一种硅溶胶反应釜清洗装置制造方法及图纸

本技术揭示了一种硅溶胶反应釜清洗装置，包括升降台、清洁筒、多个支撑台、清洁刷以及调节机构；所述清洁筒转动安装在所述升降台的底部；多个所述支撑台呈行状等距固定安装在所述清洁筒的外壁上；所述清洁刷滑动安装在所述支撑台上；所述调节机构包括螺纹环、弧形轨道以及连接柱；所述螺纹环螺纹安装在所述清洁筒的外壁上；所述弧形轨道设置在所述螺纹环的内部；所述连接柱的一端与所述清洁刷连接，另一端延伸至所述弧形轨道内部。本技术通过上述装置的配合使用，使得位于同一支撑台上清洁刷所形成的清洁外径能够根据需求进行相应调整，以满足对不同内腔形状反应釜进行清理的需求，达到应用范围广的目的。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及硅溶胶生产领域，特别是涉及一种硅溶胶反应釜清洗装置。

技术介绍

1、反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能；胶体又称胶状分散体是一种较均匀混合物，在胶体中含有两种不同状态的物质，一种分散相，另一种连续相；反应釜具有耐高温、耐高压、抗酸碱腐蚀等特点，目前广泛应用于石油、冶金、化工、材料等领域。

2、硅溶胶反应釜经使用之后，由于其属于胶装粘性原料，其中在内壁会沾有残留物，残留物时间久了就会结块，凝结在反应釜的内壁上，很难清理掉，就会影响下次的硅溶胶的合成反应，就可能混入杂质，使换热性能降低并增加反应时间或影响下次使用，长久就会对反应釜造成不可逆的损伤。

3、现有中国专利公开号为cn218133871u提出了一种硅溶胶合成反应釜清洗装置，其通过设置清洁组件以及辅助组件，可以对反应釜内部各个位置都可以进行全面的清洗，有效避免反应釜拐角边缘位置因杂质残留而影响后续使用的问题发生。

4、然上述装置存在一定的缺陷：如清洁组件包括升降丝杠、注水管、喷水口、旋转盘、刮板毛刷块、漏斗毛刷以及固定弹簧等组件，其中，漏斗毛刷的外径为自上而下外径依次递减设置，在通过该漏斗毛刷进行清洁时，只能够对与其形状相匹配的反应釜进行清理，当反应釜容腔内径增大或减少时，易出现清理不到位或无法清理的情况，存在一定的局限性。

5、因此，需要一种硅溶胶反应釜清洗装置，以解决上述问题。

技术实现思路</p>

1、本技术的目的在于，提供一种硅溶胶反应釜清洗装置，以通过改变清洁刷外径，以适用于对不同内腔形状的反应釜进行清理，有效提升适用范围。

2、为解决上述技术问题，本技术提供一种硅溶胶反应釜清洗装置，包括升降台、清洁筒、多个支撑台、清洁刷以及调节机构；

3、所述清洁筒转动安装在所述升降台的底部；

4、多个所述支撑台呈行状等距固定安装在所述清洁筒的外壁上；

5、所述清洁刷滑动安装在所述支撑台上；

6、所述调节机构包括螺纹环、弧形轨道以及连接柱；

7、所述螺纹环螺纹安装在所述清洁筒的外壁上；

8、所述弧形轨道设置在所述螺纹环的内部；

9、所述连接柱的一端与所述清洁刷连接，另一端延伸至所述弧形轨道内部。

10、进一步的，位于不同所述支撑台上的清洁刷长度自上而下依次缩短。

11、进一步的，所述清洁筒内置有蓄水腔；

12、所述清洁筒外壁设置有与所述蓄水腔连通的出水口；

13、所述支撑台的外壁设置有喷头；

14、所述喷头通过通道与所述出水口连通。

15、进一步的，所述喷头与所述清洁刷相匹配，且所述喷头与所述清洁刷呈交错设置。

16、进一步的，所述升降台上设置有供水组件，且所述供水组件与所述蓄水腔连通。

17、进一步的，所述供水组件包括接水管以及增压泵；

18、所述接水管的一端延伸至所述升降台内部，并与所述蓄水腔连通；

19、所述增压泵与所述接水管连接，并位于所述升降台上表面。

20、进一步的，所述接水管与所述蓄水腔内壁之间设置有密封垫圈。

21、进一步的，所述升降台下表面设置有驱动电机；

22、所述驱动电机与所述清洁筒通过锥齿轮啮合连接。

23、相比于现有技术，本技术至少具有以下有益效果：

24、通过设置多个支撑台、清洁刷以及调节机构，通过螺纹环的转动，以驱动清洁刷沿垂直于清洁筒方向移动，进而可改变位于同一支撑台上清洁刷所形成的清洁外径，且由于支撑台设置有多个，进而可根据需求对每个支撑台上清洁刷所形成的清洁外径，以满足对不同内腔形状反应釜进行清理的需求，达到应用范围广的目的。

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【技术保护点】

1.一种硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，包括升降台、清洁筒、多个支撑台、清洁刷以及调节机构；

2.如权利要求1所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，位于不同所述支撑台上的清洁刷长度自上而下依次缩短。

3.如权利要求1所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，所述清洁筒内置有蓄水腔；

4.如权利要求3所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，所述喷头与所述清洁刷相匹配，且所述喷头与所述清洁刷呈交错设置。

5.如权利要求3所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，所述升降台上设置有供水组件，且所述供水组件与所述蓄水腔连通。

6.如权利要求5所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，所述供水组件包括接水管以及增压泵；

7.如权利要求6所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，所述接水管与所述蓄水腔内壁之间设置有密封垫圈。

8.如权利要求1所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，所述升降台下表面设置有驱动电机；

【技术特征摘要】

1.一种硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，包括升降台、清洁筒、多个支撑台、清洁刷以及调节机构；

2.如权利要求1所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，位于不同所述支撑台上的清洁刷长度自上而下依次缩短。

3.如权利要求1所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，所述清洁筒内置有蓄水腔；

4.如权利要求3所述的硅溶胶反应釜清洗装置，其特征在于，所述喷头与所述清洁刷相匹配，且所述喷头与所述清洁刷呈交错设置。

【专利技术属性】
技术研发人员：方芳，孙长舟，郑孝芝，
申请(专利权)人：安庆远航化工有限公司，
类型：新型
国别省市：