【技术实现步骤摘要】
本技术涉及操作台，具体是一种磁控离子溅射仪操作台。
技术介绍
1、磁控离子溅射仪是应用于各种金属薄膜的溅射蒸镀仪器，在惰性气体或者活性气体中在阳极和阴极蒸发材料间加上几百伏的直流电压，使之产生辉光放电，放电中的离子碰撞到阴极的蒸发材料靶上，靶材的原子就会由其表面蒸发出来，蒸发原子被惰性气体冷却而凝结或与活性气体反应而形成纳米颗粒。
2、目前，体型较大的磁控离子溅射仪一般以柜体为操作台，进而实现其整体式设置，并在柜体的底部安装带有刹车垫的万向轮实现其便捷性移动及稳定停放，但其柜体多为固定式结构，进而其在实际使用的过程中无法根据使用人员的身高需求进行升降式调整，从而降低产品使用的舒适性，增加了工作人员的工作负担，不利于工作人员的身体健康。
3、因此，本领域技术人员提供了一种磁控离子溅射仪操作台，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
1、为了克服现有技术的上述缺陷，本技术的实施例提供一种磁控离子溅射仪操作台，通过在柜体的内部增设升降机构，进而使得装载于其上的设备主体能够在使用的过程中根据实际需求进行高度调整，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
3、一种磁控离子溅射仪操作台，包括柜体，及设置于其上的设备主体，其中，柜体由主柜与副柜所构成，所述主柜的内部设置有用于放置工具的置物件与用于升降调整的升降机构，其中，升降机构由调节组件与驱动组件所构成；
4、所述调节组件包括有两组，分别
5、所述驱动组件包括双向丝杆，双向丝杆上安装有从动齿轮，从动齿轮的侧边设有电机，电机的输出端安装有主动齿轮，主动齿轮与从动齿轮之间啮合传动，所述从动齿轮的前后分别套设有位于双向丝杆上的连板。
6、作为本技术再进一步的方案，所述设备主体设置于副柜上，且副柜位于主柜的上方。
7、作为本技术再进一步的方案，每组所述的滑轨与竖杆均包括有两个，其中，多个所述的滑轨分别设置于主柜的相应内壁上，多个所述的竖杆顶端均穿过主柜的顶部壳壁，并固定连接于副柜上。
8、作为本技术再进一步的方案，所述折叠件由两个支撑杆所构成，两个所述的支撑杆之间通过活动轴进行连接，所述支撑杆的顶端通过定位销连接有支座，支座的顶部滑动连接于相应所述的滑板上，且支撑杆的底端开设有凹槽。
9、作为本技术再进一步的方案，所述凹槽中通过销轴连接有滑轮，滑轮与主柜的底部内壁之间滚动接触。
10、作为本技术再进一步的方案，所述双向丝杆的两端均通过轴承连接有竖板，竖板的底部固定连接于主柜的底部内壁上，多个所述连板的两端分别通过旋转轴连接于相应所述的支撑杆上。
11、作为本技术再进一步的方案，所述主柜的顶部内壁上固定连接有多个滑槽板，所述置物件与滑槽板之间滑动连接，并通过螺钉进行固定。
12、与现有技术相比，本技术的有益效果是：
13、通过在柜体的内部增设升降机构，进而使得装载于其上的设备主体能够在使用的过程中根据实际需求进行高度调整，使得其具有较高的舒适性，减轻工作人员的负担，保障其身体健康，且升降机构的设置，使其能够适用于不同身高的工作人员，进一步提高其实用性效果。
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1.一种磁控离子溅射仪操作台，包括柜体(1)，及设置于其上的设备主体(2)，其中，柜体(1)由主柜(11)与副柜(12)所构成，其特征在于：所述主柜(11)的内部设置有用于放置工具的置物件(3)与用于升降调整的升降机构(4)，其中，升降机构(4)由调节组件(41)与驱动组件(42)所构成；
2.根据权利要求1所述的一种磁控离子溅射仪操作台，其特征在于，所述设备主体(2)设置于副柜(12)上，且副柜(12)位于主柜(11)的上方。
3.根据权利要求1所述的一种磁控离子溅射仪操作台，其特征在于，每组所述的滑轨(411)与竖杆(413)均包括有两个，其中，多个所述的滑轨(411)分别设置于主柜(11)的相应内壁上，多个所述的竖杆(413)顶端均穿过主柜(11)的顶部壳壁，并固定连接于副柜(12)上。
4.根据权利要求1所述的一种磁控离子溅射仪操作台，其特征在于，所述折叠件(414)由两个支撑杆所构成，两个所述的支撑杆之间通过活动轴进行连接，所述支撑杆的顶端通过定位销连接有支座，支座的顶部滑动连接于相应所述的滑板(412)上，且支撑杆的底端开设有凹槽。
5.根据权利要求4所述的一种磁控离子溅射仪操作台，其特征在于，所述凹槽中通过销轴连接有滑轮，滑轮与主柜(11)的底部内壁之间滚动接触。
6.根据权利要求4所述的一种磁控离子溅射仪操作台，其特征在于，所述双向丝杆(421)的两端均通过轴承连接有竖板，竖板的底部固定连接于主柜(11)的底部内壁上，多个所述连板(425)的两端分别通过旋转轴连接于相应所述的支撑杆上。
7.根据权利要求1所述的一种磁控离子溅射仪操作台，其特征在于，所述主柜(11)的顶部内壁上固定连接有多个滑槽板，所述置物件(3)与滑槽板之间滑动连接，并通过螺钉进行固定。
...【技术特征摘要】
1.一种磁控离子溅射仪操作台，包括柜体(1)，及设置于其上的设备主体(2)，其中，柜体(1)由主柜(11)与副柜(12)所构成，其特征在于：所述主柜(11)的内部设置有用于放置工具的置物件(3)与用于升降调整的升降机构(4)，其中，升降机构(4)由调节组件(41)与驱动组件(42)所构成；
2.根据权利要求1所述的一种磁控离子溅射仪操作台，其特征在于，所述设备主体(2)设置于副柜(12)上，且副柜(12)位于主柜(11)的上方。
3.根据权利要求1所述的一种磁控离子溅射仪操作台，其特征在于，每组所述的滑轨(411)与竖杆(413)均包括有两个，其中，多个所述的滑轨(411)分别设置于主柜(11)的相应内壁上，多个所述的竖杆(413)顶端均穿过主柜(11)的顶部壳壁，并固定连接于副柜(12)上。
4.根据权利要求1所述的一种磁控离子溅射仪操...
【专利技术属性】
技术研发人员：那滨，
申请(专利权)人：哈尔滨笃远科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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