电动微流体芯片中降低样品带宽的壁面电势优化方法技术

本发明专利技术涉及一种电动微流体芯片中降低样品带宽的壁面电势优化方法，包括微流体芯片中内外弯道壁面电势的改进和微流体芯片中出口处平直管道的壁面电势的优化，其特征在于：通过改变壁面电势的分布和大小对微流体芯片管道中的速度剖面进行调整，降低由焦耳热和弯道引起的轴向扩散。其中弯道部分的壁面电势分布满足出口处平直管道电势分布为ξ／ＧＴ。本发明专利技术综合考虑了焦耳热及弯道效应对样品扩散的影响，能有效降低电渗流驱动的弯道中样品的轴向扩散；并且对于具有各种弯转角度的弯道都适合，无需加工复杂几何形状的弯道从而降低加工技术的要求。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微流体芯片领域，具体涉及一种电动微流体芯片中降低样品带宽的壁 面电势优化方法。
技术介绍
近年来，随着微流体芯片实验室的快速发展，电渗也被应用于纳米量级的微流体 的驱动和控制、样品的混合和分离等方面，从而它可以用于生物和化学分析以及疾病的诊 断，是最成功的微流体驱动和控制方法之一。在微米乃至纳米尺度的流动装置中，电渗驱动 与压力驱动相比具有以下两个方面的优势第一，电渗流场中的流体速度在很大范围内与 管道或槽道的截面积无关，这有利于微尺度下流体的驱动与控制；而在压力驱动中，为了保 证一定的流速，所需的压力梯度与管道或槽道水力半径的平方成反比。第二，与压力驱动流 速度的抛物线分布不同，电渗流的速度剖面呈活塞状，除了靠近壁面很近的一部分外，其余 地方的速度几乎相同。微流体芯片的样品分离系统为了在有限面积的微芯片上取得很长的分离长度，往 往需要引入弯道。当一个样品流经弯道处时，样品条会发生变形，进而增加了样品的带宽， 而这对于检测是非常不利的，甚至会抵消增加分离长度所带来的有利因素。Culbertson等 指出，弯道引起的样品扩散是由于内外径的差异以及电场强度的差异。对于一个具有 A 6角度、中线半径为R、宽度为w的弯道引起的样品变形为2w A 0。另外，在快速扩散限 制下的轴向扩散可以表达为(Drff T)"2⑴(EUeW4A e/(RD))"2，其中Drff为有效扩散系数， D为分子扩散系数，t是样品穿过弯道所需的时间。减少由于这种弯道中的样品轴向扩散是现在研究的一个重点。一般来说，有两种 方法来减少这种弯道引起的轴向扩散弯道的几何形状的优化和改变壁面电势的分布和大 小。实际上，很多的几何优化方法已经提出来，并且取得了一定程度的效果。但是， 由于对复杂几何形状的弯道加工比较耗时，并且对加工技术的要求也很高，这些因素在一 定程度上限制了这种方法的应用。另外，通过改变壁面电势大小和分布可以很好地减小弯道中的样品条的轴向扩 散。近年来，特别是随着壁面电势改进技术的快速发展，变壁面电势这种方法成 为一种很有应用前景的技术。对于毛细管电泳中的理论塔板数可以描述为N = L2/O2 =(yTO+yeP)v/2D = Nmax，其中、。和“㈤分别为电渗淌度和电泳淌度，v为管道两端 的电压差值。另外，样品分离过程中，假如两个样品条要很好地分辨出来，有如下的要求玩躺,A y是两种物质力、_勺淌度;t胃，而yavg是它们s勺淌度w算术平均值。从上述表达式可以看出，对于两种淌度相近的物质，它们若想很好地被分辨，就要求 理论塔板数N要比较大才行，进而通过N与外加电压的关系得知，当外加电场比较大时，两 种电泳淌度相近的物质才能比较好地被分辨。一般的芯片电泳的通道两端，所加的电压为几千伏每米，在这样高的电压下，很容 易产生焦耳热，具体的热源可以表达为、化2，其中\为微管道中的电解质溶液的电导率，3E为电场强度，进而它会引起微管道中的流体温度的升高，并且产生径向和轴向的温度梯 度，这些因素都会加速样品的轴向扩散，从而使得检测效果降低，见Knox11。实际的研究 表明，这种样品带宽的增加主要是由于电泳速度的变化引起的，而不是电渗流速度引起。然 而，因为径向温度梯度一般都很小9，因此，这种由于径向温度梯度引起的样品带宽增加可 以忽略，这就说明出口处样品带宽的增加主要是由于整体温度升高而引起的抛物型的速度 形状引起的轴向扩散，因此在芯片电泳中这种速度形状需要进行修正成为塞状。前面提到 的很多研究中，一般都是单独考虑焦耳热或者弯道对样品扩散的影响，而不是综合考虑它 们的整体影响效果，从而给出一种很好的解决方案。
技术实现思路
本专利技术的目的是综合考虑焦耳热及弯道效应对样品扩散的影响，给出一种比较好 的方法来降低电渗流驱动的弯道中样品的轴向扩散。为实现上述目的，本专利技术是通过如下技术方案来实现的提供一种电动微流体芯 片中降低样品带宽的壁面电势优化方法，包括对微流体芯片中内外弯道的壁面电势的优化 和对微流体芯片中出口处平直管道的壁面电势的优化，其特征在于通过改变壁面电势的分 布和大小对微流体芯片管道中的速度剖面进行调整，降低由焦耳热和弯道引起的轴向扩散。优选的是，对于微流体芯片中内外弯道壁面电势的优化，电势分布满足 。/。二/;2/ 2，其中q和％分别为电渗流在内弯道和外弯道处的壁面电势；巧和A分 别为内弯道和外弯道的半径。优选的是，对于微流体芯片中出口处平直管道的壁面电势的改进，电势分布为\丨 GT，其中(为当地的壁面电势；GT为用于描述温度增加导致的流体粘性和电导率的变化对 电渗流速度的综合影响效果的函数。优选的是，微管道中流体温度介于300K 400K时，GT 1.0+0.0164AT，其中AT为流体温度的增值。与现有技术相比，本专利技术的优点在于(1)综合考虑了焦耳热及弯道效应对样品 扩散的影响，能有效降低电渗流驱动的弯道中样品的轴向扩散；(2)对于具有各种弯转角 度的弯道都适合，无需加工复杂几何形状的弯道从而降低加工技术的要求。附图说明为了使本专利技术便于理解，现在结合附图描述本专利技术的具体实施例。图1为微流体芯片中弯道的几何形状示意图；图2为函数f (T)在变量绝对温度T介于300K 400K间的曲线图；图3为壁面电势没有经过优化时样品条流经微管道后形状的数值模拟示意图；图4为壁面电势经优化过后样品条流经微管道后形状的数值模拟示意图。具体实施例方式下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。微流体芯片中的弯道的几何形状如错误！未找到引用源。所示，其中W为微管道的宽度，r为弯道的内径，1为弯道的平直部分的长度。由于所考虑的问题是不可压缩稳态 流动，因此相关的控制方程可以描述如下(1)壁面电势的控制方程根据静电学理论，由壁面电势和电荷密度的关系式可以得到壁面电势的控制方程 如下 其中，其中，％为单位体积电解溶液内的离子数目；0为电解液中某种离子的 化合价；e为基本电荷(1.602e-19C) ； e (T)为与温度相关的电解液的介电常数，对应于 我们要研究的溶液，它的具体表达式为￡ (T) = 305. 7exp(-T/219) ； ^为真空介电常数 (8. 85e-12C/Vm) ；kb 为 Boltzmann 常数(1. 38e_23J/K) ；T 为溶液的绝对温度(K)。电解液当地的静电荷密度P e(C/m3)与壁面电势的关系可以表达如下p e = -2 o en0sinh ( o e ￥/kbT)(2)修正后的 Navier-Stokes 方程组因为研究的是稳态不可压缩流体，并且微管道的特征尺度非常小，因此这种流动 的雷诺数也非常低，流动一般处于层流状态。另外，为了考虑流体的热物理属性和电场力， 描述这种流动的连续性方程和动量方程可以改进如下r ndu dv n p 其中，E为电场强度，可以描述为五= -V P，此处的￥表示流体节点上的电压，它 一般由外加在微管道进、出口处的电压差，以及微管道壁面上自然形成的电压决定。另外， 由于管道壁面上的电压值相对外加的电压很小，所以一般认为电场强度由外加电压来决定 流体中的电场强度。U，V，w分别为流体在X，y和Z三个方向的速度；p为电解液的密度 (kg m_3) ； u⑴本文档来自技高网...

【技术保护点】
电动微流体芯片中降低样品带宽的壁面电势优化方法，包括对微流体芯片中内外弯道的壁面电势的优化和对微流体芯片中出口处平直管道的壁面电势的优化，其特征在于通过改变壁面电势的分布和大小对微流体芯片管道中的速度剖面进行调整，降低由焦耳热和弯道引起的轴向扩散。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张凯，林建忠，于明州，
申请(专利权)人：中国计量学院，
类型：发明
国别省市：86[中国|杭州]