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图像传感器制造技术

技术编号:40312964 阅读:12 留言:0更新日期:2024-02-07 20:55
一种图像传感器包括:第一衬底层;比第一衬底层更厚的第二衬底层;衬底间绝缘层,其布置在第一衬底层与第二衬底层之间;第一杂质区、成对的第二杂质区、以及第三杂质区,它们彼此间隔开并且布置在第一衬底层的一些部分上。图像传感器还包括:光电二极管区,其构成布置在第二衬底层上的光感测装置;传输晶体管,其包括第一栅电极层,第一栅电极层填充栅极孔、穿过第一衬底层和衬底间绝缘层、并且延伸至第二衬底层;以及浮动扩散区,其布置在第一衬底层的一侧上并且连接至传输晶体管。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术构思的实施例涉及一种包括传输栅极和浮动扩散区的图像传感器


技术介绍

1、图像传感器可包括按照二维阵列布置的多个单位像素。通常,单位像素可包括诸如光电二极管的光感测元件和多个像素晶体管。在这种情况下,多个像素晶体管可包括例如传输晶体管、复位晶体管、源极跟随器晶体管和选择晶体管,并且传输晶体管可将光电二极管连接至浮动扩散区。


技术实现思路

1、本专利技术构思的实施例提供了一种可具有增强的光感测能力的图像传感器。

2、根据实施例,一种图像传感器包括:第一衬底层;比第一衬底层更厚的第二衬底层;衬底间绝缘层,其布置在第一衬底层与第二衬底层之间;第一杂质区、成对的第二杂质区、以及第三杂质区,它们彼此间隔开并且布置在第一衬底层的一些部分上;光电二极管区,其构成布置在第二衬底层上的光感测装置;传输晶体管,其包括第一栅电极层,第一栅电极层是竖直栅极,并且填充栅极孔、穿过第一衬底层和衬底间绝缘层、并且延伸至第二衬底层;以及浮动扩散区,其布置在第一衬底层的一侧上并且连接至传输晶体管。

3、根据实施例,一种图像传感器包括:第一衬底层,其包括第一导电类型的杂质;第二衬底层,其包括第一导电类型的杂质;衬底间绝缘层,其布置在第一衬底层与第二衬底层之间;第一杂质区、成对的第二杂质区、以及第三杂质区,它们布置在第一衬底层的一些部分上、彼此间隔开、并且分别包括与第一导电类型不同的第二导电类型的杂质。图像传感器还包括:光电二极管区,其布置在第二衬底层中并且包括第二导电类型的杂质;传输晶体管,其包括第一栅电极层,第一栅电极层是竖直栅极、穿过第一衬底层和衬底间绝缘层并且朝着光电二极管区延伸;源极跟随器晶体管,其包括第二栅电极层,第二栅电极层布置在第一衬底层的在成对的第二杂质区之间的部分上;以及复位晶体管,其包括第三栅电极层,第三栅电极层布置在第一衬底层的在第一杂质区与第三杂质区之间的部分上。第一杂质区包括连接至传输晶体管的浮动扩散区和复位晶体管的源极区。

4、一种图像传感器包括:第一衬底层,其包括第一导电类型的杂质;第二衬底层,其包括第一导电类型的杂质;衬底间绝缘层,其布置在第一衬底层与第二衬底层之间;第一杂质区、成对的第二杂质区、以及第三杂质区,它们布置在第一衬底层的一些部分上、彼此间隔开、并且分别包括与第一导电类型不同的第二导电类型的杂质。图像传感器还包括:光电二极管区,其布置在第二衬底层中,并且包括第二导电类型的杂质;沟道层,其包括第一导电类型的杂质、穿过第一衬底层和衬底间绝缘层、覆盖延伸至第二衬底层的沟道孔的侧壁、以及限定栅极孔的大小。图像传感器还包括:传输晶体管,其包括第一栅极绝缘层以及第一栅电极层,第一栅极绝缘层覆盖栅极孔的底表面和侧壁,第一栅电极层是竖直栅极、并且覆盖第一栅极绝缘层并填充沟道孔。图像传感器还包括:多个源极跟随器晶体管,其包括布置在其间的第二栅极绝缘层,以及布置在第一衬底层的在成对的第二杂质区之间的部分上的第二栅电极层;以及多个复位晶体管,其包括布置在其间的第三栅极绝缘层,并且包括布置在第一衬底层的在第一杂质区与第三杂质区之间的部分上的第三栅电极层。第二栅电极层从第一衬底层的在成对的第二杂质区之间的部分延伸至沟道层和第一杂质区上,并且接触沟道层和第一杂质区。

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【技术保护点】

1.一种图像传感器,包括:

2.根据权利要求1所述的图像传感器,还包括:

3.根据权利要求2所述的图像传感器,其中,所述第一杂质区的至少一部分包括所述浮动扩散区并且接触所述沟道层,使得所述第一杂质区的所述至少一部分连接至所述传输晶体管。

4.根据权利要求3所述的图像传感器,其中,所述第一杂质区的厚度实质上等于所述第一衬底层的厚度。

5.根据权利要求3所述的图像传感器,还包括:

6.根据权利要求2所述的图像传感器,其中,所述沟道孔是多个沟道孔之一,

7.根据权利要求2所述的图像传感器,其中,所述沟道孔还包括:

8.根据权利要求2所述的图像传感器,还包括:

9.根据权利要求8所述的图像传感器,其中,所述第二栅电极层还从所述沟道层延伸至所述第一衬底层的在所述成对的第二杂质区之间的部分上。

10.根据权利要求9所述的图像传感器,还包括:

11.一种图像传感器,包括:

12.根据权利要求11所述的图像传感器,其中,所述第一杂质区的上表面与所述第一衬底层的上表面实质上共面,并且

13.根据权利要求12所述的图像传感器,其中,所述第一杂质区、所述成对的第二杂质区、以及所述第三杂质区中的每一个的厚度实质上等于所述第一衬底层的厚度。

14.根据权利要求11所述的图像传感器,还包括:

15.根据权利要求14所述的图像传感器,还包括:

16.根据权利要求15所述的图像传感器,其中,所述第一栅极绝缘层延伸至所述沟道孔中的所述沟道层的与所述衬底间绝缘层相对的表面上。

17.根据权利要求11所述的图像传感器,还包括:

18.一种图像传感器,包括:

19.根据权利要求18所述的图像传感器,其中,所述第二衬底层的厚度大于所述第一衬底层的厚度,并且

20.根据权利要求18所述的图像传感器,还包括:

...

【技术特征摘要】

1.一种图像传感器,包括:

2.根据权利要求1所述的图像传感器,还包括:

3.根据权利要求2所述的图像传感器,其中,所述第一杂质区的至少一部分包括所述浮动扩散区并且接触所述沟道层,使得所述第一杂质区的所述至少一部分连接至所述传输晶体管。

4.根据权利要求3所述的图像传感器,其中,所述第一杂质区的厚度实质上等于所述第一衬底层的厚度。

5.根据权利要求3所述的图像传感器,还包括:

6.根据权利要求2所述的图像传感器,其中,所述沟道孔是多个沟道孔之一,

7.根据权利要求2所述的图像传感器,其中,所述沟道孔还包括:

8.根据权利要求2所述的图像传感器,还包括:

9.根据权利要求8所述的图像传感器,其中,所述第二栅电极层还从所述沟道层延伸至所述第一衬底层的在所述成对的第二杂质区之间的部分上。

10.根据权利要求9所述的图像传感器,还包括:

【专利技术属性】
技术研发人员:沈殷燮李元奭郑海旭
申请(专利权)人:三星电子株式会社
类型:发明
国别省市:

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