一种基板高度调节机构制造技术

本技术公开了一种基板高度调节机构，包括旋转台面，支撑限位部配置在旋转台面上；顶升部配置在支撑限位部的下方，用于通过驱动支撑限位部后将基板顶升的同时露出基板的任意侧面；保护板配置在旋转台面的上，保护板内上开有限位槽；其中，当所述顶升部不顶升时，基板在支撑限位部的支撑下露出上表面，基板的侧面设于限位槽内；当顶升部顶升时，基板在支撑限位部的支撑下露出基板的任意侧面，基板的侧面高于限位槽；本技术通过支撑限位部和顶升部将基板分为初始状态和顶升状态，分别用于基板的正反面清洗和侧面清洗，从而在保护板的设置下，将基板的正反面和侧面进行分别清洗，清洗效率高，同时还不必对基板进行重复搬运，清洗效果高。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于基板的清洗，尤其涉及一种基板高度调节机构。

技术介绍

1、在半导体产业中，半导体基板在储存、转载和卸载的过程中以及半导体器件的整个制造工艺中，都会在基板上留下污染物，因此，需采用清洗工艺来去除基板表面的污染物，随着半导体器件的集成度越来越高，对基板表面的清洁度要求也越来越严格。

2、现有基板在生产加工出来后，发现在其正反面均会有颗粒的残留，并且不单单是在正反面，同时在其侧面也会有颗粒存在，所以需要对基板进行有效的清洗，才能确保基板的正反面以及侧面没有残留物，使基板的清洁度符合需求。

3、所以需要对基板的正反面和四侧面均进行清洗，而目前为了确保在对基板的正反面清洗时，不会由于过压造成对基板的损坏，所以大多设置了一个保护板对基板进行保护，这样就导致在对基板进行正反面清洗时，无法对侧面进行清洗，并且正反面和侧面同时清洗也可能产生交叉污染，所以需要设计一种能在不搬运基板的情况下将基板处于不同的高度的机构，用于适配对基板进行正反面和侧面的清洗。

技术实现思路

1、本技术目的是为了克服现有技术的不足而提供一种基板高度调节机构，能在不搬运基板的情况下，将基板调整后处于不同高度，用于适配后续的正反面清洗和端面清洗，提升清洗效率和效果。

2、为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种基板高度调节机构，包括：

3、旋转台面；

4、支撑限位部，配置在所述旋转台面上，用于对基板进行支撑和四边限位；

5、顶升部，配置在所述支撑限位部的下方，用于通过驱动所述支撑限位部后将基板顶升的同时露出基板的任意侧面；

6、保护板，配置在所述旋转台面的上，所述保护板内上开有用于容纳基板和所述支撑限位部的限位槽；

7、其中，当所述顶升部不顶升时，基板在所述支撑限位部的支撑下露出上表面，基板的侧面设于限位槽内；当所述顶升部顶升时，基板在所述支撑限位部的支撑下露出基板的任意侧面，基板的侧面高于限位槽。

8、进一步的，支撑限位部包括用于支撑基板下表面的四个支撑pin以及沿着基板四侧分布的多个定位pin，用于对基板的四边进行限位；

9、其中，所述支撑pin和所述定位pin通过导向轴套均可上下滑动的设置在所述旋转台面内，所述支撑pin和定位pin的上端周向往外均有延伸边与所述旋转台面的上表面抵触；所述支撑pin和定位pin上还套设有弹性部件，所述弹性部件的上端与所述导向轴套的底部相连。

10、进一步的，所述顶升部包括顶升气缸；所述顶升气缸驱动位于所述支撑限位部下方的托板往上移动，且，所述支撑pin和定位pin的底部与所述托板接触；所述托板上开有与基板上任意一侧的定位pin上下对应的通孔。

11、由于上述技术方案的运用，本技术与现有技术相比具有下列优点：

12、本技术方案的基板高度调节机构，通过支撑限位部和顶升部的配合，可以自动将基板分为初始状态和顶升状态，初始状态用于基板的正反面清洗，顶升状态用于基板的侧面清洗，这样就可以在保护板的设置下，对基板的正反面和侧面进行分别清洗，清洗效率高，同时还不必对基板进行重复搬运，进一步提升清洗效果。

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【技术保护点】

1.一种基板高度调节机构，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的基板高度调节机构，其特征在于：所述支撑限位部包括用于支撑基板下表面的四个支撑pin以及沿着基板四侧分布的多个定位pin，用于对基板的四边进行限位；

3.如权利要求2所述的基板高度调节机构，其特征在于：所述顶升部包括顶升气缸；所述顶升气缸驱动位于所述支撑限位部下方的

【技术特征摘要】

1.一种基板高度调节机构，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的基板高度调节机构，其特征在于：所述支撑限位部包括用于支撑基板下表面的四个支撑pin以及沿着基板四侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：余涛，徐东波，庞金元，
申请(专利权)人：若名芯装备苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：