本发明专利技术提供一种不采用贵金属银、成本低的具有防电磁辐射及滤光功能的显示器滤光片。具有防电磁辐射及滤光功能的显示器滤光片，包括透明高分子基片，设置在透明高分子基片上的电磁波屏蔽层、抗反射功能膜层和引出电极，所述电磁波屏蔽层是由ＴｉＯ２／ＡＺＯ或ＩＴＯ或ＧＺＯ／Ｃｕ／ＧＺＯ或ＩＴＯ或ＡＺＯ重复组成的１３层或１７层结构。本发明专利技术采用廉价的金属铜代替目前滤光片中电磁波屏蔽功能层中昂贵的金属银，生产成本低；本发明专利技术的以Ｃｕ为基础膜系的复合镀层不会因膜层数多而降低滤光片总体透光率要求；本发明专利技术的导电透明氧化物ＡＺＯ或ＩＴＯ或ＧＺＯ膜层和ＴｉＯ２膜层在镀膜工艺上容易控制，Ｃｕ膜层两面都是ＡＺＯ或ＩＴＯ或ＧＺＯ膜层，光、电学性质一致。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示器件中的滤光片，特别是涉及等离子体显示器(PDP)中滤光片的 防电磁辐射及滤光功能的滤光片及使用该滤光片的等离子体显示器。
技术介绍
等离子体显示器容易被制成大尺寸的平板显示器，并且适合于高清晰数字电视。 但是PDP工作时，会发射出大量磷光体闪烁、电磁波、近红外线及氖气(Ne)发出的橙黄色 光。为了克服这些缺点，在PDP装置中使用滤光片，滤光片可以屏蔽电磁波和近红外线、防 止闪烁和改善色纯度。目前，在可见光谱内保持高光透射率及低折射率的透明导电膜或导电网被用作电 磁屏蔽层，用于屏蔽所产生的电磁波。导电网制成的电磁屏蔽层表现出优异的电磁屏蔽性 能，其一般是采用光刻蚀法或金属丝网布线方法在膜片上制成金属导电网格形成屏蔽电 磁波功能层，但是光刻蚀法制备导电网工艺要求高，制造成本高，不易机械化连续生产；金 属丝网布线方法要求把各种功能膜层层叠压复合或贴合在一起，贴合工艺和复合工艺要求 高，成本高，成品率低，透光率低。虽然导电网型电磁波屏蔽层的PDP滤光片表现出优异的 电磁波屏蔽效果，但是这种滤光片降低了透明度并会引起图像失真。申请号为200610022680. 2、名称为等离子体显示器滤光片及使用该滤光片的 显示器，公开了采用真空连续磁控溅射的方法在透明树脂基片的一面镀有减反射增透导电 膜系，减反射增透导电膜系是由以银或银合金为导电基础层、在银或银合金导电基础层的 两面对称有低折射率透明金属氧化物膜层Mel、在低折射率透明金属氧化物膜层两面对称 有高折射率透明金属氧化物膜层Meh而形成Meh/Mel/银或银合金/Mel/Meh的5层膜组成， 这5层膜经过3次或4次重叠而形成在透明树脂基片上的13层或17层镀膜层。该申请采 用高、低折射率金属氧化物和银或银合金的有机结合来形成减反增透导电膜系，还采用了 价格昂贵的银为基础的导电膜层，等离子体显示器滤光片成本难以下降。申请号为200610021717.X、名称为等离子体显示器的具有防电磁辐射及滤光 功能的滤光片，公开了采用连续磁控溅射的方法在透明树脂基片的一面镀上有防电磁辐射 及滤光功能的镀膜层，镀膜层是由Ti02/AZ0Y或IT0/Ag/AZ0Y或IT0/Ti02这样的膜系重复 镀层组成的13层或17层膜层结构。该申请以银为主要膜层，其上沉积一层高折射率的TiO2 膜层，在银层和TiO2之间沉积一层透明的金属氧化物膜层，利用这一层金属氧化物自身防 氧化能力来增加对银层的保护；同时利用该层膜是纳米级薄膜，对红外光波有特殊吸收能 力，与银层和TiO2膜层组合后共同提高紫外光、近红外光、远红外光的吸收和阻挡能力。该 申请以银层为基础，在其两边分别对称沉积金属氧化物膜层TiO2的5层结构，由这5层结 构可以巧妙的形成3至4组的重复而形成13层或17层膜结构，最终实现1. 5 Ω / 口以下的 表面电阻及对紫外光、近红外光的滤光功能。这种以银层为主的3层银或4层银结构，电磁屏蔽功能层主要靠多层银来实现，即用多层银来达到电阻小于1.5Ω/ 口，利用金属氧化物自身防氧化能力来增加对银层的保 护。由于银极易氧化或侵蚀，需要金属氧化物层来保护，并且银价格昂贵，在磁控溅射制备 银膜层时，厚度需要达到约12nm以上才能形成连续膜层，否则银只能形成孤岛颗粒状而达 不到低电阻率的要求，这又要消耗更多的贵金属银，使滤光片的成本难以下降。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种不采用贵金属银、成本低的具有防电磁辐 射及滤光功能的显示器滤光片。本专利技术解决技术问题所采用的技术方案是具有防电磁辐射及滤光功能的显示器 滤光片，包括透明高分子基片，设置在透明高分子基片上的电磁波屏蔽层、抗反射功能膜层 和引出电极，所述电磁波屏蔽层是由Ti02/AZ0或ITO或GZ0/Cu/GZ0或ITO或AZO重复组 成的13层或17层结构。进一步的，所述AZO是氧化锌中掺杂部分氧化铝组成的氧化物膜层，ITO是掺锡氧 化铟材料组成的膜层，GZO是氧化锌中掺杂部分氧化镓组成的氧化物膜层。进一步的，所述TiO2厚度为10-250nm，AZO或ITO或GZO厚度为1. 0_50nm，Cu厚 度为 2-20nm。进一步的，所述引出电极是在镀有电磁波屏蔽层的透明高分子基片四周粘贴与电 磁波屏蔽层接触的U形金属箔片或平面金属薄膜。进一步的，所述抗反射功能膜层是由Si02/Nb205或TiO2组成的至少二层结构。进一步的，所述抗反射功能膜层镀在另一个透明高分子基片上，所述透明高分子 基片的非镀膜层一面通过粘结剂与电磁波屏蔽层粘贴。进一步的，所述粘结剂中加入能调节和衰减显示器发出的580-600nm处的黄色特 征光的蓝色颜料和能调节显示器色温及透光率的紫色、红色和黑色颜料的至少一种。进一步的，所述抗反射功能膜层与电磁波屏蔽层分别镀在透明高分子基片的两面 上。进一步的，所述透明高分子基片采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、 聚碳酸酯、三醋酸纤维素、聚醚砜或它们的混合物材料制成。显示器，使用上述滤光片。本专利技术的有益效果是采用廉价的金属铜代替目前滤光片中电磁波屏蔽功能层中 昂贵的金属银，采用可大面积连续镀膜的磁控溅射设备，进一步降低显示器滤光片的生产 制造成本，本专利技术的滤光片生产效率高，强度高，可见光区透过率高，防电磁辐射和紫外、近 红外滤光效果佳，使用寿命长的具有防电磁辐射及一定滤光功能的滤光片；本专利技术的以Cu 为基础膜系的复合镀层不会因膜层数多而降低滤光片总体透光率要求，AZO或ITO或GZO透 明金属氧化物对镀膜层表面电阻< 1. 5 Ω / 口有贡献，当AZO或ITO或GZO透明金属氧化物 与Cu镀层结合时能阻挡红外光波，当AZO或ITO或GZO透明金属氧化物与TiO2结合时不 但能吸收紫外线、阻挡红外光波，还能对可见光增透，且生产效率高，镀膜工艺容易控制、方 便，生产成本低；本专利技术的导电透明氧化物AZO或ITO或GZO膜层和TiO2膜层在镀膜工艺 上容易控制，所以本专利技术不仅工艺容易控制、成品率高，光学指标也稳定，透光率好；Cu膜 层两面都是AZO或ITO或GZO膜层，光、电学性质一致，两面都可以和AR塑料膜层或PDP显示器面板粘贴或组装，而减少膜层复合粘贴时分清镀膜层面的麻烦。 附图说明图1为本专利技术实施例1的滤光片的结构示意图。图2为本专利技术实施例1中的电磁波屏蔽层的三铜膜系的结构示意图。图3为本专利技术实施例1中的抗反射膜的结构示意图。图4为本专利技术实施例2的滤光片的结构示意图。图5为本专利技术实施例3的滤光片的结构示意图。图6为本专利技术实施例4的滤光片的结构示意图。具体实施例方式实施例1 如图1所示，透明高分子基片1采用250um厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)塑 料基片，经去离子水清洗、氮气吹干后，进入连续的磁控溅射镀膜生产线采用连续磁控溅射 的方法在透明高分子基片1上镀上三铜膜系，如图2所示，即由Ti02/AZ0或ITO或GZO/ Cu/AZO或ITO或GZO重复结构组成的13层防电磁辐射和滤光功能的电磁波屏蔽层2，其中 TiO2, GZO采用射频磁控溅射的方法制备，而Cu和ΑΖ0/ΙΤ0采用平面直流磁控溅射法制备。 AZO是氧化锌和氧化铝混合组成的氧化物膜层，其中Al2O3占混合氧化本文档来自技高网...
【技术保护点】
具有防电磁辐射及滤光功能的显示器滤光片，包括透明高分子基片（１），设置在透明高分子基片（１）上的电磁波屏蔽层（２）、抗反射功能膜层（４）和引出电极（３），其特征在于：所述电磁波屏蔽层（２）是由ＴｉＯ↓［２］／ＡＺＯ或ＩＴＯ或ＧＺＯ／Ｃｕ／ＧＺＯ或ＩＴＯ或ＡＺＯ重复组成的１３层或１７层结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：潘晓勇，彭德权，李斌，
申请(专利权)人：四川长虹电器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：51[中国|四川]
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