的上述材料形成。
5、专利技术效果
6、根据本专利技术，能够廉价地制造等离子体处理装置用的耗材。
【技术保护点】
1.一种耗材，其由石英和陶瓷中的任一材料形成，用于等离子体处理装置，所述耗材的特征在于，具有：
2.如权利要求1所述的耗材，其特征在于：
3.如权利要求1所述的耗材，其特征在于：
4.如权利要求2所述的耗材，其特征在于：
5.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
6.一种耗材的制造方法，所述耗材由石英和陶瓷中的任一材料形成，用于等离子体处理装置，所述耗材的制造方法的特征在于，包括：
7.一种耗材的制造方法，所述耗材由石英和陶瓷中的任一材料形成，用于等离子体处理装置，所述耗材的制造方法的特征在于，包括：
8.如权利要求6或7所述的耗材的制造方法，其特征在于：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种耗材，其由石英和陶瓷中的任一材料形成，用于等离子体处理装置，所述耗材的特征在于，具有：
2.如权利要求1所述的耗材，其特征在于：
3.如权利要求1所述的耗材，其特征在于：
4.如权利要求2所述的耗材，其特征在于：
5.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
【专利技术属性】
技术研发人员：茂山和基，长山将之，三浦卫，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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